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陈志运
作品数:
2
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供职机构:
电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室
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相关领域:
一般工业技术
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合作作者
胡文成
电子科技大学微电子与固体电子学...
符容
电子科技大学光电信息学院电子薄...
董东
电子科技大学微电子与固体电子学...
刘孝波
电子科技大学微电子与固体电子学...
侯高垒
电子科技大学光电信息学院电子薄...
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1篇
常压
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衬底
1篇
衬底温度
机构
2篇
电子科技大学
作者
2篇
陈志运
2篇
胡文成
1篇
尚承伟
1篇
侯高垒
1篇
刘孝波
1篇
董东
1篇
符容
传媒
2篇
四川省电子学...
年份
2篇
2007
共
2
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常压MOCVD制备硫化镉薄膜的研究
采用常压单源MOCVD法在玻璃基片上制备了CdS薄膜,并利用XRD、紫外-可见光谱及SEM对薄膜进行了结构及光学性能的分析。主要讨论了衬底温度及退火对薄膜结构、透光性能和光学带隙的影响。不同衬底温度退火后得到的CdS薄膜...
董东
刘孝波
陈志运
尚承伟
胡文成
关键词:
光学性能
衬底温度
文献传递
聚合物多孔薄膜的研究现状
本文概述了聚合物多孔薄膜的研究现状和进展,综述了目前常用的聚合物多孔薄膜的几种制备工艺:相分离法,热致相分离法,交替沉积技术和水辅助法,探讨了聚合物多孔薄膜的制备中遇到的难题及其潜在的应用前景。
侯高垒
符容
陈志运
胡文成
关键词:
相分离法
热致相分离法
文献传递
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