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黎修祺

作品数:9 被引量:17H指数:2
供职机构:中国科学院上海冶金研究所上海微系统与信息技术研究所更多>>
相关领域:机械工程生物学电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 5篇会议论文
  • 4篇期刊文章

领域

  • 2篇机械工程
  • 1篇生物学
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇交通运输工程

主题

  • 5篇气体
  • 3篇氧化铝
  • 3篇气体分析
  • 2篇色谱
  • 2篇湿度计
  • 2篇排气
  • 2篇气相
  • 2篇气相色谱
  • 2篇相色谱
  • 1篇电容法
  • 1篇形态分析
  • 1篇性能分析
  • 1篇性能及应用
  • 1篇氧传感器
  • 1篇氧化碳
  • 1篇氧化钛
  • 1篇有机硒
  • 1篇原子
  • 1篇原子吸收
  • 1篇原子吸收光谱

机构

  • 9篇中国科学院上...

作者

  • 9篇黎修祺
  • 3篇骆如枋
  • 3篇何焕南
  • 3篇毛平天
  • 2篇黄慧明
  • 1篇竺建英
  • 1篇吴立新

传媒

  • 2篇中国金属学会...
  • 1篇分析化学
  • 1篇分析仪器
  • 1篇低温与特气
  • 1篇化学传感器
  • 1篇全国第二届有...
  • 1篇中国仪器仪表...
  • 1篇1991年全...

年份

  • 2篇1994
  • 3篇1991
  • 2篇1988
  • 2篇1986
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
气体中微量水份的测定—露点法和氧化铝电容法被引量:2
1986年
在半导体材料及电子器件生产中,要用到诸如氢、氮、氧、氩和氦等高纯气体,气体纯度严重影响产品质量。如氢,氮等气体及其流经的系统中的水份和氧,对硅及Ⅲ一V族化合物是极其有害的杂质。在硅外延工艺中,氢中水份达100vpm时,硅外延层会变成多晶结构。在MOS大规模集成电路的硅栅多晶薄膜工艺中,若稀释气体中含有微量水份,使多晶硅薄膜中夹有“氧化硅集团”,从而在刻蚀多晶硅薄膜时,造成多晶硅脱落,致使电学性能变坏。由上可知,对高纯气体及其流经系统中的微量氧和水份必须进行监测和控制。
黎修祺骆如枋毛平天
关键词:电容法氧化铝气体纯度硅外延层微量氧硅栅
用WS型微量水份测定分析中微量水份
黎修祺毛天平骆如枋
关键词:气体温度影响湿度记录仪
用专用气相色谱仪测定发酵罐排气中二氧化碳
黎修祺何焕南吴立新
关键词:发酵罐排气二氧化碳气相色谱仪气体分析
二氧化钛氧传感器的研究被引量:1
1994年
测定汽车排气中氧,可以控制、减少汽车排气污染和提高汽车发动机的效率。前人指出,二氧化钛氧传感器可取代氧化锆法以测定汽车排气中氧。我们制成的烧结型二氧化钛氧传感器对低氧浓度非常敏感,可达ppm级。其测量范围为ppm级~7.0%O_2。
黎修祺黄慧明
关键词:二氧化钛传感器氧传感器汽车排气
高效变色干燥剂的研制及其在气体分析中的应用
何焕南黎修祺竺建英
关键词:干燥剂气体分析性能分析金属分析
气相色谱-石墨炉原子吸收光谱联机研究及有机硒的形态分析被引量:14
1991年
本文采用自制的接口直接连接气相色谱和石墨炉原子吸收光谱仪,建立了有机硒的形态分析方法。通过对气相色谱和原子吸收光谱的实验条件的优化选择,测定二甲基硒和二乙基硒的检出极限分别达到0.14ng和0.28ng,方法的相对标准偏差分别为1.9%和4.7%。标准曲线在0~20ng范围内线性良好。
朱秋滨黎修祺黄慧明
关键词:毛发形态分析
氧化铝湿度计的校准——动态校准法
1991年
氧化铝湿度计测定气体中水份是一个相对方法,需用标准方法进行校准.我们拟制了动态校准法.该方法解决了零点气体的获得;湿度的连续变化;湿度的绝对测量三个问题.本校准装置的校准范围为0.001~100PPmvH_2O(相当于-110℃~-20℃露点).调校后的校准曲线是一条近于45°的直线.经校准的氧化铝湿度计与多种测湿器进行对照测定,所得结果一致.这表明动态校准法和氧化铝湿度计的测定结果都是准确可靠的.对校准过程中应注意的问题进行了讨论.由误差分析估计出动态校准法的准确度可控制在±2℃露点以内.这与目前国外同类仪器的准确度基本相同.
黎修祺骆如枋毛平天
关键词:氧化铝湿度计
WS型氧化铝湿度计的性能及应用
黎修祺
关键词:湿度计氧化铝
化学吸收CO[*v2*]热导测定仪的研制及其应用
何焕南黎修祺毛平天
关键词:热导式分析仪器气体分析仪器结构形式气体分析
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