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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇金刚石
  • 2篇刚石
  • 1篇灯丝
  • 1篇等离子体增强
  • 1篇电阻
  • 1篇射频放电
  • 1篇生长速率
  • 1篇碳化
  • 1篇热丝
  • 1篇热丝化学气相...
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积

机构

  • 2篇湖南大学
  • 2篇井冈山学院

作者

  • 2篇周灵平
  • 2篇李宇农
  • 2篇孙心瑗
  • 1篇余晓光
  • 1篇易学华
  • 1篇陈本敬

传媒

  • 1篇粉末冶金工业
  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2005
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
热丝CVD法沉积金刚石薄膜用灯丝研究现状及改进被引量:6
2005年
热丝化学气相(CVD)法沉积金刚石具有其它沉积方法所无法比拟的优势而受到重视,然而在高温沉积过程中灯丝容易发生形变和挥发所带来的“污染”影响了金刚石沉积膜的质量,本文就热丝法中三种常用灯丝(钨丝、钼丝和铼丝)的高温行为的研究现状进行了综合评述。在此基础上,提出了钽丝表面包钨的新实验,以进一步指导热丝CVD法沉积高质量的金刚石。
孙心瑗周灵平李宇农余晓光
关键词:金刚石灯丝碳化电阻
射频放电辅助热丝CVD金刚石生长速率的研究被引量:1
2007年
在传统的HFCVD系统中,引入射频电源后,通过与灯丝或者衬底的连接,组成了射频放电辅助下的四种不同沉积金刚石的生长模式。在各种生长模式下,分别以酒精和丙酮为碳源,沉积出了金刚石多晶球,并就不同辅助模式下的金刚石的生长速率进行了研究。结果表明,等离子体增强法能够明显促进金刚石的生长,而电子促进法的生长速率最慢,甚至慢于偏压等离子体的生长速率;与等离子体促进增强法相比,偏压等离子体增强法的生长速率也有所变慢,并且随着偏压射频电流的增大,其生长速率越来越慢;而传统热丝法的生长速率与沉积金刚石时所选用碳源的分子结构有很大的关系。
孙心瑗周灵平李宇农易学华陈本敬
关键词:射频放电等离子体增强热丝化学气相沉积
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