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江阴润玛电子材料股份有限公司

作品数：144 被引量：1H指数：1
相关机构：中国电子技术标准化研究院工业和信息化部电子工业标准化研究院北京鼎材科技有限公司更多>>
相关领域：化学工程电子电信金属学及工艺经济管理更多>>

合作机构

文献类型

  • 129篇专利
  • 14篇标准

领域

  • 19篇化学工程
  • 7篇电子电信
  • 5篇金属学及工艺
  • 2篇机械工程
  • 2篇交通运输工程
  • 1篇经济管理
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇水利工程
  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 44篇蚀刻
  • 43篇蚀刻液
  • 20篇电路
  • 16篇通信
  • 14篇离子
  • 14篇集成电路
  • 14篇铝
  • 12篇调度
  • 12篇调度表
  • 12篇信道
  • 12篇信道接收
  • 12篇信道信息
  • 12篇铜
  • 11篇生产工艺
  • 11篇活性剂
  • 11篇表面活性
  • 11篇表面活性剂
  • 10篇半导体
  • 10篇钼
  • 8篇离子型

机构

  • 143篇江阴润玛电子...
  • 7篇中国电子技术...
  • 6篇工业和信息化...
  • 4篇合肥鼎材科技...
  • 4篇阜阳欣奕华材...
  • 4篇广州赛西标准...
  • 4篇北京鼎材科技...
  • 3篇固安鼎材科技...
  • 2篇京东方科技集...
  • 1篇衢州学院
  • 1篇湖北兴发化工...
  • 1篇中国硫酸工业...
  • 1篇苏州热工研究...
  • 1篇江苏省产品质...
  • 1篇广东东溢新材...
  • 1篇福建泓光半导...
  • 1篇深圳御光新材...
  • 1篇常州强力电子...
  • 1篇湖北新蓝天新...
  • 1篇江苏中德电子...

作者

  • 2篇李琳
  • 1篇张志刚

年份

  • 9篇2024
  • 22篇2023
  • 3篇2022
  • 20篇2021
  • 4篇2020
  • 8篇2019
  • 3篇2018
  • 6篇2017
  • 11篇2016
  • 23篇2015
  • 18篇2014
  • 10篇2013
  • 6篇2012
共 144 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种环保型金属去除液
本发明涉及一种环保型金属去除液，包括如下质量百分比的成分醋酸40～65%，硝酸10～30%，表面活性剂1～2%，缓蚀剂0.1～2%，光亮剂0.1～1%，余量为纯水。表面活性剂选自非离子型表面活性剂和阴离子型表面活性剂复配...
戈烨铭
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一种酸性钼铝钼蚀刻液及其制备工艺
本发明公开了一种新型酸性钼铝钼蚀刻液以及其制备工艺。该新型酸性钼铝钼蚀刻液包括磷酸、醋酸、硝酸、金属硝酸盐、阳离子表面活性剂和纯水。该蚀刻液制备工艺包括常温常压下保持配料罐搅拌器转速，向配料罐中依次加入磷酸、醋酸、硝酸、...
戈士勇沈翠芬盛建伟袁晓蕾
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一种电路用导电塑料
本发明涉及一种电路用导电塑料，由下列重量份的原料制成：塑料基体200-400份、界面偶联剂20-50份、增韧剂10-30份、分散润滑剂10-20份、抗氧化剂20-50份、脱模剂1-10份和导电助剂10-30。本发明所述的...
于澎田小明
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酸性钼铝钼蚀刻液制备系统
本实用新型涉及一种酸性钼铝钼蚀刻液制备系统，所述制备系统包括磷酸储罐（1）、醋酸储罐（2）、硝酸储罐（3）、第一阳离子交换树脂罐（4）、第二阳离子交换树脂罐（5）、第三阳离子交换树脂罐（6）、混合罐（7）、隔膜泵（8）、...
沈翠芬戈士勇盛建伟
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一种水性光刻胶剥离液
本发明公开了一种水性光刻胶剥离液，水性光刻胶剥离液由醇醚、二元醇、水溶性有机溶剂、季铵类氢氧化物、表面活性剂和纯水按一定比例混合而成。该剥离液剥离速度适中，1000倍显微镜下，剥离后的晶圆表面无光刻胶残留；10000倍显...
戈士勇
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集成电路用 氧化层缓冲腐蚀液
本标准规定了集成电路用氧化层缓冲腐蚀液的术语、性状、技术要求、试验方法、检验规则和包装、标志、储存、运输等。 本标准适用于集成电路用氧化层缓冲腐蚀液。
关键词：纺织品电气设备
一种用于生产超净高纯盐酸的工艺
本发明公开了一种用于生产超净高纯盐酸的工艺，该工艺包括选料，选浓度为36～38％的盐酸溶液为原料；稀释，用去离子水将原料稀释至35％；精馏，将稀释后的原料添加到内热式的精馏设备中，并向盐酸吸收器内通入冷却水，同时启动内热...
戈士勇
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高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液及其制备工艺
本发明涉及一种高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液，其特征在于：所述铝蚀刻液包括磷酸、醋酸、硝酸、无机氯基化合物、无机硝酸盐化合物、表面活性剂和纯水；所述表面活性剂为阴离子表面活性剂和聚氧乙烯型非离子表面活性剂的混合物。所述工艺...
戈士勇
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集成电路用 正胶显影液
本标准规定了集成电路用正胶显影液的术语、性状、技术要求、试验方法、检验规则和包装、标志、储存、运输等。 本标准适用于集成电路用正胶显影液，以下简称正胶显影液。
关键词：纺织品电气设备
一种超净高纯过氧化氢的生产工艺
本发明公开了一种超净高纯过氧化氢的生产工艺，涉及化工技术领域，包括以下步骤：(1)将工业过氧化氢进行氧化处理，得到氧化处理过氧化氢，氧化处理依次分为惰性气体的排出和氧化剂的氧化；(2)将上述得到的氧化处理过氧化氢采用交换...
戈士勇何珂汤晓春
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