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莫超超

作品数:5 被引量:21H指数:3
供职机构:江苏大学更多>>
发文基金:国家重点实验室开放基金江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 4篇溅射
  • 4篇磁控
  • 4篇磁控溅射
  • 3篇摩擦学
  • 2篇性能研究
  • 2篇摩擦磨损性能
  • 2篇MOS
  • 2篇W
  • 1篇润滑
  • 1篇石墨
  • 1篇自润滑
  • 1篇微观结构
  • 1篇摩擦学性能
  • 1篇溅射制备
  • 1篇反应磁控溅射
  • 1篇复合材料
  • 1篇TIALN
  • 1篇TIALN薄...
  • 1篇XN
  • 1篇

机构

  • 5篇江苏大学
  • 1篇南京宝色股份...

作者

  • 5篇莫超超
  • 5篇李长生
  • 2篇晋跃
  • 2篇唐华
  • 2篇朱秉莹
  • 1篇廖东侯
  • 1篇杨峰
  • 1篇陈娟
  • 1篇李洪苹
  • 1篇郭志成
  • 1篇孙建荣
  • 1篇李学超
  • 1篇胡志立
  • 1篇丁建
  • 1篇廖东候

传媒

  • 3篇真空科学与技...
  • 1篇表面技术
  • 1篇真空

年份

  • 1篇2012
  • 3篇2011
  • 1篇2010
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
磁控溅射W-T-iN/MoS_2薄膜及其摩擦学性能研究被引量:6
2012年
采用W靶、Ti靶及MoS2靶,先制备W-T-iN薄膜,然后再在其上面沉积MoS2纳米薄膜得到W-T-iN/MoS2纳米双层薄膜,通过多次实验得到溅射W-T-iN/MoS2薄膜的最佳工艺如下:溅射气压1.0 Pa,靶基距为100 mm,溅射功率为:W靶,Ti靶均为200W,MoS2靶为150 W;制备W-T-iN薄膜溅射时间为1 h,样品台加热600℃;制备MoS2纳米层时间为0.5 h。使用X射线衍射仪,扫描电子显微镜对薄膜的成分和结构进行分析。采用纳米压痕测试系统测试薄膜的纳米硬度和弹性模量,采用VEECOWYKONT1100非接触光学表面轮廓仪测试薄膜的表面及磨痕粗糙度;UMT-3摩擦磨损试验机在大气、室温、无润滑条件下对薄膜摩擦磨损性能分析,结果表明:在大气环境中,W-T-iN/MoS2薄膜摩擦性能要优于纯W-T-iN薄膜。
胡志立李长生莫超超唐华孙建荣杨峰郭志成李洪苹
关键词:MOS2薄膜磁控溅射摩擦学性能
磁控溅射W_(1-x)Ti_xN薄膜的结构与摩擦学性能研究被引量:4
2010年
采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的W1-xTixN薄膜。用X射线衍射仪,扫描电子显微镜,能量散色谱等检测手段对薄膜的表面状态,化学成分以及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对不同成分WTiN薄膜的摩擦学性能进行了评价。试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在W0.80Ti0.20N和W0.18Ti0.82N的范围内发生变化;在经历了800℃,1 h的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了TiN,TiN0.6O0.4,W2N,W等多种物相结构;随着Ti含量的增加,薄膜的纳米硬度最高可达29.8 GPa,弹性模量最高可达277.5 GPa。一系列摩擦数据显示x=0.52的薄膜在所制备的WTiN薄膜体系中拥有最佳的摩擦学性能。
李学超李长生莫超超丁建朱秉莹
关键词:反应磁控溅射摩擦磨损性能
磁控溅射制备TiWN/MoS_2薄膜及其微观结构和摩擦学性能研究被引量:3
2011年
采用磁控溅射方法在40Gr不锈钢基体上,沉积了TiN及TiWN单层薄膜、TiN/MoS2及Ti-WN/MoS2双层薄膜,对比分析了薄膜的成分、相结构、微观形貌及摩擦学性能。结果表明:根据W含量的不同,TiWN薄膜中,Ti0.67W0.33N膜层具有较高的硬度和弹性模量;TiWN/MoS2薄膜中,TiWN层主要含有TiN和WN相,MoS2层含有MoS2和MoO3相;与TiN/MoS2薄膜比较,TiWN/MoS2薄膜具有更优异的减摩、耐磨性能,可减小材料的磨损,延长其使用寿命。
莫超超李长生晋跃廖东候
关键词:磁控溅射微观结构摩擦磨损性能
一种新的自润滑铜-石墨-NbSe_2复合材料的合成及摩擦性能研究被引量:2
2011年
研究了NbSe2的添加对铜-石墨固体自润滑材料的影响,采用粉末冶金法将制备的不同质量百分比含量的纤维状或片层状的纳米NbSe2材料与铜粉、石墨粉混合均匀,冷压制成小圆盘。采用光学显微镜,SEM(JSM-7001F扫描电子显微镜)等手段表征表面形貌。并在超低温摩擦磨损机和UMT-2摩擦试验仪上测试其摩擦性能。实验结果表明,两种NbSe2的加入使铜-石墨复合材料电阻率降低了近一半;常温常压下,添加了纤维状的NbSe2较片层状具有更好的摩擦学性能,在高载荷下甚至优于铜-石墨复合材料,在真空状态下,无论添加纤维状的还是片层状的NbSe2,复合材料的摩擦系数都远低于铜-石墨复合材料(M为0.257),并且两者在NbSe2添加质量百分比含量6%时达到最低,即铜-石墨-6%纤维状NbSe2为0.189,铜-石墨-6%片层状NbSe2为0.205。
廖东侯李长生唐华莫超超
磁控溅射TiAlN和WTiN薄膜的制备与摩擦性能研究被引量:7
2011年
采用双靶反应磁控溅射的方法在40Cr基体上制备了TiAlN薄膜和WTiN薄膜。用XRD,SEM,AFM等检测手段对薄膜的表面状态及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对TiAlN和WTiN薄膜的摩擦性能进行了评价。实验结果表明:TiAlN薄膜出现了两种硬质相TiN与TiAlN共存的物相结构,而WTiN薄膜出现了TiN0.6O0.4,TiN,W2N,WN等多种物相结构;制备的TiAlN、WTiN薄膜表面晶粒均匀细小,生长均以粒状结构为主;摩擦实验数据表明制备的TiAlN和WTiN薄膜均拥有良好的摩擦性能。
李学超李长生晋跃陈娟莫超超朱秉莹
关键词:TIALN薄膜
共1页<1>
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