刘建莉
- 作品数：5 被引量：12H指数：3
- 供职机构：四川大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信核科学技术更多>>
- 用于惯性约束核聚变(ICF)激光驱动系统中集成衍射光学元件的特性研究被引量：4
- 2004年
- 基于标量衍射理论,分析了集成光束采样光栅和色分离光栅于一体的衍射光学元件的衍射效率,及其结构和主光束低频波前畸变量的关系.并将其衍射效率、能量损耗以及分离角,和使用单个的采样光栅和色分离光栅进行了比较.计算分析表明,集成后的衍射光学元件基本上没有改变各级衍射效率的大小,也没有改变基频光和二倍频光的分离角,但可提高光能利用率.以上结果,可为此类集成光学元件应用于ICF的可行性提供理论依据.
- 刘世杰杜惊雷彭钦军高福华刘驰刘建莉
- 关键词：标量衍射理论ICF衍射光学元件衍射效率
- 用于分数傅里叶域滤波位相元件设计新算法
- 2005年
- 基于部分相干成像和分数傅里叶变换理论,建立成像系统的分数傅里叶域滤波模型,提出了可快速设计分数域位相型滤波片的 FrPI 算法。此算法将逆向设计预设初位相与分数傅里叶迭代技术相结合,针对成像系统中不同的设计要求可快速设计出所需的分数域滤波片结构。模拟结果表明,对数值孔径有限的部分相干成像系统,使用新算法设计的分数域滤波片,可有效补偿由于高频损失带来的图像失真,从而使局部线宽偏差和面积偏差分别由滤波前的 36.548nm 和 39.09%下降到了 15.234nm 和 7.72%,明显减少了空间像畸变。
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- 关键词：光刻
- 光刻中驻波效应的影响分析被引量：4
- 2004年
- 驻波效应是抗蚀剂在曝光过程中的寄生现象。一般认为,驻波效应对薄胶的光刻图形有较大的影响,而对厚胶的光刻图形影响不大。根据DILL曝光模型进行了模拟计算,分析了在曝光过程中抗蚀剂折射率的改变对驻波强度和位置的影响以及驻波效应引起抗蚀剂曝光剂量分布的变化,并结合MACK显影模型分析了当抗蚀剂的厚度改变时,驻波效应对其显影轮廓的影响程度,计算分析得出了一个可以不采用后烘工序的抗蚀剂厚度值。
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- 关键词：光刻集成电路
- 分数傅里叶域微光学元件设计方法研究
- 微光学元件以其效率高、体积小、重量轻、易于复制、可以实现多种变换功能等优点在现代科技中有着越来越广泛的应用。为拓展微光学元件操作区域，改善其光学变换功能，提高光学系统整体性能和光路安排的灵活性，本论文提出一种用于分数傅立...
- 刘建莉
- 关键词：分数傅里叶变换离轴照明微光学元件
- 文献传递
- 利用边缘相位校正实现光束整形的高精度优化被引量：4
- 2004年
- 提出利用边缘相位校正的新方法 ,校正用追迹法设计的产生环形光束的衍射光学元件的相位分布 ,从而实现光束整形中的高精度优化。通过将高斯光束整形为环形光束 ,将该方法、G S(Gerchberg Saxton)算法和改进的G S算法设计得到的整形结果作了比较 ,结果表明 ,G S算法的整形结果虽然衍射效率最大 ,但是均方根值和最大偏差也太大 ;改进的G S算法可以有效的降低均方根值和最大偏差 ,但衍射效率也有较大的下降 ;而用边缘相位校正可以在衍射效率略微下降的情况下 ,更大的降低均方根值和最大偏差 ,其整形结果是综合了衍射效率、均方根值和最大偏差这三个评价指标以后得到的最优化结果 ,已接近理想的环形光束。
- 高峰刘建莉高福华刘世杰郭永康
- 关键词：衍射光学光束整形
