宫磊
- 作品数：4 被引量：21H指数：3
- 供职机构：中国科学院金属研究所更多>>
- 相关领域：一般工业技术更多>>
- 弧电流对电弧离子镀CrN硬质涂层组织性能的影响被引量：10
- 2011年
- 采用电弧离子镀技术在钛合金表面制备CrN涂层,利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)以及透射电镜(TEM)分析了弧电流对涂层组织结构以及力学性能的影响。结果表明,随着弧电流的升高,涂层沉积速率增大,表面熔滴的数量及尺寸增大,表面平整度明显下降。不同弧电流条件下均沉积出CrN单相涂层。弧电流改变了粒子、离子的轰击作用,从而影响到涂层表面的能量状态,CrN涂层的择优生长由(111)变为(200),(220)。随着弧电流的增加,CrN涂层的硬度先增大后减小,而涂层与基材间的结合力以及涂层的摩擦系数逐渐增大。弧电流为65A时涂层生长具有较高的沉积速率和较低的沉积温度,可获得尺寸较小的涂层组织。
- 郑陈超陈康敏张晓柠黄燕关庆丰宫磊孙超
- 关键词：电弧离子镀CRN涂层
- 脉冲偏压对电弧离子镀CrN_x薄膜组织结构与性能的影响被引量：7
- 2010年
- 利用电弧离子镀技术在TC4基体上制备CrNx薄膜,研究了脉冲偏压对薄膜的组织结构和力学性能的影响。结果表明,在一定范围内提高脉冲偏压可以显著减少薄膜表面熔滴的数量及尺寸,改善表面平整度,获得高质量的薄膜;同时随着脉冲偏压的升高,CrNx薄膜由CrN单相变为Cr,Cr2N和CrN三相组成,硬度与结合强度的峰值可分别达到24294.2MPa和43N;薄膜的摩擦系数在偏压幅值为-300V时具有最小值0.43。
- 张晓柠陈康敏郑陈超黄燕关庆丰宫磊孙超
- 关键词：电弧离子镀脉冲偏压CRNX薄膜
- 电弧离子镀制备CrN_x薄膜中熔滴的结构表征与形成机制被引量：1
- 2011年
- 应用电弧离子镀技术,在不同的氮气分压(0.5~2.5 Pa)和脉冲偏压(0^-300 V)条件下对TC4基体沉积CrNx薄膜,采用扫描电镜和透射电镜对镀膜过程中产生的熔滴现象进行分析研究。结果表明,升高氮气分压能减少靶材排出粒子团数量,改变等离子体轰击作用,从而控制熔滴数量及尺寸,改善薄膜表面平整度;脉冲偏压能够使熔滴与薄膜紧密结合,改变熔滴成分,在一定范围内能促进靶材成分熔滴的形成。
- 陈康敏郑陈超张晓柠黄燕关庆丰宫磊孙超
- 关键词：电弧离子镀CRNX薄膜熔滴扫描电镜透射电镜
- 氮气分压对电弧离子镀CrN_x薄膜组织结构的影响被引量：9
- 2010年
- 利用电弧离子镀技术在钛合金表面制备CrNx薄膜,分析讨论氮气分压对薄膜表面形貌、相组成和微观结构的影响。结果表明,随着氮气分压的升高,CrNx薄膜表面熔滴的数量及尺寸减少,表面平整度得到明显改善;薄膜的物相组成在氮气分压为1.0 Pa时由Cr2N相变为CrN相;同时因氮气分压改变粒子、离子的轰击作用,影响薄膜表面的能量状态,CrNx薄膜晶体的择优生长由(200),(220)变为(111)。在氮气分压为1.5 Pa时可获得高沉积效率、高致密度、高硬度,并具有纳米晶体结构的单相CrN薄膜。
- 陈康敏张晓柠郑陈超黄燕关庆丰宫磊孙超
- 关键词：电弧离子镀CRNX薄膜
