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甘正浩

作品数：4 被引量：21H指数：3
供职机构：浙江大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺一般工业技术化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇铜
  • 3篇改性
  • 3篇表面改性
  • 2篇渗层
  • 2篇渗硅
  • 1篇渗层性能
  • 1篇渗硅层
  • 1篇铜合金
  • 1篇气相沉积
  • 1篇抗氧化
  • 1篇抗氧化性
  • 1篇扩散
  • 1篇化学热处理
  • 1篇含硅
  • 1篇合金
  • 1篇改性工艺
  • 1篇表面改性工艺
  • 1篇纯铜

机构

  • 4篇浙江大学

作者

  • 4篇甘正浩
  • 3篇叶必光
  • 3篇毛志远
  • 2篇沈复初
  • 2篇郦剑

传媒

  • 2篇材料科学与工...
  • 1篇金属热处理学...

年份

  • 2篇1997
  • 2篇1996
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
铜在含硅气氛中表面改性的化学热处理研究被引量：6
1996年
对铜在含硅气氛中低温沉积、随后进行扩散处理的表面化学热处理进行了研究。使用光学显微镜、Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）仪、电子探针（ＥＰＭＡ）等对渗层进行了显微硬度、成分和结构分析，探讨了工艺参数对渗层的影响。研究结果表明，通过这种表面化学热处理可以在铜表面形成Ｃｕ５Ｓｉ和Ｃｕ１５Ｓｉ４，其硬度较基体有很大提高。
沈复初叶必光郦剑毛志远甘正浩晋圣发
关键词：表面改性化学热处理铜
铜的表面含硅渗层的结构与性能被引量：16
1997年
本文综述了利用ＳｉＨ４／Ｈ２混合气体在纯铜表面获得的含硅渗层的结构和性能。试验结果表明：通过纯铜表面气体渗硅这一新的化学热处理方法，其表面获得含硅渗层，可以改善铜的表面摩擦磨损。
甘正浩毛志远沈复初郦剑叶必光
关键词：渗硅层抗氧化性铜
铜的气体表面渗硅新工艺研究被引量：4
1996年
本文研究了纯铜的气体表面渗硅新工艺，也即在含硅气氛下低温沉积和扩散表面改性的工艺研究情况。
甘正浩毛志远沈复初郦剑叶必光
关键词：表面改性气相沉积扩散铜合金
纯铜气体渗硅表面改性工艺及其性能研究
甘正浩
关键词：表面改性渗层性能
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共1页<1>
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