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陈志运

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇国内会议论文

领域

  • 2篇一般工业技术

主题

  • 1篇热致相分离
  • 1篇热致相分离法
  • 1篇相分离法
  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性能
  • 1篇MOCVD
  • 1篇常压
  • 1篇衬底
  • 1篇衬底温度

机构

  • 2篇电子科技大学

作者

  • 2篇陈志运
  • 2篇胡文成
  • 1篇尚承伟
  • 1篇侯高垒
  • 1篇刘孝波
  • 1篇董东
  • 1篇符容

传媒

  • 2篇四川省电子学...

年份

  • 2篇2007
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
常压MOCVD制备硫化镉薄膜的研究
采用常压单源MOCVD法在玻璃基片上制备了CdS薄膜，并利用XRD、紫外-可见光谱及SEM对薄膜进行了结构及光学性能的分析。主要讨论了衬底温度及退火对薄膜结构、透光性能和光学带隙的影响。不同衬底温度退火后得到的CdS薄膜...
董东刘孝波陈志运尚承伟胡文成
关键词：光学性能衬底温度
文献传递
聚合物多孔薄膜的研究现状
本文概述了聚合物多孔薄膜的研究现状和进展，综述了目前常用的聚合物多孔薄膜的几种制备工艺：相分离法，热致相分离法，交替沉积技术和水辅助法，探讨了聚合物多孔薄膜的制备中遇到的难题及其潜在的应用前景。
侯高垒符容陈志运胡文成
关键词：相分离法热致相分离法
文献传递
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