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储晓菲

作品数:4 被引量:22H指数:2
供职机构:同济大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇电化学
  • 2篇透明导电
  • 1篇导电
  • 1篇导电薄膜
  • 1篇电化学法
  • 1篇电容
  • 1篇电容器
  • 1篇电容性
  • 1篇电容性能
  • 1篇性能研究
  • 1篇修饰
  • 1篇氧化锰
  • 1篇氧化石墨
  • 1篇氧化石墨烯
  • 1篇氧化物
  • 1篇英文
  • 1篇制备及性能
  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶一凝胶
  • 1篇溶胶一凝胶法

机构

  • 4篇同济大学

作者

  • 4篇储晓菲
  • 4篇黄河洲
  • 4篇李一鸣
  • 4篇贺蕴秋
  • 2篇刘德宇
  • 2篇孙芳芳
  • 2篇陈慧敏
  • 2篇李文有
  • 2篇李乐

传媒

  • 2篇发光学报
  • 1篇无机化学学报
  • 1篇物理化学学报

年份

  • 2篇2014
  • 2篇2013
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
透明导电ZnO薄膜的电化学制备及性能研究被引量:2
2013年
以修饰的ITO玻璃为衬底,以不同浓度Zn(NO3)2.6H2O作为电解质溶液,采用阴极恒流沉积法制备了不同纳米结构的ZnO薄膜。用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、四探针仪(RTS-8)、紫外-可见(UV-Vis)光谱仪、循环伏安等分别表征薄膜的晶相、形貌和厚度、方块电阻、紫外-可见光透过率和氧化还原电位。结果表明:低浓度溶液沉积得到的c轴取向1D ZnO纳米柱和高浓度溶液沉积得到的致密2D六方ZnO纳米片在可见光范围(400~900 nm)的透过率均可高达85%以上,方块电阻约为14.5Ω/□。两种结构的氧化还原电位有显著区别,纳米柱的为-0.54 V(vs.SCE),而纳米片的为-0.72 V(vs.SCE),说明纳米片状的ZnO薄膜具有更为良好的化学稳定性。
孙芳芳贺蕴秋李一鸣李乐储晓菲黄河洲
关键词:ZNO薄膜修饰透明电极
Sb掺杂ZnSnO_3透明导电薄膜:制备与性能(英文)被引量:1
2014年
采用溶胶-凝胶法(Sol-Gel)和旋涂法制备了未掺杂的ZnSnO3薄膜和掺入不同物质的量的Sb的ZnSnO3薄膜。采用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、X射线光电子能谱(XPS)、霍尔效应仪(Hall)以及紫外-可见光(UV-Vis)等表征了热处理后薄膜的晶相、微观形貌、晶格缺陷、电学性能以及紫外-可见光透过率。结果表明:所有薄膜都是ZnSnO3结构;与未掺Sb的ZnSnO3薄膜相比,掺入Sb后的ZnSnO3薄膜的电阻率都有不同程度的降低,其中掺入8mol%Sb的薄膜具有最低的电阻率0.96Ω·cm;缺陷研究表明:Sb的掺入使得晶格中的间隙锌离子含量增加,这有利于薄膜电阻率的降低;薄膜的紫外-可见光(UV-Vis)表明:在波长大于475 nm的可见光范围内,掺入Sb的ZnSnO3薄膜的可见光透过率都在80%以上。
储晓菲贺蕴秋李一鸣黄河洲刘德宇陈慧敏李文有
关键词:导电溶胶一凝胶法
水热合成部分还原氧化石墨烯-K_2Mn_4O_8超级电容器纳米复合材料(英文)被引量:12
2013年
通过控制水热反应温度以及氧化石墨烯(GO)与高锰酸钾的填料比,合成了两组部分还原的GO-K2Mn4O8纳米复合材料.X射线衍射(XRD)分析说明水热过程中合成了α-MnO2和一种新的晶相K2Mn4O8.通过X射线光电子能谱(XPS)分析了水热反应前后氧化石墨的含氧官能团的变化.扫描电子显微镜(SEM)显示样品由片状还原的氧化石墨烯构成,其表面附有许多小的纳米颗粒,这种结构有利于储能时电子的传递.通过这两组复合材料的结构分析,更好地理解了材料的电化学性能的变化.利用循环伏安法和恒流充放电测试比较了材料的电容性能.用1mol·L-1的硫酸钠做电解液,电位范围是0-1V,在1A·g-1的电流密度下,测得的样品最佳比电容达到251F·g-1,能量密度为32Wh·kg-1,功率密度为18.2kW·kg-1.并且在5A·g-1的电流密度下循环1000次后样品的比电容仍维持在初始比电容的88%.
李乐贺蕴秋储晓菲李一鸣孙芳芳黄河洲
关键词:超级电容器氧化锰电容性能
电化学法制备的还原氧化石墨烯薄膜及其光电性能研究被引量:7
2014年
通过电化学方法在FTO导电玻璃上沉积了不同还原程度(C/O)的还原氧化石墨烯薄膜(rGO),其中rGO薄膜由未经处理的GO电解液制备,A-rGO由碱处理后的电解液制备,B-rGO由NaBH4处理后的电解液制备。利用XRD、XPS、SEM、UV-Vis对薄膜的化学结构和微观形貌进行了表征,并研究了薄膜在可见光照射下的光电性能。结果表明:在1.8 V下沉积的不同C/O比的rGO薄膜中,B-rGO薄膜的C/O比最高(8.1),带隙最小(0.54 eV),导带最靠近FTO的导带位置。在可见光照射下,几种薄膜均产生了阴极电流,电流密度随C/O比的增大而增大,其中B-rGO最大达1μA·cm-2。本文提供了一种通过控制C/O比来控制rGO薄膜光电性能的方法。
黄河洲贺蕴秋李文有储晓菲李一鸣陈慧敏刘德宇
关键词:光电性能
共1页<1>
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