罗光明
- 作品数：11 被引量：8H指数：2
- 供职机构：中国科学院物理研究所更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 巨磁电阻金属多层膜微结构的研究
- 罗光明
- 关键词：巨磁电阻金属多层膜
- 多功能X射线衍射仪
- 麦振洪吴兰生崔树范李超荣罗光明徐明
- 该项目主要在扩展功能、自动控制及数据分析等方面升级改造。该项目技术路线上在原有X射线衍射仪上增加了晶体单色器，准直系统和多维样品台，并由手动测量实现计算机自动控制。在原衍射仪上增加晶体单色器（包括单晶体单色器和槽型单色器...
- 关键词：
- 关键词：X射线衍射仪
- 异常衍射精细结构谱研究超薄金属多层膜
- 近十几年来，巨磁电阻超薄金属多怪膜由于其物理机制和应用背景而受到人们的广泛关注。金属薄膜中，铁磁／非磁性／铁磁间的层间耦合和巨磁电阻效应、反铁磁、铁磁材料间的交换耦合的研究在近几年来取得较大的进展。研究表明，巨磁电阻效应...
- 罗光明麦振洪吴忠华蒋海英
- 关键词：测量方法热稳定性
- 文献传递
- Ni_(80)Fe_(20)/Cu多层膜界面原子结构的分析被引量：2
- 2000年
- 近来 ,超薄层的Ni80 Fe2 0 /Cu多层膜因其在巨磁电阻 (GMR)器件上的潜在应用而引起了极大的研究兴趣。众所周知 ,薄膜的电学和磁学性质明显地依赖于薄膜的微结构 ,如膜层的结晶性、应变分布、界面粗糙度以及原子互扩散等。由于巨磁电阻主要起源于界面自旋相关散射 ,有必要对Ni80 Fe2 0 /Cu多层膜的界面结构进行表征。但是 ,由于Ni80 Fe2 0 /Cu的原子散射因子差别非常小 ,用常规的X射线和电子衍射技术无法分析Ni80 Fe2 0 /Cu多层膜的界面结构。为克服这一困难 ,我们利用小角DAFS(衍射异常精细结构 )技术成功地分析了Ni80 Fe2 0 /Cu界面的原子密度和结晶性。所有样品都是用直流磁控溅射法在Si( 0 0 1 )衬底上制备的 ,其名义结构为 :Si( 0 0 1 ) /Fe( 80nm) / [Ni80 Fe2 0 ( 1 .8nm) /Cu(t) ]3 0 。其中 ,Fe为缓冲层 ,Cu层厚度分别为 0 .96nm和 0 .7nm。样品在优于 1 0 -3 Pa的真空中 ,1 5 0℃和 2 5 0℃的温度下分别进行了 1h的退火处理。用同步辐射X射线测量了样品特定衍射峰的强度随入射X射线能量的变化 ,即小角DAFS谱。结果分析表明 ,相对于Ni80 Fe2 0 和Cu体材料的原子密度差 (Δ0 )而言 ,多层膜中Ni80Fe2 0 和Cu的原子密度差别 (Δ)在退火之后明显减小 ,同时伴随着局域结晶性的改善。我们的结构还表?
- 麦振洪罗光明徐明姜宏伟柴春林赖武彦吴忠华蒋海音王德武
- 关键词：原子密度
- 真空退火对Ni<,80>Fe<,20>/Cu多层膜微结构的影响
- 徐明罗光明麦振洪柴春林杨涛赖武彦
- 关键词：真空退火多层膜微结构
- 同步辐射异常散射研究超薄金属多层膜
- 2001年
- 近些年来，巨磁电阻金属多层膜由于其在信息存储和其它传感器方面的应用而广受关注。但是，由于金属多层膜中每层厚度都很薄，界面及层内微结构研究很困难。本文介绍利用同步辐射异常散射技术和反射技术相结合，研究超薄金属多层膜中元素分布的原理，及其在不同系统中的应用。
- 罗光明王俊
- 关键词：金属薄膜
- Ni_(80)Fe_(20)/Cu多层膜巨磁电阻与微结构的关系被引量：4
- 1998年
- 采用磁控溅射方法 ,在不同溅射气压下制备了 ( 1 1 1 )取向的具有巨磁电阻效应的Ni80 Fe2 0 /Cu金属多层膜 .室温下 ,饱和磁电阻值随着Cu层厚度的增加呈振荡变化 ,在Cu层厚度tCu=1 .0 ,2 .2nm时 ,磁电阻出现 2个峰值 .对应于溅射气压为 0 .2 5Pa的样品 ,磁电阻分别为 1 9.4%和 1 1 .6 % ,溅射气压为 0 .45Pa的样品 ,磁电阻分别为 1 1 .2 %和 1 % .采用同步辐射光源在CuK吸收边能量位置 ( 8.989keV)对不同溅射气压下制备的多层膜样品做了X光小角衍射和漫散射 ,标定了界面粗糙度 ,用DAFS (Diffractionanomalousfine structurescat tering)方法研究了NiFe层和Cu层各自的局域结构 .结果表明 :溅射气压对多层膜界面的粗糙度有明显的影响 。
- 姜宏伟罗光明麦振洪赖武彦
- 关键词：多层膜巨磁电阻微结构铜镍铁合金
- 真空退火对Ni_(80)Fe_(20)/Cu多层膜微结构的影响被引量：5
- 1999年
- 用直流磁控溅射法在Ｓｉ（００１） 衬底上制备了以Ｔａ 为缓冲层、含有１５ 周期的Ｎｉ８０Ｆｅ２０（４ｎｍ）／Ｃｕ（６ ｎｍ） 多层膜．样品分别在１５０ ，２５０ ，３５０ ℃进行了真空退火处理．用低角和高角Ｘ 射线衍射法研究了多层膜的微结构．结果表明，所有样品均有较好的［１１１］ 取向，而且随退火温度或时间的增加，［１１１］ 取向程度变得更高．超晶格周期、平均面间距在退火后略有减小，表明多层膜结构在退火后变得更为致密．多层膜界面粗糙度随退火温度或时间的增加而增大，平均相关长度随退火温度或时间的增加而减小，分析认为这是由于Ｎｉ８０Ｆｅ２０／Ｃｕ 界面存在严重的互扩散所导致的．模拟Ｎｉ８０Ｆｅ２０／Ｃｕ 多层膜高角Ｘ 射线衍射谱，发现在Ｎｉ８０Ｆｅ２０／Ｃｕ 界面有非常厚的混合层存在，而且混合层厚度随退火温度或时间的增加而增大．模拟结果还表明，随退火温度或时间的增加，Ｎｉ８０Ｆｅ２０ 层面间距几乎保持不变，Ｃｕ 层面间距则随退火温度的增加而略有减小．
- 徐明柴春林罗光明杨涛赖武彦麦振洪
- 关键词：多层膜退火温度微结构界面粗糙度真空退火X射线
- X射线导常散射研究NiFe／Cu多层膜结构
- 1997年
- 本文利用X射线小角衍射和漫散射技术研究了两组具有不同GMR的NiFe/Cu多层膜样品的界面结构。利用在CuK吸收边附近的能量扫描得出了关于NiFe和Cu层的结晶性情况。结果表明两组样品在界面结构和结构性上有明显的区别。另外，我们还发现NiFe和Cu层的原子密度差别比块材料的差别大27％。
- 罗光明蒋海英等
- DAFS研究NiFe／Cu多层膜结构
- 1998年
- 本文首次利用异常衍射精细结构谱（DAFS）分析技术对多层膜中的NiFe和Cu的精细结构进行了分析。从DAFS谱中，我们提取出Ni和Cu的精细结构谱，从而可以单独研究多层膜中NiFe和Cu的精细结构。与荧光EXAFS谱的比较表明，两种方法得到的谱线完全一致。该技术为研究超薄多层膜的精细结构提供一种强有力的工具。
- 罗光明吴忠华等
