王明娥
- 作品数：18 被引量：21H指数：3
- 供职机构：大连理工大学更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学文化科学更多>>
- Cr/CrN多层应力与力学性能研究
- 本文利用复合磁控阴极弧技术在轴承钢基底上制备了不同周期的Cr/CrN多层和梯度结构的Cr/CrN多层,通过扫描电子显微镜观察了薄膜的厚度和表面形貌(SEM)。通过能量色散谱的薄膜进行了成分分析(EDS)。涂层结构是由X-...
- 王明娥马国佳刘星董闯
- 关键词：调制周期梯度涂层应力
- 低温直流磁控溅射制备金红石相TiO_2的研究(英文)被引量：1
- 2013年
- 利用直流磁控溅射方法在硅片和钛合金基底上沉积制备了二氧化钛薄膜。主要研究了变化的基片偏压对薄膜性能的影响。用XRD和SEM分析了薄膜的晶体结构和表面形貌,利用纳米压痕仪,划痕仪,摩擦试验机分别测试了薄膜的纳米硬度,膜基界面结合力和摩擦性能。结果表明,本方法在不加热基片的条件下制备出表面光滑致密,力学性能和摩擦学性能良好的金红石相TiO2薄膜。
- 王明娥马国佳孙刚刘星张林巩水利董闯
- 关键词：TIO2薄膜直流磁控溅射晶化
- 立方氮化硼薄膜制备及表征
- 本文采用B-C-N为过渡层,利用MW-ECR射频磁控溅射技术在硅片基底上成功制备了立方氮化硼薄膜(厚度可达1.8μm)。研究表征了薄膜的键合结构,化学成分和力学性能。通过傅里叶变换红外光谱,证明薄膜中主要是c-BN相。纳...
- 王明娥巩水利董闯
- 文献传递
- 磁性九孔实验电路板
- 本实用新型属于基础电学实验演示与教学领域，提出了一种磁性九孔实验电路板，包括带磁性的九孔板和金属底板，二者上下固定；带磁性的九孔板的上表面为带凸出铜柱的九孔；金属底板上设有与带磁性的九孔板上的九孔一一对应的圆形磁铁，圆形...
- 王明娥刘升光孙奥夏翎筝张馨元刘才松
- 磁控溅射复合沉积在Ti合金上的不同薄膜润湿性能研究
- 通过磁控溅射复合沉积方法在钛合金基体上制备了不同表面能和粗糙度的薄膜.主要研究了元素掺杂的DLC薄膜和具有仿生表面形貌的Cu膜.通过接触角测试和相应表面能计算研究了这些薄膜的润湿性能.通过XPS表征了掺杂DLC薄膜的化学...
- 马国佳林国强王明娥张林孙刚王达望
- 关键词：钛合金润湿性能表面形貌
- 文献传递
- 阴极弧与磁控溅射复合技术制备耐磨涂层
- 随着高推重比发动机和大型发动机的研发,解决高载荷条件下耐磨润滑问题日益迫切。类金刚石涂层由于其具有低摩擦系数、高耐磨性等优点业已成为解决军工产品耐磨问题的首选材料。但是单层结构类金刚石涂层的承载能力较差,且内应力较大、膜...
- 王明娥
- 可控阴极弧制备的梯度及调制多层CrN/Cr薄膜的组织结构和力学性能研究被引量：3
- 2015年
- 采用可控阴极弧的沉积方法在GCr15基体上制备了梯度和调制多层结构的氮化铬/铬(CrN/Cr)薄膜,对不同的CrN/Cr薄膜的组织结构、力学性能和耐磨性能进行了研究。通过扫描电镜、能量散射谱、X射线衍射、纳米压痕、划痕试验、微摩擦磨损测试仪及形貌测试仪对薄膜的组织结构、成份、力学性能、结合强度及耐磨性能进行了分析。结果表明:制备的薄膜厚度约5.5μm,梯度结构及调制多层CrN/Cr薄膜呈现明显的立方CrN(111)(200)取向,薄膜力学性能(包括硬度,模量,结合强度等)及耐磨性能均与不同的结构及调制周期相关。梯度结构的CrN/Cr薄膜硬度达到25 GPa,结合强度55 N,磨损率为32.754×10-6mm3/N·m,力学及耐磨性能明显优于其它多层结构,说明梯度结构可有效地改善CrN/Cr薄膜的性能。
- 刘星王明娥孙刚马国佳
- 关键词：调制力学性能耐磨性能
- 不同PVD技术沉积TiN涂层的形貌和力学性能研究（英文）被引量：4
- 2016年
- 采用阴极弧沉积、中频磁控溅射及二者的复合技术在GCr15基底上制备了TiN涂层。通过扫描电镜、XRD谱、微米划痕测试、硬度测试以及摩擦磨损测试对涂层的组织结构和力学性能进行了表征及对比。结果表明,采用复合磁控阴极弧技术制备的TiN涂层具有较好的综合性能,如较光滑的表面、较高的结合力和硬度,故磨损率较低。
- 王明娥马国佳刘星董闯
- 关键词：物理气相沉积TIN涂层
- 立方氮化硼薄膜的制备及研究被引量：3
- 2014年
- 通过工艺对比,考察了过渡层在降低立方氮化硼薄膜内应力方面的作用,并研究了薄膜的力学性能。结果表明B-C-N三元过渡层的添加有效地降低了薄膜内应力。X射线光电子能谱结果显示在B-C-N三元过渡层内形成了成分的逐渐变化,同时各元素间杂化成键。过渡层的添加使得在硅片基底上成功制备了性能稳定的立方氮化硼厚膜。
- 王明娥马国佳董闯
- 关键词：立方氮化硼薄膜应力X射线光电子能谱
- 沉积温度对温度梯度法制备氮化硼薄膜结构和硬度的影响(英文)被引量：1
- 2015年
- 采用温度梯度法,通过MW-ECR射频磁控溅射在硅片基底上制备了六方和立方混合的氮化硼薄膜。研究了薄膜的键结构,化学成分和力学性能。结果显示,对于氮化硼立方相的出现存在温度阈值,薄膜的硬度随沉积温度提高而提高。相对于传统薄膜制备方法,温度梯度方法具有更高的效率。
- 王明娥巩水利马国佳刘星张林王达望陆文琪董闯
- 关键词：氮化硼薄膜溅射温度梯度法
