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东芝硅株式会社
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株式会社东芝
日本写真印刷株式会社
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机构
8篇
东芝硅株式会...
2篇
日本写真印刷...
2篇
株式会社东芝
年份
1篇
2004
1篇
2002
2篇
2001
1篇
1999
2篇
1998
1篇
1996
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清洗剂、清洗方法和清洗装置
本发明的清洗剂含有在清洗至少部分地具有间隙部分的清洗对象物时与构成污物的至少一种成分的溶解度之差在3以下,或者与构成污物的至少一种成分的溶解度参数之差在3以下且接触角在15°以内的清洗成分。这种清洗剂由于对金属薄带等的间...
下泽宏
熊谷胜
土谷文彦
M·古贺
中村忠行
斋藤信宏
山藤茂夫
文献传递
非水系洗净剂组合物作为洗净剂和脱水洗净剂的应用
本发明涉及非水系洗净组合物在洗净工业用部件的对象物中作为洗净剂或作为脱水洗净剂的应用,它含有选自直链聚二有机硅氧烷和环状聚二有机硅氧烷中至少一种低分子量聚有机硅氧烷,还可配合表面活性剂和/或亲水性溶剂;用它可洗净金属、玻...
稻田实
冠木公明
今城康隆
小国尚之
八木典章
齐藤信宏
栗田明嗣
竹泽好昭
文献传递
硅橡胶的带图案模制品的生产方法
一种生产在其上有强力粘合的传印的图案的硅橡胶模制品的方法。被用于本方法的传印材料或覆盖薄膜,在要与模具中的未固化硅橡胶组合物接触的层中含有,作为粘合促进组分的,含有至少两个键合到硅原子上的氢原子的聚有机氢硅氧烷或含有不饱...
泽村立彦
上野秀树
藤井宪太郎
重田裕康
文献传递
洗涤剂、洗涤方法及洗涤装置
本发明涉及一种可以取代氟里昂系溶剂或含氯系溶剂等的洗涤剂、洗涤方法和洗涤装置。特别是涉及一种在洗涤印刷线路板或实装部件等电子部件或金属部件等时,能够获得与使用氟里昂系溶剂或含氯系溶剂的洗涤方法相匹敌的对各种污染物的除去性...
熊谷胜
下泽宏
小国尚之
稻田实
齐藤信宏
山藤茂夫
清水千之
梅原一纪
文献传递
采用洗净剂的洗净方法
本发明洗净方法所用洗净剂可代替氟系洗净剂,不会污染或破坏环境,具安全和稳定性。洗净对象为金属、玻璃、陶瓷、电子、半导体、光学以及表面处理等部件。所用洗净剂包括选自直链聚二有机硅氧烷和环状聚二有机硅氧烷中至少一种的低分子量...
稻田实
冠木公明
今城康隆
小国尚之
八木典章
齐藤信宏
栗田明嗣
竹泽好昭
文献传递
洗涤剂、洗涤方法及除水干燥方法
本发明涉及一种可以取代氟里昂系溶剂或含氯系溶剂等的洗涤剂、洗涤方法。特别是涉及一种在洗涤印刷线路板或实装部件等电子部件或金属部件等时,能够获得与使用氟里昂系溶剂或含氯系溶剂的洗涤方法相匹敌的对各种污染物的除去性和干燥性的...
熊谷胜
下泽宏
小国尚之
稻田实
齐藤信宏
山藤茂夫
清水千之
梅原一纪
文献传递
硅橡胶的带图案模制品的生产方法
一种生产在其上有强力粘合的传印的图案的硅橡胶模制品的方法。被用于本方法的传印材料或覆盖薄膜,在要与模具中的未固化硅橡胶组合物接触的层中含有,作为粘合促进组分的,含有至少两个键合到硅原子上的氢原子的聚有机氢硅氧烷或含有不饱...
泽村立彦
上野秀树
藤井宪太郎
重田裕康
文献传递
清洗剂、清洗方法和清洗装置
本发明的清洗剂含有在清洗至少部分地具有间隙部分的清洗对象物时与构成污物的至少一种成分的溶解度之差在3以下,或者与构成污物的至少一种成分的溶解度参数之差在3以下且接触角在15°以内的清洗成分。这种清洗剂由于对金属薄带等的间...
下泽宏
熊谷胜
土谷文彦
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中村忠行
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