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李锦标

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：中华人民共和国工业和信息化部更多>>
相关领域：理学一般工业技术金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇能谱
  • 1篇厚度
  • 1篇俄歇电子
  • 1篇俄歇电子能谱
  • 1篇铂
  • 1篇硅
  • 1篇表面染色

机构

  • 1篇中华人民共和...

作者

  • 1篇霍彩红
  • 1篇李锦标
  • 1篇周明辉
  • 1篇赵丽华

传媒

  • 1篇半导体技术

年份

  • 1篇2002
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
采用俄歇电子能谱技术分析铂化硅的合金行为被引量：2
2002年
采用俄歇能谱技术分析了铂层厚度,合金温度及表面染色对铂化硅形成的影响,并分析了王水对铂化硅的作用,给出了分析结果。
赵丽华李锦标霍彩红周明辉
关键词：俄歇电子能谱表面染色
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共1页<1>
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