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杭州士兰集昕微电子有限公司

作品数:71 被引量:2H指数:1
相关机构:杭州士兰集成电路有限公司杭州士兰微电子股份有限公司更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术核科学技术文化科学更多>>

文献类型

  • 66篇专利
  • 5篇期刊文章

领域

  • 27篇电子电信
  • 6篇自动化与计算...
  • 1篇电气工程
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇核科学技术
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇文化科学

主题

  • 24篇半导体
  • 23篇半导体器件
  • 14篇麦克风
  • 14篇空腔
  • 10篇掺杂
  • 9篇电极
  • 9篇牺牲层
  • 9篇光刻
  • 8篇衬底
  • 7篇背腔
  • 6篇叠层
  • 6篇压电式
  • 6篇掩膜
  • 6篇元胞
  • 6篇源区
  • 6篇机电系统
  • 6篇寄生电容
  • 6篇掺杂剂
  • 6篇电系统
  • 5篇电容

机构

  • 71篇杭州士兰集昕...
  • 26篇杭州士兰集成...
  • 2篇杭州士兰微电...

作者

  • 8篇夏志平
  • 5篇季锋
  • 2篇肖金平
  • 1篇王平
  • 1篇陈洪雷

传媒

  • 1篇微电子学与计...
  • 1篇自动化博览
  • 1篇电子器件
  • 1篇电子技术与软...
  • 1篇中文科技期刊...

年份

  • 16篇2023
  • 18篇2022
  • 30篇2021
  • 5篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2018
71 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
半导体器件及其隔离结构
本申请公开了一种半导体器件及其隔离结构,该隔离结构自半导体层的表面延伸至半导体层中,在与半导体层的表面平行的截面上,隔离结构的形状为多边形环,其中,多边形环中包括呈弧状凸起的外环顶角和呈弧状凸起的内环顶角,外环顶角处的弧...
夏志平田浩洋陈洪雷孙样慧温建功
文献传递
晶体管及其制作方法
本申请公开了一种晶体管及其制作方法,所述晶体管包括:外延结构;具有衬底以及位于所述衬底表面上的外延层,所述外延层包括依次形成在所述衬底上的成核层、缓冲层、沟道层、插入层、势垒层、间隔层、非故意掺杂层以及P型层;在平行于所...
高维强肖金平贾利芳闻永祥
半导体器件及其制造方法
本申请公开了一种半导体器件及其制造方法。制造方法包括在衬底第一至第二阱区上分别形成第一、第二栅叠层,在衬底第三阱区、第四阱区上形成第三栅叠层;采用光刻胶掩膜、采用第一栅叠层、第三栅叠层为硬掩膜,在第一阱区形成第二掺杂类型...
王昊陈洪雷夏志平姚国亮陈伟
文献传递
半导体器件
公开了一种半导体器件,半导体器件包括:衬底,衬底中设置有实现器件功能的元胞器件结构;位于衬底上方的台阶状器件结构,台阶状器件结构覆盖部分衬底;位于台阶状器件结构上方的介质层和阻挡层,阻挡层位于介质层上方,介质层和阻挡层覆...
杨彦涛隋晓明李云飞杨青森楚婉怡王岁虎
微型麦克风
公开了一种微型麦克风,微型麦克风包括:衬底,衬底包括第一空腔;第一牺牲层,位于衬底上,第一牺牲层包括第二空腔;振膜层,振膜层的至少一部分由第一牺牲层支撑,位于第二空腔上方的振膜层形成振动隔膜;第二牺牲层,位于振膜层上,第...
孙福河李佳许乐军金文超闻永祥
文献传递
半导体器件
公开了一种半导体器件,包括:绝缘栅双极型晶体管,绝缘栅双极型晶体管包括元胞区和终端区,终端区位于元胞区外围;钳位结构,位于终端区,钳位结构包括多个无源半导体器件,多个无源半导体器件设置在绝缘栅双极型晶体管的栅极电极和集电...
韩健顾悦吉黄示吕梦凡张瑞丽周琼琼何火军
功率半导体器件及其制造方法
本申请公开了一种功率半导体器件及其制造方法,该功率半导体器件具有相邻的元胞区与终端区,功率半导体器件包括:半导体层,具有相对的第一表面与第二表面;多个沟槽结构,位于元胞区,每个沟槽结构沿半导体层的厚度方向延伸;分压环,位...
黄示顾悦吉周琼琼韩健
光刻版中沟槽的制造方法和沟槽刻蚀方法
本申请公开了一种光刻版中沟槽的制造方法和沟槽刻蚀方法,包括提供一光刻基板,光刻基板包括多个芯片图案区以及划片区,设置多个第一沟槽图案,多个第一沟槽图案分布在多个芯片图案区内,每个第一沟槽图案用于分别形成相应的一个芯片区中...
何火军高周妙庞海舟隋晓明罗宁赵学锋
文献传递
一种具有复合栅结构的功率器件
本申请公开了一种具有复合栅结构的功率器件,所述功率器件包括:衬底;沟道层,位于所述衬底上;势垒层,位于所述沟道层上,所述势垒层与所述沟道层形成异质结;源极电极和漏极电极,位于所述势垒层上;复合栅结构,位于所述势垒层上,所...
季科宇贾利芳闻永祥
微机电系统麦克风及其制造方法
公开了一种微机电系统麦克风及其制造方法,微机电系统麦克风包括:衬底,衬底设有背腔,背腔贯穿衬底;支撑氧化层,位于衬底上,支撑氧化层围成空腔,空腔和背腔连通;电容式声压信号采集结构和压电式声压信号采集结构,电容式声压信号采...
金文超闻永祥孙福河李佳郭欣
共8页<12345678>
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