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希姆科技有限公司

作品数:8 被引量:0H指数:0
相关机构:韩国科学技术研究院韩国基础科学支援研究院更多>>

文献类型

  • 8篇中文专利

主题

  • 4篇等离子体
  • 2篇等离子体处理
  • 2篇电元件
  • 2篇电源
  • 2篇掩膜
  • 2篇散射
  • 2篇受激
  • 2篇受激布里渊散...
  • 2篇碰撞
  • 2篇平板电极
  • 2篇重金
  • 2篇重金属
  • 2篇自相
  • 2篇自由基
  • 2篇显影
  • 2篇限制器
  • 2篇相位共轭
  • 2篇相位共轭镜
  • 2篇金属板
  • 2篇抗蚀剂

机构

  • 8篇希姆科技有限...
  • 2篇韩国科学技术...
  • 2篇韩国基础科学...

年份

  • 2篇2009
  • 2篇2008
  • 4篇2006
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
利用受激布里渊散射相位共轭镜进行自相位控制的装置和方法
公开了在分束放大激光器中利用受激布里渊散射相位共轭镜来控制光束的相位以使光束的相对相位为“0”的装置和方法。使从相位共轭镜反射的激光束之间的相位差为“0”的过程包括:第一步骤,将从相位共轭镜反射的激光束(104’、…、1...
孔弘珍李晟九李东原中塚正大
文献传递
中性粒子束处理设备
本发明涉及一种中性粒子束处理设备。更具体地,本发明涉及一种中性粒子束处理设备,包括:等离子体放电空间,在其内部,通过等离子体放电将处理气体转换为等离子体离子;重金属板,通过碰撞将等离子体离子转换为中性粒子;等离子体限制器...
李奉柱俞席在李学柱
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以大气压力等离子体处理衬底表面的装置
一种表面处理装置,包含a)处理气体储存部分,包含:第一入口,经由该第一入口引入处理气体,及b)等离子体产生部分,包含:彼此面对的上电极及下电极;形成在电极之间的等离子体产生空间;使上电极及下电极绝缘的至少一个电介体;降低...
李学柱
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中性粒子束光刻
本发明提供一种利用准直自由基中性粒子束的光刻技术方法。所述方法通过中性粒子束光刻在形成于晶片上的抗蚀剂上形成图案图像,并且包括以下步骤:a)将准直自由基中性粒子束引入到具有通孔的透镜内以便聚焦自由基中性粒子束;b)使已经...
李学柱
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以大气压力等离子体处理衬底表面的装置
一种表面处理装置,包含a)处理气体储存部分,包含:第一入口,经由该第一入口引入处理气体,及b)等离子体产生部分,包含:彼此面对的上电极及下电极;形成在电极之间的等离子体产生空间;使上电极及下电极绝缘的至少一个电介体;降低...
李学柱
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中性粒子束处理设备
本发明涉及一种中性粒子束处理设备。更具体地,本发明涉及一种中性粒子束处理设备,包括:等离子体放电空间,在其内部,通过等离子体放电将处理气体转换为等离子体离子;重金属板,通过碰撞将等离子体离子转换为中性粒子;等离子体限制器...
李奉柱俞席在李学柱
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中性粒子束平版印刷
本发明提供一种利用准直自由基中性粒子束的平版印刷技术方法。所述方法通过中性粒子束平版印刷在形成于晶片上的抗蚀剂上形成图案图像,并且包括以下步骤:a)将准直自由基中性粒子束引入到具有通孔的透镜内以便聚焦自由基中性粒子束;b...
李学柱
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利用受激布里渊散射相位共轭镜进行自相位控制的装置和方法
公开了在分束放大激光器中利用受激布里渊散射相位共轭镜来控制光束的相位以使光束的相对相位为“0”的装置和方法。使从相位共轭镜反射的激光束之间的相位差为“0”的过程包括:第一步骤,将从相位共轭镜反射的激光束(104’、…、1...
孔弘珍李晟九李东原中塚正大
文献传递
共1页<1>
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