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侯宪华

作品数：15 被引量：0H指数：0
供职机构：沈阳芯源微电子设备有限公司更多>>
相关领域：轻工技术与工程自动化与计算机技术电子电信金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 14篇专利
  • 1篇科技成果

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 10篇晶片
  • 4篇喷嘴
  • 4篇半导体
  • 3篇丝杠
  • 3篇气缸
  • 3篇清洗液
  • 3篇轴承
  • 3篇轴承座
  • 3篇连接板
  • 3篇半导体晶片
  • 2篇压力开关
  • 2篇掩模
  • 2篇掩模板
  • 2篇真空
  • 2篇真空管
  • 2篇真空系统
  • 2篇无泄漏
  • 2篇码盘
  • 2篇毛刷
  • 2篇模版

机构

  • 15篇沈阳芯源微电...

作者

  • 15篇侯宪华
  • 5篇张军
  • 1篇徐春旭
  • 1篇张怀东
  • 1篇赵宇
  • 1篇宗润福
  • 1篇王绍勇

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 4篇2011
  • 4篇2010
  • 2篇2009
  • 2篇2008
共 15 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
一种晶圆的生产中的清洗方法
本发明涉及半导体领域，具体的说是一种晶圆的生产中的清洗方法。在晶圆的生产中晶片以及设置在清洗装置上的毛刷分别自旋转，使毛刷与晶圆之间进行相对摩擦运动，并在自转过程中由清洗装置上上设置的喷头向晶圆上喷淋清洗液；所述清洗液为...
侯宪华
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扫描清洗装置
本实用新型涉及半导体晶片加工过程中对晶片清洗的技术，具体地说是一种实现对晶片表面进行清洗的扫描清洗装置，可解决传统的清洗结构喷射角度、位置固定而容易产生死角等问题。该装置设有喷嘴马达、主轴马达、承片台、喷嘴、喷嘴轴、喷嘴...
侯宪华张军
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半导体晶片自动对中机构
本发明涉及在半导体晶片加工过程中对晶片对中并实现晶片升降的技术，即机械对中及升降机构，具体为一种半导体晶片自动对中机构，可以解决晶片对中精度的控制上难度较大等问题，它是满足半导体晶片加工对中精度要求的自动对中方式。该对中...
侯宪华张军
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超大规模集成电路制造专用显影设备国产化开发
胡延兵王绍勇宗润福徐春旭张怀东侯宪华
1、技术来源及背景:集成电路制造历经1.0μm、0.50μm、0.25μm、0.18μm、0.13μm、90nm、65nm等技术节点，朝向32nm、22nm迈进。这一技术进步是依靠工艺开发、先进专用设备、新材料应用等三大...
关键词：
关键词：超大规模集成电路
晶片检测装置
本发明涉及半导体晶片加工过程中对晶片扫描记录的技术，具体的说是一种晶片检测装置，对被加工晶片片盒内晶片数量及其位置的记录，解决现有技术中存在的对片盒扫描时间长，影响设备产能等问题。该装置设有承片台、接近开关、压力开关、支...
侯宪华
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真空缓冲装置
本发明涉及半导体晶片加工过程中真空系统问题的应对技术，具体的说是一种真空缓冲装置，当设备隐没种原因而突然停止真空供应时，则该系统会发挥作用，保证设备不会因此而造成碎片等损失，起到安全保障的作用。该装置设有真空包、废物收集...
侯宪华
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平面模块式设备结构
本发明涉及半导体匀胶领域，具体为一种平面模块式设备结构，它是应用于半导体制程中对晶片涂覆工艺中匀胶设备。该设备结构设有位于同一平面的热盘I、工艺模块、片盒、热盘II、两轴机械手，两轴机械手在中心，热盘I、工艺模块、片盒、...
侯宪华孙东丰
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毛刷清洗装置及其使用方法
本发明涉及掩模版清洗领域，具体为一种毛刷清洗装置，用于掩模版清洗生产中的毛刷清洗及其使用方法，解决在其工作中出现的造成掩模版表面划伤，清洗不干净等问题。该装置设有清洗液喷嘴、DI水喷嘴、毛刷，毛刷与掩模板表面相对应，在毛...
侯宪华
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半导体晶片自动对中机构
本发明涉及在半导体晶片加工过程中对晶片对中并实现晶片升降的技术，即机械对中及升降机构，具体为一种半导体晶片自动对中机构，可以解决晶片对中精度的控制上难度较大等问题，它是满足半导体晶片加工对中精度要求的自动对中方式。该对中...
侯宪华张军
文献传递
毛刷清洗装置及其使用方法
本发明涉及掩模版清洗领域，具体为一种毛刷清洗装置，用于掩模版清洗生产中的毛刷清洗及其使用方法，解决在其工作中出现的造成掩模版表面划伤，清洗不干净等问题。该装置设有清洗液喷嘴、DI水喷嘴、毛刷，毛刷与掩模板表面相对应，在毛...
侯宪华
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