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王亮亮

作品数：5 被引量：11H指数：1
供职机构：清华大学机械工程学院摩擦学国家重点实验室更多>>
发文基金：上海市科委科研计划项目国家自然科学基金更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇单晶
  • 2篇单晶硅
  • 2篇硬盘
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇机械抛光
  • 2篇改性
  • 2篇表面形貌
  • 2篇磁头
  • 1篇单晶硅片
  • 1篇抛光
  • 1篇平坦化
  • 1篇去除速率
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇计算机
  • 1篇计算机硬盘
  • 1篇硅片
  • 1篇改性研究
  • 1篇改性研究进展
  • 1篇CMP
  • 1篇表面波纹度

机构

  • 5篇清华大学
  • 1篇上海大学
  • 1篇科技部
  • 1篇清华大学研究...

作者

  • 5篇王亮亮
  • 4篇雒建斌
  • 3篇雷红
  • 3篇潘国顺
  • 2篇路新春
  • 2篇杨明楚
  • 1篇温诗铸
  • 1篇胡志孟
  • 1篇徐进
  • 1篇高峰
  • 1篇张朝辉
  • 1篇马俊杰
  • 1篇姜小平
  • 1篇彭泳卿
  • 1篇胡晓莉
  • 1篇黄义
  • 1篇高峰

传媒

  • 1篇润滑与密封

年份

  • 1篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2004
  • 2篇2002
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
计算机硬盘的发展趋势及磁头/磁盘表面的加工和改性研究进展
硬盘以其种种优势在科学领域和生活上越来越得到广泛地应用,同时也不断地促进了与其相关领域的科学技术的迅速发展。本文从摩擦学的角度讨论了与硬盘系统相关的基于磁头／盘表面与界面的微／纳米设计、加工和改性技术与理论等领域的理论研...
雒建斌杨明楚王亮亮
文献传递
单晶硅化学机械抛光实验研究
王亮亮
关键词：化学机械抛光平坦化单晶硅表面形貌去除速率
计算机硬盘系统的表面纳米级抛光研究
硬盘以其种种优势在科学领域和生活上得到越来越广泛的应用,同时也不断地促进了相关领域科学技术的迅速发展。从摩擦学角度讨论了与硬盘系统相关的基于磁头/盘表面与界面的微/纳米设计和加工的技术与理论的研究进展,并讨论磁头飞行特性...
雒建斌潘国顺雷红高峰王亮亮姜小平
关键词：硬盘磁头CMP
文献传递
硅片化学机械抛光中表面形貌问题的研究被引量：11
2006年
利用扫描电镜和WYKO MHT-Ⅲ型光干涉表面形貌仪研究了抛光过程中不同阶段硅片的表面形貌、抛光液研磨颗粒粒径对抛光表面质量的影响以及抛光过程中的桔皮现象。结果表明，抛光中主要是低频、大波长的表面起伏被逐渐消除，而小尺度上的粗糙度并未得到显著改善；当颗粒直径在10-25nm的范围时，粒径和粗糙度不存在单调关系；桔皮的产生主要是抛光液中碱浓度过高所致。
王亮亮路新春潘国顺黄义雒建斌雷红
关键词：单晶硅片化学机械抛光表面形貌
计算机磁头、磁盘表面抛光和改性技术研究
雒建斌路新春潘国顺温诗铸雷红高峰张朝辉胡志孟杨明楚王亮亮胡晓莉马俊杰徐进彭泳卿
本项目主要针对硬盘储存密度提高过程所面临的表面改性和抛光技术开展了研究。成功地解决了计算机硬盘磁头表面的亚纳米级抛光液的制备、磁头表面的改性和磁盘基片CMP抛光液研制中的多个技术难点。开发出纳米金刚石粉研磨液的硬盘磁头表...
关键词：
关键词：表面波纹度表面粗糙度
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