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胡曾

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：华中师范大学物理科学与技术学院更多>>
发文基金：湖北省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇溅射
  • 1篇矫顽力
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇华中科技大学
  • 1篇华中师范大学

作者

  • 1篇胡曾
  • 1篇黄致新
  • 1篇崔增丽
  • 1篇张峰
  • 1篇杨晓非
  • 1篇董凯峰

传媒

  • 1篇华中师范大学...

年份

  • 1篇2007
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
Cu底层对SmCo薄膜磁性能的影响被引量：1
2007年
通过多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo/Cu磁性薄膜.采用控制变量法优化了磁性层溅射工艺参数,制备出了矫顽力高达2400 Oe的溅射态SmCo面内磁化膜;通过控制溅射Cu底层时的基片温度,薄膜磁化方向有从面内向垂直方向转变的趋势,并制备出矫顽力达到6215 Oe的垂直面内方向的SmCo/Cu薄膜;利用扫描隧道显微镜(STM)分析SmCo薄膜在不同温度下的表面形貌发现,150℃时薄膜的晶粒尺寸较小有利于改善薄膜磁性能.
张峰黄致新胡曾崔增丽董凯峰杨晓非
关键词：磁控溅射矫顽力
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共1页<1>
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