赵印中
- 作品数：53 被引量：112H指数：7
- 供职机构：兰州空间技术物理研究所更多>>
- 发文基金：表面工程技术国家级重点实验室基金国家自然科学基金国防科技重点实验室基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信航空宇航科学技术更多>>
- 锐钛矿型二氧化钛薄膜制备及其光催化性能研究被引量：14
- 2005年
- 在室温下采用直流磁控反应溅射法制备纳米TiO2薄膜,用XRD、XPS等手段对未退火及不同退火温度处理的薄膜进行了研究,以紫外灯为光源对亚甲基兰进行了光催化降解试验。结果表明:室温制备未退火的薄膜为非晶结构,400～500℃退火的薄膜为锐钛矿相结构。制备的锐钛矿型TiO2薄膜具有一定的光催化性能,在500℃退火2h且厚度较大的薄膜光催化性能较好。
- 赵琳邱家稳何延春王洁冰许旻赵印中
- 关键词：磁控溅射TIO2退火光催化
- VO_2薄膜制备及电学性能被引量：9
- 2001年
- 用溶胶 -凝胶法制备VO2 薄膜。通过熔融、涂膜、烘干和热处理等工艺实验 ,在非晶玻璃上得到电阻变化 2～ 3个量级的VO2 薄膜。对烘干温度、熔融温度、膜厚和热处理温度对薄膜电学性能的影响进行了初步研究。通过XRD和XPS对薄膜的特性和价态进行了分析。
- 许旻邱家稳赵印中王洁冰何延春李强勇
- 关键词：电阻特性二氧化钒电学性能溶胶-凝胶法
- SiO_2热控涂层的制备被引量：2
- 2003年
- 用离子束溅射工艺在石英、LY12和卫星蒙皮材料上制备了不同厚度和发射率的SiO2薄膜,研究了厚度对薄膜光学、热学性能的影响规律。用直流磁控溅射工艺制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,研究了厚度对薄膜光学、电学性能的影响规律。利用前两部分研究成果在LY12和卫星蒙皮材料上制备成功了发射率可达0.45、光谱反射率大于0.7、同时电性能满足空间抗静电要求的复合热控薄膜。
- 王洁冰许旻李强勇邱家稳赵印中何延春
- 关键词：SIO2热控涂层氧化铟锡薄膜镀膜二氧化硅
- 一种太阳帆航天器姿态控制方法
- 本发明公开了一种太阳帆航天器姿态控制方法。使用本发明能够实现对航天器的姿态控制。本发明在航天器的太阳帆上表面的外边缘区域粘贴可变反射率柔性薄膜器件，通过控制可变反射率柔性薄膜器件的电压，从而改变可变反射率柔性薄膜器件的反...
- 左华平冯煜东王虎王志民杨淼许旻吴春华王洁冰赵印中李林
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- 一种钙钛矿结构薄膜材料复数光学常数的反演
- 为了获得一种钙钛矿结构镧锶锰氧La0.8Sr0.2MnO3薄膜材料的复数光学常数，利用光学薄膜原理和数学优化方法，并基于钙钛矿结构材料的色散模型，对磁控溅射技术制备的不同厚度的镧锶锰氧薄膜在波数400～1250cm-1范...
- 吴春华邱家稳许旻张佰森王洁冰李林赵印中左华平
- 关键词：LA0.8SR0.2MNO3光学常数数学优化
- 一种漆膜表面防静电的方法
- 本发明提供一种漆膜表面防静电的方法，具体过程为：第一步，采用离子源对漆膜表面进行清洗，清洗时间控制在1min～10min之间；第二步，在漆膜表面镀制透明导电薄膜；所述镀制为：采用不同溅射速率分三次在漆膜表面进行透明导电薄...
- 李林许旻王洁冰赵印中吴春华左华平
- 文献传递
- 一种增强漆膜抗原子氧侵蚀的方法
- 本发明提供一种增强漆膜抗原子氧侵蚀的方法，具体过程为：第一步，采用离子源对漆膜表面进行清洗，清洗时间控制在1min～10min之间；第二步，在漆膜表面镀制透明氧化物薄膜；所述镀制为：采用不同溅射速率分三次在漆膜表面进行透...
- 李林许旻王洁冰赵印中吴春华左华平
- 文献传递
- 磁控溅射WO3电致变色薄膜的太阳吸收率
- 采用直流磁控反应溅射工艺制备了WO薄膜。WO薄膜在原始状态和注入Li离子后的平均透射率分别为83%和6%,变化接近77%,表明该WO薄膜具有很好的电致变色性能。根据薄膜的透射率和反射率计算了WO薄膜的太阳吸收率:WO薄膜...
- 何延春邱家稳吴春华许旻王洁冰赵印中
- 关键词：太阳吸收率WO3电致变色磁控溅射
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- 一种用于贴装卫星表面的标签及其制作方法
- 本发明提供一种用于贴装卫星表面的标签，该标签主要由薄膜基底、漆膜层、透明发射率调节层及透明防静电层组成；其中漆膜层粘附于薄膜基底上，透明发射率调节层和透明防静电层均镀于漆膜层上，且透明发射率调节层位于透明防静电层与漆膜层...
- 李林许旻王洁冰赵印中吴春华左华平邹昕陈丽平
- 文献传递
- 玻璃型镀铝二次表面镜的制备及其评价试验研究
- 介绍了兰州空间技术物理研究所镀铝OSR的制备以及及其部分评价试验情况。通过调整溅射功率、溅射气氛、沉积时间以及离子束清洗的时间等参数,结合样品的性能测试,研究了溅射功率、溅射气氛、沉积时间以及离子束清洗制备等工艺参数对镀...
- 赵印中许旻李林王洁冰吴春华左华平
- 文献传递
