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赵天明

作品数:9 被引量:7H指数:2
供职机构:中国工程物理研究院更多>>
相关领域:理学核科学技术电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇会议论文
  • 3篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 3篇理学
  • 2篇电子电信
  • 2篇核科学技术
  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇粗糙度
  • 3篇面粗糙度
  • 3篇表面粗糙度
  • 2篇激光
  • 2篇激光靶
  • 2篇U薄膜
  • 2篇AL
  • 2篇测量方法
  • 1篇单层膜
  • 1篇亚微米级
  • 1篇应力
  • 1篇竖直
  • 1篇曲面
  • 1篇位错
  • 1篇位错组态
  • 1篇位移传感器
  • 1篇显微硬度
  • 1篇连接技术
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇脉冲激光沉积

机构

  • 9篇中国工程物理...
  • 1篇表面物理与化...

作者

  • 9篇赵天明
  • 6篇吕学超
  • 4篇赖新春
  • 4篇任大鹏
  • 4篇张厚亮
  • 2篇李嵘
  • 2篇李建军
  • 2篇唐胜江
  • 1篇肖红
  • 1篇陆雷
  • 1篇李瑞文
  • 1篇姜桂芬
  • 1篇张永彬
  • 1篇林波
  • 1篇王勤国
  • 1篇王震宏
  • 1篇郎定木
  • 1篇周萍
  • 1篇李宗亮
  • 1篇郭亮

传媒

  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇计量学报
  • 1篇原子能科学技...
  • 1篇第九届中国核...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2021
  • 1篇2019
  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2012
  • 1篇2010
  • 2篇2007
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
超高真空脉冲激光沉积Au、U单层膜及Au/U/Au复合膜研究
2012年
采用超高真空脉冲激光沉积(PLD)方法,在单晶Si基底表面制备了单层Au、单层U薄膜和Au/U/Au复合薄膜,应用SEM、白光干涉轮廓分析和AES分析,研究了靶基距、基片温度和激光能量对薄膜形貌、成分的影响。目前的实验结果显示,PLD所制备的Au、U薄膜表面有μm级以下粒径的液滴产生,在液滴较少位置,薄膜表面粗糙度Ra小于1nm,在包含大液滴位置,Ra不超过15nm。在相同沉积条件下,U薄膜表面液滴数量大于Au薄膜。优化单层薄膜沉积工艺后制备的Au/U/Au复合膜厚度约为195nm,均方根粗糙度Rq在0.3~1.5nm之间。AES分析显示,Au/U/Au复合膜中强化学活性的铀呈金属状态,复合膜中的氧含量低于5%(原子百分数),表层Au薄膜对U薄膜起到了良好的防氧化作用。在沉积工艺中,通过减小激光功率、增大靶基距并适当升高基片温度,可减少液滴的数量及粒径。
周萍吕学超张永彬赖新春郎定木陆雷肖红赵天明
关键词:脉冲激光沉积
激光微靶用U薄膜的应力去除研究
在U-A1阻抗匹配靶的制备过程中,由于采用机械磨抛法制备十几微米金属U薄膜,一定程度上造成了薄膜表面应力积累,使得薄膜易弯曲变形,给后续的厚度测量和组装带来较大困难。机械磨抛制备微米量级厚度金属U薄膜成品率低,工艺过程可...
任大鹏张厚亮李瑞文吕学超王勤国赵天明
关键词:激光靶U薄膜显微硬度位错组态
基于光谱共焦的在线集成表面粗糙度测量方法被引量:4
2021年
为了提高加工检测效率,实现尺寸形位公差与微观轮廓的同平台测量,提出一种基于光谱共焦位移传感器在现场坐标测量平台上集成表面粗糙度测量的方法。搭建实验测量系统且在LabVIEW平台上开发系统的硬件通讯控制模块,并配套了高斯轮廓滤波处理及表面粗糙度的评价环境,建立了非接触的表面粗糙度测量能力。对标准台阶、表面粗糙度标准样块和曲面轮廓样品进行了测量,实验结果表明:该测量系统具有较高的测量精度和重复性,粗糙度参数R a的测量重复性为0.0026μm,在优化零件检测流程和提高整体检测效率等方面具有一定的应用前景。
周勇李建军赵天明王震宏唐胜江
关键词:计量学表面粗糙度
Al-Al薄膜的超声摩擦焊连接技术
薄膜精密连接的目的是实现同种或异种微米厚材料之间没有不同于母相材料引入的可靠连接,同时要确保连接后组件的表面粗糙度、厚度一致性、连接界面等满足设计的精密性要求。出于它是功能器件如惯性约束聚变(ICF) 微靶等制备的关键技...
吕学超任大鹏赵天明李嵘赖新春
文献传递
一种异型结构零件内曲面表面粗糙度测量装置及测量方法
本发明公开了一种异型结构零件内曲面表面粗糙度测量装置,包括基座、测座、Z向运动机构、X向运动机构、旋转台与位移传感器;所述测座用于放置待测零件;所述Z向运动机构竖直设置于基座上;所述X向运动机构与Z向运动机构垂直连接;所...
周勇赵天明郭亮李建军唐胜江夏贤华
文献传递
非接触测厚仪及其测厚方法
本发明公开了一种非接触测厚仪及其测厚方法,非接触测厚仪包括减震底座和控制单元,减震底座的上端设置有龙门式支撑架,减震底座上固定连接有二维水平运动台,二维水平运动台用于调整待测工件的水平位置,龙门式支撑架上固定连接有竖向运...
刘龙赵天明林波李宗亮史想诚高思煜朱敏卢礼华
Ar+离子束对贫铀表面粗糙度的影响
采用Ar+离子束对贫铀片面进行反应溅射,实验研究Ar+离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度Da的影响,并与Ar+离子束刻蚀试验进行比对.结果表明,低能溅射U薄膜表面时,Ar+离子束以30°角和不同的能量入射到U表面,对...
张厚亮吕学超赖新春赵天明
Al-Me激光靶技术研究
当激光装置能量达到一定水平的时候,可以对材料进行高温高压下物理状态研究。根据靶物理的需求实际,目前急需开展 Me 材料靶科学研究,并在一段时间内制备出一定批量的高质量的激光装置实验用靶,如具有高参数要求的 Me 平面靶和...
任大鹏吕学超赵天明姜桂芬黄文莉张厚亮
文献传递
Ar^+离子束对U薄膜表面粗糙度的影响被引量:3
2010年
采用Ar+离子束对U薄膜表面进行反应溅射,通过白光干涉仪和台阶仪的测量与分析,着重研究Ar+离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度Ra的影响,并与Ar+离子束刻蚀试验进行比对。结果表明,以30°角入射,随溅射时间的增加,能量为0.5keV的Ar+离子束较1.0keV对U薄膜表面粗糙度趋于减小,表面愈光滑,溅射深度仅限于纳米级,而与金属Mo的刻蚀效果相比与之相反。Ar+离子束溅射对材料表面具有超精细抛光的效果,辅之于离子束微米级刻蚀减薄,将有助于U薄膜表面精细加工。
张厚亮吕学超任大鹏李嵘赖新春赵天明
关键词:反应溅射刻蚀U薄膜表面粗糙度
共1页<1>
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