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孙辉

作品数：2 被引量：21H指数：1
供职机构：清华大学材料科学与工程系更多>>
发文基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：航空宇航科学技术一般工业技术金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇航空宇航科学...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇氧化动力学
  • 1篇氧化膜
  • 1篇散射
  • 1篇离子注入
  • 1篇卢瑟福
  • 1篇卢瑟福背散射
  • 1篇光电子能谱
  • 1篇航空材料
  • 1篇背散射
  • 1篇NB
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光电子...
  • 1篇钇
  • 1篇铌
  • 1篇镧
  • 1篇成膜
  • 1篇纯锆

机构

  • 2篇清华大学
  • 1篇中国腐蚀与防...

作者

  • 2篇孙辉
  • 2篇白新德
  • 1篇孙辉
  • 1篇邱钦伦
  • 1篇甘东文
  • 1篇彭德全
  • 1篇潘峰

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇清华大学学报...

年份

  • 1篇2005
  • 1篇1998
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
纯锆上离子注入钇和镧后的表面分析被引量：1
2005年
用金属蒸汽真空弧源,以40kV加速电压对纯锆样品分别进行了1016—1017/cm2的钇、镧离子注入,注入温度约为130℃.然后对注入样品进行表面分析.x射线光电子能谱分析表明,注入的钇以Y2O3形式存在,镧以La2O3形式存在.俄歇电子能谱表明,纯锆基体表面的氧化膜厚度随着离子注入剂量的增加而增加,当离子注入剂量达到1017/cm2时,氧化膜的厚度达到了最大值.卢瑟福背散射显示镧层的厚度约为30nm,同时直接观察到当离子注入剂量为(La+Y)1017/cm2时,纯锆样品表面发生了严重的溅射.
彭德全白新德潘峰孙辉
关键词：纯锆卢瑟福背散射X射线光电子能谱
Nb 在空气中的氧化动力学及成膜机制的研究被引量：20
1998年
研究了Ｎｂ在空气中（温度低于５００℃）的氧化动力学规律。用离子注入惰性气体（Ｘｅ离子）作为标记、用卢瑟福背散射（ＲＢＳ）分析研究了Ｎｂ氧化膜的成膜区域及离子迁移机制。利用椭偏仪测量了氧化膜厚度，用Ｘ射线分析、Ｘ射线电子能谱（ＸＰＳ）分析研究了氧化膜的成分及价态，最后探讨了温度对标记原子的影响。
白新德邱钦伦甘东文蔡学军孙辉
关键词：航空材料铌氧化膜
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