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肖昭强

作品数:5 被引量:13H指数:2
供职机构:南昌大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金江西省教育厅科技计划项目更多>>
相关领域:化学工程理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇气相沉积
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 2篇原位生长
  • 2篇气相
  • 2篇气相沉积法
  • 2篇热氧化
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米线
  • 2篇化学气相沉积...
  • 2篇玻璃基
  • 2篇玻璃基板
  • 1篇氮掺杂
  • 1篇氧化钛
  • 1篇无机非金属
  • 1篇无机非金属材...
  • 1篇光催化
  • 1篇二氧化钛
  • 1篇二氧化钛光催...
  • 1篇非金属材料

机构

  • 5篇南昌大学

作者

  • 5篇肖昭强
  • 4篇杜军
  • 3篇余雁斌
  • 3篇黄晶晶
  • 3篇邹建国
  • 2篇彭海龙
  • 2篇刘娇
  • 2篇张文龙
  • 2篇李不悔
  • 2篇石佳光
  • 2篇吴其
  • 2篇罗美
  • 1篇郑典模
  • 1篇傅华强

传媒

  • 1篇南昌大学学报...
  • 1篇无机盐工业

年份

  • 2篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2012
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
自诱导化学气相沉积法制备氧化钛纳米线的方法
一种自诱导化学气相沉积法制备氧化钛纳米线的方法,其特征是以TiCl<Sub>4</Sub>作为Ti源,以O<Sub>2</Sub>作为O源,以SiH<Sub>4</Sub>作为Si源,以N<Sub>2</Sub>为稀释气...
杜军黄晶晶余雁斌肖昭强石佳光罗美张文龙彭海龙邹建国
硅化钛薄膜的APCVD工艺研究
硅化钛兼具低电阻率、耐高温及稳定性好等优点,广泛应用在集成电路和高温材料等领域。本文以 TiCl4-SiH4-N2为反应体系,在玻璃基板上常压化学气相沉积法(APCVD)制备得硅化钛薄膜。实验通过研究Si/Ti摩尔比、反...
肖昭强
关键词:常压化学气相沉积表面形貌
文献传递
氮掺杂对二氧化钛光催化性能的影响被引量:11
2013年
采用溶胶-凝胶法,以硝酸铵为氮源,制备了氮掺杂二氧化钛薄膜,通过紫外可见吸收光谱(UV-VIS)、扫描电镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、X射线衍射(XRD)对氮掺杂二氧化钛进行表征,并以亚甲基蓝为降解模型,探讨了氮掺杂对二氧化钛光催化性能的影响。结果表明:当氮掺杂量为11%、煅烧温度为450℃时,其吸收光谱明显发生红移,样品的光催化活性最好。随着氮掺杂量的增加,薄膜的催化性能先增后减,主要原因是氮掺杂会影响晶相颗粒的生长和产生缺陷,薄膜表面更加粗糙,比表面积增大。煅烧温度对薄膜的催化性能的影响也呈现先增后减,因为煅烧温度会影响二氧化钛晶型的转变和结晶度的变化。
黄晶晶杜军余雁斌李不悔肖昭强傅华强吴其刘娇郑典模邹建国
关键词:氮掺杂二氧化钛光催化
自诱导化学气相沉积法制备氧化钛纳米线的方法
一种自诱导化学气相沉积法制备氧化钛纳米线的方法,其特征是以TiCl<Sub>4</Sub>作为Ti源,以O<Sub>2</Sub>作为O源,以SiH<Sub>4</Sub>作为Si源,以N<Sub>2</Sub>为稀释气...
杜军黄晶晶余雁斌肖昭强石佳光罗美张文龙彭海龙邹建国
文献传递
Ti_5Si_3的研究进展被引量:2
2013年
概述了Ti5Si3的物理结构和化学性质,展现出其熔点高、密度低、电阻率低、硬度高、高温强度大、抗高温氧化性能好和化学性质稳定等性质。对Ti5Si3合金材料及其薄膜的固固、固液、固气和气气反应制备工艺及其优缺点进行了较为系统的阐述。并结合Ti5Si3的优良性能,对其在高温结构材料、镀膜材料、电子器件、微电极和微传感器材料领域的应用进行了重点介绍。
杜军肖昭强李不悔吴其刘娇
关键词:无机非金属材料TI5SI3
共1页<1>
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