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北京七星华创流量计有限公司

作品数：164 被引量：8H指数：2
相关机构：中国核工业集团公司北京北方华创微电子装备有限公司天地科技股份有限公司更多>>
相关领域：机械工程经济管理自动化与计算机技术电气工程更多>>

合作机构

文献类型

  • 157篇专利
  • 6篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇经济管理
  • 2篇机械工程
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程
  • 1篇核科学技术
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 54篇控制器
  • 51篇流量控制器
  • 45篇质量流量控制...
  • 39篇传感
  • 38篇感器
  • 38篇传感器
  • 35篇气体流量
  • 29篇半导体
  • 23篇量调节
  • 23篇流量控制
  • 22篇半导体工艺
  • 20篇流量调节
  • 20篇半导体工艺设...
  • 17篇流体
  • 15篇压力传感器
  • 15篇力传感器
  • 15篇密封
  • 15篇阀口
  • 14篇压力控制
  • 12篇开度

机构

  • 164篇北京七星华创...
  • 2篇中国核工业集...
  • 2篇北京北方华创...
  • 1篇天地科技股份...

作者

  • 2篇李波
  • 2篇夏志伟
  • 2篇李伟

传媒

  • 2篇中国测试
  • 1篇自动化与仪表
  • 1篇电力系统及其...
  • 1篇财会学习
  • 1篇财富生活

年份

  • 29篇2024
  • 27篇2023
  • 33篇2022
  • 26篇2021
  • 22篇2020
  • 17篇2019
  • 3篇2018
  • 7篇2017
共 164 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
质量流量控制器及其流体通道组件
本申请提供一种质量流量控制器及其流体通道组件，该流体通道组件包括第一本体和第二本体，第一本体中形成有进流通道和出流通道中的一者，第二本体中形成有进流通道和出流通道中的另一者，第二本体中还形成有主通道，主通道将进流通道和出...
杨玉婧苏乾益张海洋
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半导体工艺设备及其集成供气系统
本申请实施例提供一种半导体工艺设备及其集成供气系统。该集成供气系统设置于半导体工艺设备的气源及工艺腔室之间，用于向工艺腔室内输送气体，包括：多个气路输送模块，且每个气路输送模块之间可拆卸连接；气路输送模块包括第一基块及第...
郑波魏景峰杨宗林苏乾益宋志辉
流量控制方法以及比例控制阀
本发明提供一种流量控制方法以及比例控制阀，该方法包括：获取各气路的最大流量值和在预设的流量比例中的占比，最大流量值为各气路上的比例控制阀的最大开度对应的流量值；将所有气路中最大流量值最小的气路作为参照气路；计算除参照气路...
常祝苏乾益宋志辉
文献传递
质量流量控制器检测系统
本申请实施例提供了一种质量流量控制器检测系统。该检测系统包括：安装板、传输组件、安装组件及检漏组件；传输组件设置在安装板上，用于承载多个质量流量控制器，并带动多个质量流量控制器沿第一方向移动，使多个质量流量控制器依次停留...
王海亮张海洋李凌峰
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气路盘吹扫装置
本实用新型提供一种气路盘吹扫装置，包括纯化管路、颗粒度测试仪、多个测试支路和多个连接管，纯化管路上设置有纯化器，多个测试支路的进气端均与纯化管路的出气端连接，测试支路上具有用于将气路盘接入测试支路的气路盘安装位，测试支路...
王传国张海洋
气体质量流量控制器及故障自检方法
本实施例提供一种气体质量流量控制器及故障自检方法，该气体质量流量控制器包括电磁阀、用于调节电磁阀的开度的电磁阀控制模块、用于向电磁阀控制模块提供驱动电能的电磁阀驱动电路、故障自检模块和控制模块，控制模块用于根据预设的流量...
邹义涛赵迪
用于质量流量控制器的常开式电磁阀及质量流量控制器
本实用新型公开了一种用于质量流量控制器的常开式电磁阀及质量流量控制器。该电磁阀包括：从内到外依次套设的套筒、线包和阀罩；套筒内设有定芯轴筒和磁性材料的活动芯轴，定芯轴筒设置于套筒内的底部，套筒的顶部形成一容纳腔；活动芯轴...
杨宗林苏乾益宋志辉
一种流量计的标定系统及标定方法
本发明公开了一种流量计的标定系统及标定方法，其中标定系统包括：流体源，用于向标定系统提供所需的流体；流量基准单元，分别与流体源和待标定的流量计相连，用于为待标定的流量计提供与每个待标定点对应的标准流量；系统控制单元，分别...
车艳霞赵迪
压力检测方法和压力检测系统
本发明提供一种压力检测方法和压力检测系统，该方法包括实时获取压力传感器检测并输出的流体的压力值和温度传感器检测并输出的流体的温度值；将压力值和温度值转换为数字信号；利用预设的温度补偿关系式根据转换后的温度值对转换后的压力...
赵寒阳王振东
文献传递
气体流量调节装置和半导体加工设备
本发明提供一种气体流量调节装置和半导体加工设备，该气体流量调节装置包括：底座结构，在底座结构中设置有气体通道；活塞部件，可移动地设置在底座结构中，用以通过在指定方向上移动来调节气体通道的通气截面面积；旋转驱动源的驱动轴包...
杨蕾陈正堂
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