尹明
- 作品数：17 被引量：36H指数：3
- 供职机构：山东大学更多>>
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- 相关领域：电子电信理学核科学技术自动化与计算机技术更多>>
- 电子束背散射在胶层中的能量沉积被引量：2
- 2002年
- 模拟了散射电子在PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯 )电子束胶层中的能量沉积分布。在处理电子穿越衬底的边界时 ,采用了几率确定法 ,用以判断电子是否在界面处发生一次弹性散射。
- 张玉林尹明孙晓军
- 关键词：胶层
- 电子束曝光机偏转系统及可动物镜分析被引量：4
- 2004年
- 电子束大扫描场偏转系统设计中 ,像差的确定是一个必须解决的实际问题。以SDS 3电子束曝光机的磁复合偏转系统为基础 ,以双通道扫描原理进行扫描 ,分析了像差与电子束主轨迹的关系。给出了可动物镜的条件 ,并利用这一条件分析电子束最佳轨迹的结构和方法。并使用计算机辅助设计研究电子束曝光机聚焦偏转系统的结构。由该电子束曝光机试验结果表明 ,复合系统结构简单紧凑 ,像差小而可以不用动态校正。采用矢量描写电子轨迹 ,以积分式表示像差。以 0 .0 0 5rad半张角 ,5× 10 -5的高压纹波 ,5 0mm的像距 ,10mm× 10mm扫描场的边脚处 ,使动态校正前的总像差为 0 .0 3μm。
- 尹明张玉林
- 关键词：偏转系统像差动态校正光刻技术
- 快速数模动态测试
- 2003年
- 阐述了以开环数字高频振荡发生器将数模转换器输出阶梯波的任一部分 ,在宽带示波器上显示出来的动态测试设备 .对数模转换器的差分线性、镇定时间以及开关瞬态幅度等动态指标直观迅速的进行评价 .能对 5 0MHz以下 ,字长 18bit以内的数模转换器进行测试 .
- 何立琴尹明
- IH工艺的发展及应用被引量：6
- 2003年
- 介绍了IH系列立体光刻技术。使用该系列技术可以加工出具有高深宽比和复杂曲面的各种微结构,可以容易地加工出微可动部件、电子聚合物组合结构和不同聚合物的全聚合物结构,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出这种方法目前存在的缺陷。
- 孔祥东张玉林尹明
- 关键词：立体光刻抗蚀剂微机电系统
- 电子束背散射与前散射的分析被引量：3
- 2004年
- 利用电子束曝光机完成有关邻近效应的实验 .曝光过程中加速电压为 5～ 30kV ,衬底基片为铬和PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯 ) .在处理模拟电子穿越衬底PMMA的边界时 ,采用了几率确定法 ,用以判断电子是否在界面处发生一次弹性散射 .得到了散射电子在电子束胶层中背散射与前散射的能量沉积分布图 .实际应用表明 ,该方法像差小而可以不用动态校正 .
- 尹明何立琴
- 关键词：电子束曝光机
- 电子束三维光刻技术的研究被引量：14
- 2003年
- 在IH(IntegratedHardenPolymerStereoLithography)技术和电子束光刻技术的基础上提出了电子束微三维光刻技术新概念。对其实现方法的可行性进行了简要的理论分析,并使用SDV-II型真空腔在约1.33Pa的真空下对环氧618、WSJ 202和苏州2号抗蚀剂进行了气化试验,得出了它们在真空中的气化实验结果,证明了电子束液态光刻的可行性。
- 孔祥东张玉林尹明
- 关键词：IH抗蚀剂
- 电子束加速器维纳尔的研究(英文)
- 2005年
- 由于电子束理论上可聚成直径小于 1nm的束斑 ,易于控制 ,在超大规模集成电路掩模制造中起的重要作用 ,目前仍无法用其他方法所代替 .以SDS 3电子束设备的电子枪为基础 ,讨论了双曲凹面加速器维纳尔 (外敷碱土金属氧化物盖 )的电子轨迹与能量分布 .通过这一维纳尔电子被送达硅片靶心 (置于光阑前 ) .最后给出了刻蚀硅片的束斑和加速器维纳尔的图 .
- 尹明周晓雁
- 关键词：电子束电子轨迹加速器
- 电子束静电折板偏转系统研究被引量：2
- 2005年
- 以SDS -3电子束曝光机为基础,用折板结构静电偏转替代直板结构静电偏转,探讨了电子束曝光机折板静电偏转场的电子轨迹与电位分布应满足的要求。导出了折板静电偏转灵敏度与电位分布之间的关系,给出静电偏转像差方程及像差系数。用矢量描写电子轨迹,以积分式表示像差系数,给出了折板结构方程与参量。像差系数适应计算机辅助运算。结果表明,折板结构静电偏完成的图像像差明显优于原直板结构静电偏。提供了静电折板偏转与直板偏转的相关计算数据及摩尔栅条纹图。
- 尹明金萍孙晓军柴杉
- 关键词：电子束像差折板结构静电偏转曲率
- 电子束在MEMS加工中邻近效应的分析与补偿
- 2004年
- 电子束刻蚀后,通过刻蚀改变了薄膜基片中的分子的重量,并导致希望曝光区域和实际曝光区域不一致,这一现象被称为“邻近效应”。利用SDS-3电子束曝光机完成有关邻近效应的试验。加工过程中加速电压为5～30kV,衬底基片为硅和PMMA,使校正后邻近效应参量η减少30％。给出实际完成基片图。
- 尹明张玉林程建辉
- 关键词：微机电系统
- 细电子束Cockcroft-Walton加速器的研究被引量：3
- 2004年
- 细电子束由加速器通过电子枪发射电子 ,经电子透镜及偏转射向目标靶 .以SDS 3电子束曝光机为基础 ,完成了电子束Cockcroft Walton加速器噪声抑制的最优状态实验 .系统为加速器调整电路提供一个正比于输入电压的电流 .补偿放大器是由一个主放大器和一个辅助放大器组成 ,辅助放大器消除了主放大器自身的失调漂移 .文中介绍了复合调整式Cockcroft Walton加速器的总体设计方案 ,给出了实现加速器高稳定度的关键技术措施 .从加速器总输出中滤去噪声信号 ,获得稳定的输出电压 。
- 尹明孙晓军
- 关键词：电子束电子透镜噪声抑制补偿电路稳定度
