潘旋
- 作品数：9 被引量：8H指数：2
- 供职机构：淮阴工学院更多>>
- 发文基金：江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺一般工业技术更多>>
- 激光快速退火对NiMn/NiFe双层膜结构和磁性能的影响
- 利用高真空磁控溅射镀膜机制备了Mn原子含量在50～55at％的NiMn薄膜，并在此基础上沉积了磁性双层膜。分析了溅射气压、溅射功率、基体负偏压、靶基距、基体温度等溅射工艺参数对薄膜成分的影响特点，并研究了常规退火处理和激...
- 潘旋
- 关键词：交换偏置场矫顽力磁性能
- 文献传递
- 激光加热退火处理对NiMn基磁性薄膜交换偏置场的影响被引量：2
- 2014年
- 通过激光加热对Ni81Fe19(15 nm)/Ni45Mn55(x nm)磁性双层膜进行快速退火处理,系统研究了激光辐照参数对交换偏置场(Hex)大小的影响。结果表明,激光的能量密度强烈影响双层膜交换偏置效应,并存在一个能量密度的阈值(约为150mJ/cm2),此时磁性双层膜能够产生较明显的交换偏置现象。磁性双层膜的Hex随着能量密度的进一步增加逐渐变大,但随后减小直至完全消失。当NiMn层厚度为25nm时,经激光加热退火处理后双层膜的Hex最大值约为26.2kA/m,略大于常规退火后的Hex值(22.3kA/m)。
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- 关键词：磁性薄膜交换偏置场
- 飞秒激光无掩膜法制备磁敏感微结构单元的方法
- 本发明公开了一种利用飞秒激光无掩膜法制备磁敏感微结构单元的方法，包括以下步骤：（1）按衬底、缓冲层、磁性层、保护层的顺序沉积制作磁性薄膜；（2）利用飞秒激光作为光源，通过计算机精确控制样品台的位置，对磁性薄膜进行无掩膜辐...
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- 文献传递
- Ni_(50)Mn_(37)In_(13)磁驱动形状记忆合金薄膜中的交换偏置被引量：1
- 2014年
- 研究了磁场冷却前后Ni50Mn37In13磁驱动形状记忆合金薄膜在低温下的磁学行为。结果表明:磁场冷却后的Ni50Mn37In13薄膜在10 K温度下表现出一定的交换偏置效应。在特征温度Tf以下,零场冷却状态下的Ni50Mn37In13合金处于超自旋玻璃态,而经磁场冷却后发生了从自旋玻璃态向磁有序的超铁磁结构的变化。超铁磁结构中的超铁磁团簇与反铁磁基体构成了铁磁/反铁磁耦合,从而导致了交换偏置的产生。
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- 关键词：交换偏置
- BiFeO_3/Ni_(81)Fe_(19)磁性双层膜中的交换偏置及其热稳定性研究被引量：6
- 2013年
- 研究了磁场诱导生长的BiFeO3/Ni18Fe19磁性双层膜中的交换偏置及其热稳定性.结果表明:BiFeO3/Ni18Fe19双层膜中的交换偏置场Hex未表现出明显的磁练习效应.在负饱和磁场等待过程中,BiFeO3/Ni18Fe19双层膜磁滞回线的前支和后支曲线都随着在负饱和磁场中等待时间tsat的增加向正场方向偏移.交换偏置场Hex的大小随着等待时间tsat的增加而减小,矫顽力Hc基本不变.交换偏置场Hex的大小随测量温度Tm的升高变化不明显,表现出良好的热稳定性;但矫顽力Hc随Tm的升高而显著减小.良好的热稳定性应该来源于铁电性和反铁磁性间的共同耦合作用.
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- 关键词：多铁性磁性薄膜交换偏置热稳定性
- 快速退火技术在磁交换偏置薄膜中的应用及展望
- 2015年
- 快速退火技术(RTA)可在极短的时间内使器件表面升至高温,该技术被广泛运用在半导体制造领域。综述了RTA的发展历程及其应用于磁性薄膜所取得的进展,并对RTA在磁交换偏置薄膜中的应用前景进行了展望。
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- 关键词：磁性薄膜快速退火
- 激光退火提高铁磁/反铁磁双层膜交换偏置场热稳定性方法
- 本发明公开了一种激光快速退火提高铁磁/反铁磁双层膜交换偏置场热稳定性的方法，它包括以下步骤：(1)利用PVD方法在衬底上沉积铁磁层和反铁磁层，得铁磁/反铁磁双层膜；(2)利用连续波激光或脉冲激光作为光源，对双层膜进行激光...
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- 文献传递
- 基于NiMn的铁磁/反铁磁系统中交换偏置研究进展
- 2013年
- NiMn合金薄膜作为一种高性能的反铁磁材料在巨磁电阻器件中具有重要的应用前景,引起了物理学及材料学等领域广大科研工作者的浓厚兴趣。综述了NiMn合金薄膜的基本性质,并对NiMn基铁磁/反铁磁双层膜的交换偏置的基本特征进行了分析。
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- 关键词：交换偏置磁性薄膜
- 飞秒激光无掩膜法制备磁敏感微结构单元的方法
- 本发明公开了一种利用飞秒激光无掩膜法制备磁敏感微结构单元的方法，包括以下步骤：（1）按衬底、缓冲层、磁性层、保护层的顺序沉积制作磁性薄膜；（2）利用飞秒激光作为光源，通过计算机精确控制样品台的位置，对磁性薄膜进行无掩膜辐...
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- 文献传递
