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张学科

作品数:4 被引量:4H指数:1
供职机构:合肥工业大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:安徽省高校省级自然科学研究项目国家重点基础研究发展计划安徽省自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 4篇溅射
  • 4篇磁控
  • 3篇电致变色
  • 3篇WO3薄膜
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇电致变色器件
  • 2篇直流磁控
  • 2篇直流磁控溅射
  • 2篇射频磁控
  • 2篇WO
  • 1篇电学性能
  • 1篇电致变色薄膜
  • 1篇制备及性能
  • 1篇射频磁控反应...
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇晶态
  • 1篇溅射气压
  • 1篇光电
  • 1篇光电性
  • 1篇光电性能

机构

  • 4篇合肥工业大学

作者

  • 4篇张学科
  • 3篇周矗
  • 3篇李合琴
  • 2篇陶磊
  • 2篇王伟
  • 1篇黄依琴
  • 1篇左敏

传媒

  • 2篇合肥工业大学...
  • 1篇稀有金属与硬...

年份

  • 1篇2015
  • 3篇2014
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
晶态WO_3电致变色薄膜和器件的制备及性能研究被引量:2
2014年
文章用射频磁控反应溅射法,以钨靶为溅射靶材,在玻璃和ITO衬底上分别制备了WO3薄膜,氧气和氩气的流量比值为5∶25,工作气压为1.5Pa,所有样品均进行了400℃保温1h的退火。通过改变溅射功率,研究了功率对WO3薄膜的相组成、表面形貌、可见光透过率的影响,最终得到溅射功率为100~70 W的WO3晶态薄膜的电致变色性能最好。
张学科李合琴周矗颜毓雷王伟乔恺
关键词:射频磁控反应溅射电致变色
溅射气压对WO_3薄膜电致变色器件性能的影响被引量:1
2015年
采用磁控溅射法,以溅射气压为变量,在ITO导电玻璃上制备了WO3薄膜及TiO2薄膜,将Li+聚合物电解质涂覆于这两种薄膜之间封装成固态电致变色器件。采用XRD、AFM对WO3薄膜进行结构表征和形貌观察;采用直流稳压电源对器件进行电致变色测试,并以分光光度计测定其着色/褪色态可见光透过率。结果表明:1.5Pa溅射气压下原位沉积WO3薄膜含较多的金属W;2.0~3.0Pa溅射气压下得到了非晶态WO3薄膜;2.0Pa溅射气压下得到的WO3薄膜表面分布有狭长的颗粒团簇,表面积较大,便于着色或褪色时Li+与电子的注入或脱出,故其所封装器件的调制幅度最大,响应最快;随溅射气压的增大,WO3薄膜表面缺陷增多,器件变色性能恶化。
王伟李合琴陶磊张学科乔恺周矗黄依琴左敏
关键词:WO3薄膜电致变色器件直流磁控溅射溅射气压表面形貌
WO3薄膜电致变色器件的制备及性能研究
电致变色是指材料颜色在外加电场的作用下发生可逆变化的现象。三氧化钨(WO3)是一种重要的电致变色功能材料,WO3薄膜变色前后具有较大的可见光透过率变化幅度、优良的可逆性、较低的成本、较长的循环使用寿命以及环境友好等优点,...
张学科
关键词:WO3薄膜射频磁控溅射电致变色电学性能
文献传递
V_2O_5/V/V_2O_5复合膜的制备及其光电性能研究被引量:1
2014年
文章采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了V2 O5/V/V2 O5复合膜,通过改变中间层钒的溅射时间,制备了3组薄膜。所有薄膜均在450℃空气气氛中退火60 min。用四探针测试仪测试了薄膜的电学性能,用X射线衍射仪对薄膜的结构组分进行分析。实验结果表明,当V层溅射时间为25 min时,经450℃退火后的薄膜方块电阻为38.5 kΩ,电阻温度系数为-0.0218 K -1,在700~1400 nm波段红外吸光度均在0.6以上,符合非致冷微测辐射热计的应用要求。
颜毓雷李合琴乔恺张学科周矗陶磊
关键词:V2O5V直流磁控溅射光电性能
共1页<1>
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