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王志娜

作品数:2 被引量:5H指数:1
供职机构:河北省科学院更多>>
相关领域:理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 2篇金刚石膜
  • 1篇金刚石
  • 1篇功率
  • 1篇刚石
  • 1篇表面金属化
  • 1篇大面积金刚石...
  • 1篇高功率

机构

  • 2篇河北省科学院
  • 1篇北京科技大学

作者

  • 2篇潘存海
  • 2篇王志娜
  • 2篇吴晓波
  • 2篇崔文秀
  • 1篇唐伟忠
  • 1篇唐才先
  • 1篇罗廷礼
  • 1篇臧建民
  • 1篇吕反修
  • 1篇钟国仿
  • 1篇何奇宇
  • 1篇张永贵
  • 1篇杜素梅
  • 1篇郭辉
  • 1篇李国华
  • 1篇孙振路
  • 1篇王少岩

传媒

  • 1篇河北省科学院...

年份

  • 1篇1999
  • 1篇1997
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
廉价制备大面积金刚石膜的高功率直流等离子体喷射设备的研制被引量:5
1997年
本文介绍了在863新材料领域资助下最新研制成功的100kw级高功率直流等离子体喷射(DCPlasmaJet)金刚石膜沉积系统。利用该系统在氩气—氢气—甲烷气体系中进行了初步的工艺试验,经过40小时的连续运行,在Φ110mm的基片上沉积出中心厚1.9mm,边沿厚1.6mm的金刚石膜。平均生长速率达44μm/h。
臧建民潘存海唐才先杜素梅罗廷礼张永贵康增江石尔平王少岩孙振路郭辉崔文秀李国华王志娜吴晓波臧怀壮钟国仿王豪唐伟忠吕反修
关键词:金刚石
金刚石膜半导体热沉焊前表面金属化工艺研究
金刚石膜因其优良的热导率和良好的电绝缘性能,为制造半导体热沉创造了极好的条件。为了实现金刚石膜热沉应用于半导体器件,焊前必须金属化。本文利用电子束真空蒸镀法研究了金刚石膜金属化工艺。金刚石膜金属化后薄膜化学成分分析采用R...
潘存海何奇宇崔文秀王志娜吴晓波
关键词:金刚石膜表面金属化
文献传递
共1页<1>
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