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北京北方华创微电子装备有限公司

作品数：4,792 被引量：13H指数：2
相关机构：北京大学中国电子技术标准化研究院北京工业大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金天津市自然科学基金更多>>
相关领域：自动化与计算机技术经济管理电子电信文化科学更多>>

合作机构

文献类型

  • 4,750篇专利
  • 33篇期刊文章
  • 6篇标准
  • 2篇会议论文

领域

  • 550篇自动化与计算...
  • 432篇经济管理
  • 389篇电子电信
  • 250篇文化科学
  • 168篇金属学及工艺
  • 96篇电气工程
  • 76篇化学工程
  • 47篇医药卫生
  • 47篇理学
  • 36篇一般工业技术
  • 35篇建筑科学
  • 31篇交通运输工程
  • 30篇机械工程
  • 28篇轻工技术与工...
  • 26篇石油与天然气...
  • 13篇动力工程及工...
  • 13篇水利工程
  • 10篇环境科学与工...
  • 7篇天文地球
  • 6篇矿业工程

主题

  • 2,808篇半导体
  • 1,281篇半导体工艺
  • 1,162篇半导体工艺设...
  • 721篇晶圆
  • 489篇半导体设备
  • 417篇刻蚀
  • 416篇气体
  • 409篇晶片
  • 342篇等离子体
  • 342篇组件
  • 316篇进气
  • 298篇工艺气
  • 297篇工艺气体
  • 275篇工件
  • 243篇均匀性
  • 242篇预设
  • 234篇卡盘
  • 201篇腔体
  • 175篇射频电源
  • 174篇机械手

机构

  • 4,791篇北京北方华创...
  • 6篇北京大学
  • 3篇北京工业大学
  • 3篇中国电子技术...
  • 2篇中国科学院
  • 2篇天津理工大学
  • 2篇中国科学院微...
  • 2篇北京锐洁机器...
  • 2篇上海微电子装...
  • 2篇东莞市中镓半...
  • 2篇北京七星华创...
  • 2篇中微半导体设...
  • 1篇大连理工大学
  • 1篇北京化工大学
  • 1篇东北师范大学
  • 1篇清华大学
  • 1篇青海大学
  • 1篇中国科学院长...
  • 1篇北京建筑大学
  • 1篇沈阳新松机器...

作者

  • 2篇高丽兰
  • 1篇朱相宇
  • 1篇王金涛
  • 1篇郑娆
  • 1篇徐方
  • 1篇李双喜
  • 1篇张春秋
  • 1篇黎大兵
  • 1篇孙晓娟
  • 1篇张西正
  • 1篇贾锐
  • 1篇李伯

传媒

  • 3篇电子测试
  • 2篇半导体技术
  • 2篇真空科学与技...
  • 2篇中国组织工程...
  • 2篇电气技术与经...
  • 2篇微纳电子与智...
  • 1篇安全
  • 1篇电气防爆
  • 1篇世界科技研究...
  • 1篇价值工程
  • 1篇劳动保护
  • 1篇工业控制计算...
  • 1篇机电工程
  • 1篇控制理论与应...
  • 1篇发光学报
  • 1篇电子工业专用...
  • 1篇微电子学
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇大陆桥视野
  • 1篇电子与封装

年份

  • 671篇2024
  • 674篇2023
  • 942篇2022
  • 663篇2021
  • 781篇2020
  • 494篇2019
  • 461篇2018
  • 105篇2017
共 4,792 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
用于半导体设备的托盘调平机构及半导体工艺设备
本实用新型提供一种用于半导体设备的托盘调平机构及半导体工艺设备，托盘调平机构包括固定支架、两个调节本体、调平球、两个定位调节部件和用于支撑托盘支撑体，移动两个调节本体可带动调平球转动，调节支撑体的垂直度；定位调节部件包括...
刘敬彬
文献传递
蓝宝石衬底的刻蚀方法
本申请公开了一种蓝宝石衬底的刻蚀方法，涉及半导体技术领域。一种蓝宝石衬底的刻蚀方法包括：掩膜形成步骤，在蓝宝石衬底的表面形成光刻胶掩膜图形；第一刻蚀步骤，通入第一刻蚀气体刻蚀蓝宝石衬底和光刻胶掩膜图形，使蓝宝石衬底上初步...
刘思东
氧化铟锡薄膜表面粗化方法
本发明提供一种氧化铟锡薄膜表面粗化方法，包括准备阶段和粗化阶段，其中，准备阶段将制备有氧化铟锡薄膜的晶圆放置于采用微波等离子体源的工艺腔室内，通入氧气与水蒸气，在第一工艺条件下使工艺腔室内形成氧气与水蒸气混合的气氛；粗化...
李云鹏董乔
半导体工艺设备及其工艺腔室
本发明公开一种半导体工艺设备及其工艺腔室，涉及半导体加工设备技术领域。该工艺腔室包括腔体、盖体和内衬，腔体的进气侧具有开口端，开口端设置有安装台，安装台凸出并环设于腔体的内侧壁；盖体盖合于开口端，且盖体与开口端密封配合；...
郭春
一种检测晶圆放置状态的方法、半导体工艺设备
本申请实施例提供了检测晶圆放置状态的方法、半导体工艺设备，该方法包括：在将晶圆放置在托盘的凹槽中前，利用设置在工艺腔室观测窗处的图像传感器采集多个该凹槽的第一图像；基于第一图像，获取三个凹槽边缘像素点的坐标，并基于三个凹...
李红
文献传递
刻蚀方法
本发明提供一种刻蚀方法，包括：向反应腔室内通入第一催化气体、第二催化气体和工艺气体，使第一催化气体和第二催化气体均参与反应，以对待加工工件进行刻蚀；以及去除在待加工工件上形成的固态产物。本发明提供的刻蚀方法能够在刻蚀后，...
王晓娟郑波马振国吴鑫王春
文献传递
工艺气体流量补偿的装置及方法、半导体处理设备
本发明公开了一种工艺气体流量补偿的装置及方法、半导体处理设备。包括工艺管路以及依次串接在所述工艺管路并选择性连通的气源罐、初级流量计、缓存罐和次级流量计；所述装置还包括压力计以及与所述压力计电连接的控制器；其中，所述压力...
胡云龙
文献传递
匹配网络、阻抗匹配器以及阻抗匹配方法
本发明提供了一种匹配网络，匹配网络包括信号输入端、信号输出端、第一匹配单元、第二匹配单元以及开关元件，其中，第一匹配单元的输入端与信号输入端电连接，第一匹配单元的输出端与信号输出端电连接；第二匹配单元的输入端与开关元件的...
简师节
承载装置、工艺腔室和半导体处理设备
本发明公开了一种承载装置、工艺腔室和半导体处理设备。包括：静电卡盘以及环绕所述静电卡盘的周向侧壁设置的支撑环，所述静电卡盘和所述支撑环共同承载待加工件，还包括第一驱动组件，用于驱动支撑环移动至第一卸载位置，以使得待加工件...
李华
文献传递
步进电机的位置校准装置、射频匹配器及半导体设备
本发明提供一种可变电容步进电机的位置校准装置、射频匹配器及半导体设备，该可变电容步进电机的位置校准装置包括：校准组件，设置在所述步进电机的转轴上，随所述转轴同轴旋转，且所述校准组件上设置有用于标识所述转轴的单位旋转角度的...
刘建生张磊
文献传递
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