陈德良
- 作品数：15 被引量：14H指数：3
- 供职机构：贵州师范学院更多>>
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- 相关领域：电子电信理学文化科学轻工技术与工程更多>>
- 工程教育认证视域下光电信息科学与工程专业综合改革探索被引量：1
- 2023年
- 随着国家新工科建设推进,许多高校将工科专业的工程教育认证提上了重要的专业建设议程,但对标工程教育认证的标准,许多高校的工科专业建设水平与工程教育认证的标准还存在很大差距,亟须改进。本文基于贵州师范学院光电信息科学与工程专业综合改革的思路提出一种光电专业综合改革的方案,以期能够为同类兄弟院校提供有益参考。
- 陈德良李世雄廖丽君
- 关键词：专业综合改革工程教育认证
- 一种果酒加工用发酵装置及发酵工艺
- 本发明公开了一种果酒加工用发酵装置，包括基体，其外形为长方体形结构，所述基体的内部开设有腔体，且基体设置有抗震机构；密封转盖，其设置在所述基体的上端，所述密封转盖与基体构成旋转机构，且密封转盖设置有压榨机构；发酵液输入管...
- 韩宝银张珍明贺红早陈德良张家春吴先亮
- 文献传递
- 石英微通道内测量细胞表面电荷的研究被引量：1
- 2009年
- 为了具体测量细胞表面电荷量,设计了一种利用光镊、微通道和电泳测量细胞表面电荷的方法,并利用该方法测量得到酵母菌细胞表面电荷大约为10^(-10)C。结果表明,可以利用该方法测量细胞表面电荷变化。对测量系统进一步开发,可做成测量细胞表面电荷的生物分析芯片。
- 陈德良冯彩玲秦水介
- 关键词：医用光学与生物技术光镊电泳
- 基于矩阵积分法优化光刻部分相干成像模型
- 2016年
- 基于矩阵积分法实现了Matlab对光刻部分相干二维成像的模拟,验证了Matlab编写的部分相干程序的可行性,加入了离焦对光刻分辨率的影响。通过建立部分相干光光刻仿真模型,并在二极照明方式下,对离焦对光刻成像的影响进行了模拟计算。结果表明,矩阵积分法降低了程序运算所用时间,微小的离焦对光刻部分相干成像影响巨大,必须考虑离焦对光刻分辨率造成的影响。
- 彭清维陈德良
- 关键词：光刻工艺
- 单个脉冲作用下熔融石英的温度和热应力研究被引量：4
- 2016年
- 理论研究单个激光脉冲作用光学材料的温度和热应力分布模型,根据脉冲特征,分别建立适用于短脉冲和长脉冲的温度分布模型;进一步建立单个脉冲作用下的热应力模型。以熔融石英为例数值计算和分析了单个脉冲作用下的温度和热应力分布。研究结果表明,如果只求解单脉冲结束时的温度分布,长脉冲和短脉冲模型计算结果一致。单个激光脉冲辐照熔融石英,材料温度升高,如果温度达到材料融化或汽化温度,将导致材料的熔融汽化破坏,另一方面,在焦点区域温升不均匀,将导致热应力产生,如果热应力达到材料的力学破坏阈值,将诱导材料的热应力损伤。
- 李世雄张正平秦水介陈德良
- 关键词：激光脉冲温度热应力
- 一种啤酒加工用麦芽粉碎筛选装置及筛选方法
- 本发明公开了一种啤酒加工用麦芽粉碎筛选装置及筛选方法，包括粉碎仓和筛选仓，所述粉碎仓和筛选仓之间设置有匀料仓，所述筛选仓的内部设置有筛选盘，所述筛选盘的下方设置有接料斗，所述接料斗的下方活动连接有连接活动架，且连接活动架...
- 韩宝银张珍明张家春陈德良贺红早吴先亮
- 一种啤酒加工用麦芽粉碎筛选装置及筛选方法
- 本发明公开了一种啤酒加工用麦芽粉碎筛选装置及筛选方法，包括粉碎仓和筛选仓，所述粉碎仓和筛选仓之间设置有匀料仓，所述筛选仓的内部设置有筛选盘，所述筛选盘的下方设置有接料斗，所述接料斗的下方活动连接有连接活动架，且连接活动架...
- 韩宝银张珍明张家春陈德良贺红早吴先亮
- 文献传递
- 多频激励信号对离子能量分布的影响被引量：2
- 2012年
- 在等离子体多频电容放电过程中不同频率的电压、谐波、频率、是如何影响离子的能量分布,分析和把握这种现象和成因机制,对于更好地控制集成电路蚀刻等微处理技术,以及对等离子体物理基础理论研究均有重要作用。着重讨论高低频(双频)激励电容耦合放电过程中的粒子能量分布函数(IEDs),从理论分析推导出多频激励信号的离子能量分布函数计算模型。通过该计算模型可以分析和预测不同高低频激励的离子能量分布,计算结果与目前国内外公开发表学术期刊研究的相关结论基本吻合。
- 周筑文陈德良王元生李振宇
- 关键词：调制信号
- 光镊技术及应用研究
- 光镊与物体的作用利用的是光的力学效应,光子照射到物体上,由于光子具有一定动量,所以会对物体产生力的作用。但是单一的光子动量产生的力是非常小的,这使光的力学效应的应用受到限制。激光的诞生使利用光操纵微小物体变成可能。高度聚...
- 陈德良
- 关键词：光镊微通道电泳
- 文献传递
- 离轴照明强度不对称性对投影曝光光刻系统成像影响分析
- 2023年
- 本文对离轴照明强度不对称性对投影曝光光刻系统成像影响进行了分析。离轴照明相对传统照明来讲可以提高光刻系统成像的分辨率,是光刻系统常用的照明模式。但是离轴照明光源相对光轴的强度和位置不对称性,会对光刻成像产生较大影响。因此,本文一种利用自建的一种光刻成像仿真模型,利用此模型分析了离轴二极照明下,照明光源强度不对称对193nm深紫外光刻机90nm线宽的成像影响。仿真结果表明,照明光源强度均匀对称时,离焦对成像的影响很小,照明强度不对称时,离焦对成像的影响非常大。因此,光刻时要确保掩膜照明强度均匀,减小离焦对成像线宽的影响。
- 陈德良王玉清李世雄余宏
- 关键词：光刻系统离轴照明
