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郎文昌
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172
被引量:48
H指数:5
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温州职业技术学院
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国家自然科学基金
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金属学及工艺
一般工业技术
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合作作者
王向红
温州职业技术学院
肖金泉
湖南远科航表面工程有限公司长沙...
高斌
温州职业技术学院
赵彦辉
中国科学院金属研究所
宫骏
中国科学院金属研究所
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一种用于ta-C膜沉积的磁控溅射生成碳离子的方法及ta-C膜沉积方法
本发明属于真空镀膜技术领域,具体涉及一种用于ta‑C膜沉积的磁控溅射生成碳离子的方法及ta‑C膜沉积方法。本发明通过在磁控溅射产生碳离子的组件中采用两个相对设置的第一靶材,当等离子体中的粒子轰击第一靶材,形成的碳离子和碳...
郎文昌
杜昊
郑仕科
黄志宏
纪忠宝
陈智杰
胡晓忠
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一种基于多个回转滚筒的真空镀膜装置
一种基于多个回转滚筒的真空镀膜装置,其包括真空腔体、回转滚筒、工艺组件、叶片式拨料装置及转动组件。采用回转滚筒上网孔设计,能够更好的提高物料的沉积速率和沉积均匀性,多筒式加工单炉零件的加工数量也大有提升,多个工艺组件沿真...
郎文昌
朱豪威
刘伟
文献传递
一种离子镀枪靶材底座盘
本实用新型涉及表面防护涂层制备领域,具体地说是一种用于离子镀枪装置的靶材底座盘。靶材底柱绝缘套的外侧设置离子镀枪底盘绝缘盘、离子镀枪底盘、离子镀枪底盘紧固板,离子镀枪底盘的一侧设置离子镀枪底盘紧固板,离子镀枪底盘紧固板通...
郎文昌
文献传递
基于阳极技术的DLC镀膜方法
本发明公开了一种基于阳极技术的DLC镀膜方法,采用DLC镀膜装置进行镀膜,至少包括:步骤1,在惰性气氛下,以磁控靶为阳极、电弧靶为阴极进行电弧放电,产生等离子体;以基材为阴极、磁控靶为阳极对基材施加偏压,对基材进行等离子...
黄志宏
王向红
郎文昌
高斌
文献传递
多模式可编程调制的旋转横向磁场控制的电弧离子镀装置
本发明涉及薄膜制备领域,具体地说是一种利用旋转磁场控制弧斑运动的多模式可编程调制的旋转横向磁场控制的电弧离子镀装置。该电弧离子镀装置设有靶材、旋转磁场装置、电磁线圈、绝缘套、法兰、真空室、基体夹座,真空室内设置基体夹座、...
肖金泉
郎文昌
孙超
宫骏
赵彦辉
闻立时
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并行周向连续式类金刚石薄膜涂覆设备
本实用新型涉及一种并行周向连续式类金刚石薄膜涂覆设备,其包括类金刚石薄膜工艺腔体、回转腔体、进料系统、真空系统、物料车,类金刚石薄膜工艺腔体内设置有三组工艺组件密封板、周向分布的四组储料腔、回转装置、物料引导装置,物料传...
郎文昌
刘伟
胡晓忠
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一种陶瓷包裹式弧头装置
本实用新型属于电弧离子镀技术领域,具体涉及一种陶瓷包裹式弧头装置,包括阴极、屏蔽组件、安装板,阴极固定在安装板上;阴极远离安装板的一端端面固定有靶材;屏蔽组件包括与阴极端面固定连接的连接垫板,连接垫板内、外侧分别设有靶屏...
朱豪威
郎文昌
赵嘉豪
钟一骅
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一种通过调制强流脉冲电弧制备氧化铝涂层的方法
本发明属于表面涂层制备技术,具体涉及一种通过调制强流脉冲电弧制备氧化铝涂层的方法,包括以下步骤:功能层的形成,功能层为沉积氧化铝形成的单层或沉积氮氧化铝形成的单层或氮化物与氧化铝交替沉积的多层复合涂层;氧化铝或氮氧化铝为...
郎文昌
一种利用电弧离子镀沉积高质量薄膜的装置
本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种利用电弧离子镀沉积高质量薄膜的装置,解决由于电弧离子镀中大颗粒的存在,严重影响了涂层和薄膜的性能和寿命等问题。本实用新型双层带孔挡板放置于电弧离子镀沉积装置的靶材与基体之间,与靶...
肖金泉
郎文昌
孙超
宫骏
杜昊
赵彦辉
闻立时
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一种多功能高耐磨的智能金属板材修边机
本发明涉及多功能高耐磨的智能金属板材修边机,其包括机架总成、设置在机架总成上的经表面离子镀涂层强化的高耐磨加工装置以及外罩在加工装置上的透明防护罩体;加工装置包括高耐磨修边中心、上料装置、下料装置以及智能化机械手装置;透...
郎文昌
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