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何田

作品数:5 被引量:35H指数:5
供职机构:南昌大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家科技部科技人员服务企业行动项目教育部科学技术研究重点项目更多>>
相关领域:化学工程一般工业技术金属学及工艺自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇铜箔
  • 3篇电解铜
  • 3篇电解铜箔
  • 3篇力学性能
  • 3篇力学性
  • 2篇正交
  • 2篇正交试验
  • 2篇添加剂
  • 1篇电沉积
  • 1篇电沉积工艺
  • 1篇电流
  • 1篇电流密度
  • 1篇动态链接
  • 1篇动态链接库
  • 1篇虚拟仪器
  • 1篇数对
  • 1篇数据采集
  • 1篇链接
  • 1篇链接库
  • 1篇聚乙二醇

机构

  • 5篇南昌大学
  • 1篇北京工商大学

作者

  • 5篇何田
  • 3篇彭文屹
  • 3篇易光斌
  • 3篇杨湘杰
  • 3篇蔡芬敏
  • 1篇郑维智
  • 1篇杨浩坤
  • 1篇何晓岚

传媒

  • 1篇南昌大学学报...
  • 1篇特种铸造及有...
  • 1篇电镀与涂饰
  • 1篇北京工商大学...

年份

  • 2篇2011
  • 2篇2010
  • 1篇2008
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
添加剂对电解铜箔组织性能的影响及优化
近年来铜的电沉积已经受到了广泛研究,因为铜箔在印刷电路板和覆铜板行业中得到很好的应用。而添加剂在铜电沉积过程对铜箔性能的影响中起着很重要的作用,即使是很微量的添加剂也能显著改变沉积层的性能。   本文利用SEM、微机控...
何田
关键词:电解铜箔添加剂正交试验力学性能
添加RE对电解铜箔组织与性能的影响被引量:5
2010年
采用直流电沉积技术制备电解铜箔,利用SEM、微机控制电子万能试验机和高温拉伸机研究不同RE含量(0、1.5×10-3%、3×10-3%、4.5×10-3%)对电解铜箔组织及性能的影响。结果表明,RE元素的加入可以细化晶粒,使晶粒均匀致密,并能改善铜箔的力学性能,加入3×10-3%左右的RE,晶粒细化效果最好,力学性能最高。
何田易光斌蔡芬敏杨浩坤彭文屹杨湘杰
关键词:电解铜箔力学性能
基于虚拟仪器的一种数据采集方法的研究被引量:7
2008年
基于LabVIEW的虚拟仪器测试系统的工作原理,结合数据采集系统的硬件构成和控制软件编写的原则,在LabVIEW环境下,通过调用动态链接库实现数据采集.
何晓岚郑维智何田
关键词:虚拟仪器LABVIEW测试系统数据采集动态链接库
电解铜箔添加剂配方优化被引量:9
2010年
在高电流密度下用直流电沉积法制备了电解铜箔。电解液基础成分为:Cu2+80~90g/L,H2SO4120~130g/L和Cl-30~40mg/L。用正交试验法研究了聚乙二醇、2–巯基苯并咪唑、硫脲、明胶等4种添加剂对电解铜箔力学性能的影响。最佳配比为:聚乙二醇0~5.5mg/L,2–巯基苯并咪唑0~6.0mg/L,硫脲0~3.0mg/L,明胶0~4.5mg/L。由此制备的铜箔,其常温抗拉强度与延伸率分别是411.3MPa和9.3%,高温抗拉强度与延伸率分别是209.2MPa和2.9%。
易光斌何田杨湘杰彭文屹蔡芬敏卢皞袁智斌
关键词:电解铜箔添加剂正交试验力学性能
电沉积工艺参数对铜箔性能的影响被引量:11
2011年
分别在不同的电流密度、铜离子浓度、聚乙二醇(PEG)添加剂3种工艺参数下,电沉积制备铜箔试样。利用扫描电镜(SEM)、电子万能试验机和高温拉伸机,分析各种电沉积参数对铜箔显微组织和性能的影响。实验结果表明:铜箔的力学性能主要取决于其组织结构;电流密度、铜离子浓度以及添加剂PEG是影响铜箔的力学性能关键因素,三者对铜箔性能的作用机理相似,都是通过改变阴极极化来影响铜箔的电结晶过程,最终导致铜箔显微组织的变化。
蔡芬敏彭文屹易光斌何田杨湘杰黄永发袁智斌王平
关键词:铜箔电流密度聚乙二醇
共1页<1>
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