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周海

作品数：32 被引量：0H指数：0
供职机构：复旦大学更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 31篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 10篇自动化与计算...
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 12篇电路
  • 12篇集成电路
  • 8篇光刻
  • 6篇图案
  • 6篇抛光
  • 6篇抛光工艺
  • 6篇线性规划
  • 6篇可制造性
  • 5篇电路设计
  • 5篇管理单元
  • 5篇存储管理
  • 5篇存储管理单元
  • 4篇电路技术
  • 4篇电子束
  • 4篇多项式
  • 4篇多项式时间
  • 4篇时钟
  • 4篇时钟周期
  • 4篇全局最优
  • 4篇全局最优解

机构

  • 32篇复旦大学

作者

  • 32篇周海
  • 31篇曾璇
  • 21篇严昌浩
  • 9篇陶俊
  • 7篇周电
  • 7篇杨帆
  • 6篇冯春阳
  • 6篇陆瀛海
  • 6篇陆伟成
  • 5篇杨运峰
  • 4篇尚笠
  • 3篇朱恒亮
  • 3篇龚旻
  • 3篇王胜国
  • 2篇张业

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 3篇2020
  • 3篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 3篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 3篇2013
  • 4篇2012
  • 6篇2011
  • 1篇2007
共 32 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种基于字符投影电子束光刻技术的字符盘优化设计方法
本发明属于集成电路可制造性设计中电子束光刻技术领域，具体涉及字符投影的电子束光刻中，利用光刻字符间隙可交叠的性质，通过优化放置在字符盘上光刻字符的位置和数量，最终减少芯片制造所需的总曝光次数，提升电子束光刻的吞吐率。本发...
严昌浩曾璇周海周电葛佳贝
一种电子束和多重图案光刻混合工艺版图图案分解方法
本发明属于集成电路半导体制造技术领域，涉及一种电子束和多重图案光刻混合工艺中版图图案分解方法，该方法将最小化电子束使用面积和缝合点数目的版图图案分解问题表示成删点K划分问题。所述方法包括步骤：根据输入版图文件和冲突距离B...
曾璇陆伟成周海严昌浩杨运峰
一种化学机械抛光工艺哑元填充的启发式方法
本发明属集成电路半导体制造技术领域，提出一种化学机械抛光工艺的哑元填充的启发式方法，将最小化哑元金属数目的哑元填充问题表示成一个标准的线性规划问题，然后提出动态增加网格内哑元金属密度的启发式算法求解最小哑元填充问题。该方...
周海曾璇严昌浩陶俊冯春阳
一种基于贝叶斯模型的SRAM电路良率分析方法
本发明属集成电路技术领域，涉及集成电路可制造性设计中静态随机存储电路良率分析方法，本方法中，首先使用互信息和序列二次规划，对高维SRAM电路的扰动空间进行降维，实现高维SRAM电路最佳平移矢量的快速计算；然后建立低维和高...
曾璇严昌浩王胜国周海周电翟金源
文献传递
一种可控重复执行次数的多线程事务存储编程模型方法
本发明属于计算机多线程并行编程领域，涉及一种执行失败后，可控重复执行次数(N‑retry)的多线程事务存储编程模型方法。本发明将原事务存储编程模型进行修改，对执行失败的事务控制重复执行次数，并通过构建任务队列，若事务执行...
曾璇周海严昌浩陆昆
文献传递
一种化学机械抛光工艺哑元填充方法
本发明属集成电路半导体制造技术领域，涉及一种化学机械抛光工艺的哑元填充方法。本发明将求解最小化哑元金属数目的哑元填充问题转化成一类特殊的覆盖线性规划CLP问题，然后根据CLP问题的特点，应用组合优化领域中一种完全多项式时...
曾璇周海严昌浩陶俊冯春阳
用于集成电路设计的多核并行最小代价流方法及装置
本发明属集成电路技术领域，涉及一种应用于集成电路设计自动化中的多核并行最小代价流求解方法及装置。该方法及装置基于非确定性事务模型来实现最小代价流的求解，易于算法设计和并行实现，并从理论上保证算法的正确性。该方法利用线程池...
周海曾璇尚笠杨帆陆瀛海
文献传递
乳酸与ω-氨基酸的直接共缩聚研究及共聚物应用初探
随着和谐世界发展战略的提出,人们已经开始普遍关注自己的生存环境。聚乳酸由可再生的原料制备,具有原料来源广泛、优良的生物相容性和降解性等诸多优点,是最重要的脂肪族聚酯之一。理论上,聚乳酸可以用来取代现在被广泛使用的、由石化...
周海
关键词：乳酸共聚物
文献传递
基于FPGA和CPU异构计算的随机行走寄生电容参数提取方法
本发明属于集成电路领域，具体涉及一种基于FPGA和CPU异构计算的随机行走寄生电容参数提取方法，包括，在CPU中读取GDS版图、生成高斯面、生成初始点、切分版图以及筛选分块后，针对每个含初始点的分块，在FPGA中运行随机...
曾璇严昌浩周海周电韦昕
一种三重曝光光刻工艺的版图图案分解方法
本发明属半导体光刻工艺可制造性设计领域，具体涉及一种三重曝光光刻工艺的版图图案分解方法。先采用矩形扩展的方法构建冲突图；然后随机产生三着色初始解，每轮优化分别依次固定一种颜色，对剩余二种颜色的冲突子图利用双重曝光图案分配...
曾璇陆伟成周海严昌浩张业
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