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陕西微电子学研究所

作品数:60 被引量:31H指数:3
相关作者:沈绪榜袁小龙梁松海王方李荫波更多>>
相关机构:北京师范大学江苏自动化研究所国防科学技术大学更多>>
发文基金:中国博士后科学基金更多>>
相关领域:自动化与计算机技术电子电信经济管理电气工程更多>>

文献类型

  • 51篇期刊文章
  • 9篇会议论文

领域

  • 27篇自动化与计算...
  • 21篇电子电信
  • 2篇经济管理
  • 1篇电气工程

主题

  • 18篇电路
  • 11篇集成电路
  • 10篇体系结构
  • 9篇计算机
  • 5篇刻蚀
  • 5篇反应离子
  • 5篇VLSI
  • 5篇场效应
  • 4篇亚微米
  • 4篇数字系统
  • 4篇微米
  • 4篇离子刻蚀
  • 4篇晶体管
  • 4篇计算机结构
  • 4篇计算机体系
  • 4篇计算机体系结...
  • 4篇反应离子刻蚀
  • 4篇RISC
  • 4篇场效应晶体管
  • 4篇程序设计

机构

  • 60篇陕西微电子学...
  • 1篇北京大学
  • 1篇北京师范大学
  • 1篇国防科学技术...
  • 1篇西安交通大学
  • 1篇江苏自动化研...
  • 1篇北京计算机应...

作者

  • 35篇沈绪榜
  • 15篇黄敞
  • 8篇余山
  • 8篇袁小龙
  • 5篇蒋安平
  • 5篇石涌泉
  • 3篇张兴
  • 3篇李荫波
  • 3篇王方
  • 3篇王新安
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  • 3篇梁松海
  • 2篇任文杰
  • 2篇袁华
  • 2篇徐大林
  • 2篇彭忠献
  • 1篇任文杰
  • 1篇王忠烈
  • 1篇曹喜信
  • 1篇杜敏

传媒

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  • 6篇Journa...
  • 6篇计算机技术与...
  • 4篇计算机学报
  • 4篇第六届全国电...
  • 3篇计算机工程与...
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  • 2篇第三届全国青...
  • 1篇系统工程与电...
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  • 1篇电子工艺技术
  • 1篇计算机研究与...
  • 1篇电子学报
  • 1篇中国计算机用...
  • 1篇计算机辅助设...
  • 1篇微处理机
  • 1篇微电子学
  • 1篇航天工艺

年份

  • 2篇2003
  • 1篇1998
  • 9篇1997
  • 3篇1996
  • 2篇1994
  • 6篇1993
  • 11篇1992
  • 17篇1991
  • 6篇1990
  • 3篇1989
60 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种新的内部表示模型
1997年
高级综合技术的研究在当前倍受关注。高级综合的第一步是将以算法形式给出的数字系统的行为描述转化为综合设计的内部表示,而后在此基础之上进行其它子任务。文中提出了一种新的赋值决策图(ADG)的内部表示模型,该模型的最大特点是可解决高级综合系统中所存在的语法变化问题,它能够表示出给定的设计的最大并行性,并且具有可自动生成及容易理解的特点。
袁小龙沈绪榜
关键词:数字系统
三维计算机及其实现技术
1996年
本文介绍了用于大规模并行处理的三维计算机的概念,探讨了其处理器和控制器的基本结构,介绍了利用WSI引方法实现三维计算机的三种基本技术。
沈绪榜蒋安平
关键词:并行处理计算机
反应离子刻蚀(RIE)Si#-[3]N#-[4]的研究
余山章定康黄敞
关键词:离子束加工集成电路
一个有效的圆片规模布局算法
1993年
本文提出了一个圆片规模布局算法,它是国外一个相应算法的改进形式,区别在于利用力定向布局法的方式不同。在相对位置阶段,该算法利用布局的层次特性将需确定所有电路元件相对位置的问题缩减至仅需确定宏电路元件相对位置的问题;在实际位置阶段,采用分治策略和取消前阶段层次划分的方式回避了需确定任意元实际位置的问题。其时间复杂度远低于国外相应算法。
任文杰陈福接沈绪榜
关键词:分治策略电路元件
实现技术与计算机体系结构
1991年
本文主要从实现技术的角度来看计算机的RISC体系结构、Array体系结构、WSI体系结构以及Neuron体系结构的兴起与发展。
沈绪榜
关键词:体系结构阵列神经元
一种循环结构的折叠调度算法被引量:1
1997年
操作调度是高级综合中的重要任务。本文提出了一种采用循环折叠对循环结构进行调度的调度算法。该算法可处理具有迭代间数据依赖的循环结构,复杂度低,采用它可获得具有最小迭代时间的循环结构的调度。经实验证明,该算法具有简单易懂且运行速度快的特点,特别适合数字信号处理应用。
袁小龙沈绪榜
关键词:数字系统
反应离子刻蚀工艺用于抑制SOI器件边缘寄生效应的研究
1992年
本文较为详细地分析了SOI器件的边缘寄生效应,在这一基础上研究了能够较好地抑制此效应的反应离子刻蚀工艺。应用这种新工艺,已成功地研制出了漏电流仅为3pA的NMOS晶体管。
张兴石涌泉黄敞
关键词:SOI刻蚀工艺
PGA:可编程门阵列
1991年
本文从PGA的发展概况开始,以三个公司的PGA产品为背景,讨论了PGA的体系结构,可重构模块,以及可编程互连网等问题.
沈绪榜
关键词:门阵列PGA程序设计
应用于VLSI的PSSWS-LDD MOSFET优化工艺研究被引量:2
1990年
提出实现VLSI的PSSWS(Poly Silicon Side Wall Spacer)—LDD(Lightly DopedDrain)结构,研究了它的形成工艺,获得多晶侧壁形成的优化工艺条件,制作出亚微米有效沟道长度的LDD NMOSFET。在器件性能研究和计算机模拟的基础上,得到PSSWS—LDDMOSFET的优化工艺实现条件;此条件下实现的有效沟道长为0.8μm的PSSWS—LDDNMOSFET,源漏击穿电压达20V,常规器件的小于16V;衬底电流较常规器件的减小约二个数量级。利用此优化条件,研制出高性能的1μm沟道长度的CMOS CD4007电路,2μm沟道长的21级CMOS环振,LSI CMOS 2.5μm沟道长度的门阵列电路GA 300 5SD。结果表明:PSSWS—LDD MOSFET性能衰退小,速度快,可靠性高,适用于VLSI的制造。
徐大林王方李荫波彭忠献黄敬
关键词:VLSIMOSFET
计算机体系结构
沈绪榜
关键词:计算机结构功能分析计算机科学
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