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友技科株式会社
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相关机构:
三菱商事塑料株式会社
麒麟麦酒株式会社
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相关领域:
一般工业技术
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2012
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2011
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2010
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2007
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2006
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2005
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2004
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等离子体化学气相沉积装置以及成膜方法
本发明的课题在于提供一种能够在立体形状的基材的侧面使膜均匀性良好地成膜的等离子体CVD装置。为此,本发明的一方式是一种等离子体CVD装置,其具备:腔室(11);提供高频输出的高频电源(6);配置在所述腔室内,与所述高频电...
桥本卫
铃木光博
阿部浩二
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制造被覆有气体阻隔膜的塑料容器的方法
一种制造被覆有气体阻隔膜的、具有高气体阻隔性的塑料容器的方法,其中解决了常规方法中存在的问题,在所述的常规方法中,气体阻隔膜的形成受到了塑料容器中吸收的水分子的阻碍而制成了具有低气体阻隔性的容器。该方法的特征在于包含以下...
竹本圭秀
鹿毛刚
小林巧
白仓昌
文献传递
PBNZT强电介质膜、溶胶凝胶溶液、成膜方法及强电介质膜的制造方法
本发明提供一种可以充分地防止氧离子的缺损的PBNZT强电介质膜。本发明的PBNZT强电介质膜是由以ABO<Sub>3</Sub>表钙钛矿结构强电介质构成的强电介质膜,其特征在于,所述钙钛矿结构强电介质是作为A点位离子含有...
木岛健
本多祐二
文献传递
多边滚筒溅射装置及其溅射方法
本发明提供一种用于在微粒子的表面上被覆粒径比该微粒子小的超微粒子或者薄膜的多边滚筒溅射装置、多边滚筒溅射方法及由其形成的被覆微粒子、微型胶囊及其制造方法。本发明的多边滚筒溅射方法是:将微粒子(3)收容在相对于重力方向大致...
阿部孝之
渡边国昭
本多祐二
文献传递
多边滚筒溅射装置及其溅射方法、由其形成的被覆微粒子
本发明提供一种用于在微粒子的表面上被覆粒径比该微粒子小的超微粒子或者薄膜的多边滚筒溅射装置、多边滚筒溅射方法及由其形成的被覆微粒子、微型胶囊及其制造方法。本发明的多边滚筒溅射方法是:将微粒子(3)收容在相对于重力方向大致...
阿部孝之
渡边国昭
本多祐二
文献传递
等离子体CVD装置、等离子体CVD方法
本发明提供一种通过使等离子体集中在微粒子的附近从而能够对微粒子的表面更有效地包覆薄膜或超微粒子的等离子体CVD装置及等离子体CVD方法。该装置具备:室(13);配置于所述室内、用于收容微粒子(1)的容器且相对重力方向大致...
本多祐二
阿部孝之
文献传递
用于制造涂有DLC膜的塑料容器的装置、涂有DLC膜的塑料容器及其制造方法
一种制造装置和制造方法,其通过将一个高频电容耦合型放电系统与一个微波放电系统组合,能在一容器的外壁表面和内壁表面上形成一DLC膜;所述制造装置(100)能够在容器(1)的外壁面或者内壁面上形成一DLC膜,其特征在于,它设...
浜研一
鹿毛刚
小林巧
文献传递
用于制造类金刚石薄膜涂敷的塑料容器的设备及其制造方法
一种用于DLC薄膜涂敷的塑料容器的生产装置及其生产方法,能同时在多个塑料容器内表面上形成DLC(类金刚石)薄膜,并减小薄膜厚度的变化。一种用于DLC薄膜涂敷的塑料容器的生产装置,用于同时形成多个DLC薄膜,其特征在于包含...
浜研一
鹿毛刚
小林巧
荒木智幸
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等离子体化学气相沉积装置以及成膜方法
本发明的课题在于提供一种能够在抑制异常放电的同时使高硬度的膜成膜的等离子体CVD装置。为此,本发明的一方式是一种等离子体CVD装置,具备:腔室(11);高频电源(6),其提供50~500kHz的高频输出;第1电极(14)...
铃木光博
阿部浩二
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用于制造类金刚石薄膜涂敷的塑料容器的设备及其制造方法
一种用于DLC薄膜涂敷的塑料容器的生产装置及其生产方法,能同时在多个塑料容器内表面上形成DLC(类金刚石)薄膜,并减小薄膜厚度的变化。一种用于DLC薄膜涂敷的塑料容器的生产装置,用于同时形成多个DLC薄膜,其特征在于包含...
浜研一
鹿毛刚
小林巧
荒木智幸
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