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关东电化工业株式会社

作品数：97 被引量：0H指数：0
相关机构：国立大学法人九州大学国立大学法人群马大学日本瑞翁株式会社更多>>
相关领域：化学工程理学金属学及工艺电气工程更多>>

合作机构

文献类型

  • 97篇中文专利

领域

  • 7篇化学工程
  • 6篇金属学及工艺
  • 6篇理学
  • 4篇电气工程
  • 3篇电子电信
  • 2篇环境科学与工...
  • 2篇医药卫生
  • 2篇文化科学

主题

  • 24篇氟化
  • 16篇气体
  • 15篇电池
  • 14篇化合物
  • 12篇含氟
  • 11篇金属
  • 11篇二次电池
  • 10篇原子
  • 10篇水电解
  • 10篇非水
  • 9篇三氟
  • 8篇蚀刻
  • 8篇组合物
  • 8篇粒径
  • 7篇电解液
  • 7篇显影
  • 7篇显影剂
  • 7篇非水电解液
  • 6篇平均粒径
  • 6篇共聚

机构

  • 97篇关东电化工业...
  • 3篇日本瑞翁株式...
  • 3篇国立大学法人...
  • 3篇国立大学法人...
  • 2篇日立麦克赛尔...
  • 2篇三洋电机株式...
  • 2篇夏普株式会社
  • 1篇京都工艺纤维...
  • 1篇大金工业株式...
  • 1篇株式会社爱发...
  • 1篇株式会社东芝
  • 1篇独立行政法人...
  • 1篇索尼株式会社
  • 1篇东京毅力科创...
  • 1篇住友金属矿山...
  • 1篇国立大学法人...
  • 1篇学校法人近畿...
  • 1篇佳能安内华股...
  • 1篇株式会社日立...
  • 1篇铠侠股份有限...

年份

  • 5篇2024
  • 11篇2023
  • 13篇2022
  • 7篇2021
  • 10篇2020
  • 12篇2019
  • 5篇2018
  • 6篇2017
  • 5篇2016
  • 2篇2015
  • 4篇2014
  • 2篇2013
  • 2篇2011
  • 2篇2010
  • 3篇2009
  • 5篇2008
  • 1篇2007
  • 2篇2006
共 97 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
静电荷图像显影剂
本发明提供即使在低温低湿环境、常温常湿环境以及高温高湿环境中的任一环境下，带电量的变化也均小、不会发生灰雾、环境稳定性优异的静电荷图像显影剂。静电荷图像显影剂，其特征在于，在含有包含粘结剂树脂和着色剂的着色树脂颗粒以及外...
神勋充千叶尊饭沼秀彦山崎研一
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干蚀刻方法或干式清洗方法
提供将多晶硅(Poly‑Si)、单晶硅(单晶Si)、非晶硅(a‑Si)这些以Si作为主要成分的膜选择性地蚀刻的方法。另外提供不会对装置内部造成损伤地将堆积、附着于化学气相沉积(CVD)装置等进行成膜的装置的试样室内的以S...
高桥至直深江功也加藤惟人
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非水二次电池及电子器械
本发明提供一种非水二次电池，其正极的正极合剂层含有由通式Li<Sub>x</Sub>M<Sup>1</Sup><Sub>y</Sub>M<Sup>2</Sup><Sub>z</Sub>M<Sup>3</Sup><Sub>...
坂田英郎喜多房次石塚久美子桑原晶子高原
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氟化氯的供给方法
提供稳定地产生产业上可利用的氟化氯(ClF)、可以控制流量、连续地供给的氟化氯供给装置及供给方法。本发明的氟化氯的供给方法为供给氟化氯的供给方法，所述氟化氯是通过将含有氟原子的气体和含有氯原子的气体导入到流通式的加热反应...
高桥至直加藤惟人樱井義将滝泽浩树菊池翔川口真一池谷庆彦澁泽幸伸
非水电解液以及非水电解液电池
本发明提供一种非水电解液，其含有：锂电解质、3,3,3‑三氟丙酸甲酯和磷腈化合物。磷腈化合物优选为由下述通式(I)表示的环状磷腈化合物。式(I)中，R分别独立地表示选自卤原子、烷氧基、芳氧基、烷基、芳基、氨基、烷硫基以及...
冈本敏明
二次电池用非水电解液及非水电解液二次电池
本发明提供可抑制非水电解液和电极的反应、即使在高温条件下也可抑制电池容量的下降、可获得长期保持良好的电池特性的非水电解液二次电池。非水电解液的非水类溶剂含有以R1-CH<Sub>2</Sub>-COO-R2(R1表示氢或...
千贺贵信最相圭司茂木亮大前理
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导热性粒子填充纤维
本发明涉及导热性粒子填充纤维，其是含有树脂和导热性粒子的导热性粒子填充纤维，其中，导热性粒子的至少一部分存在于所述纤维的内部，导热性粒子的平均粒径为10~1000nm，平均纤维直径为50~10000nm。
吉山和秀中建介松川公洋
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电极及其制造方法以及再生电极的制造方法
本发明的电解氟化用电极以镍作为母材，氟的含量低于1,000ppm。优选为：至少在表面部分，镍的含量为99质量％以上，铁的含量为400ppm以下，铜的含量为250ppm以下，锰的含量为1000ppm以下。本发明的电极的制造...
大久保公敬
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硅化合物用蚀刻气体组合物及蚀刻方法
提供在薄膜形成时可以对对象基板等目标物有效地进行精密加工，且可通过无等离子体蚀刻有效地去除沉积或附着于除该对象基板等目标物以外的硅系化合物的蚀刻气体组合物及蚀刻方法。一种蚀刻气体组合物，其特征在于，包含(1)XF(X为C...
高桥至直加藤惟人
文献传递
含氟硫化物的制造方法
本发明的目的在于，提供简便地以低成本且工业上制造含氟硫化物、尤其是含有氢和氟的硫化物的方法。一种下述式(2)：(F)<Sub>n</Sub>‑A<Sup>3</Sup>‑S‑A<Sup>4</Sup>‑(F)<Sub>m...
柏仓亘池谷庆彦佐藤湧贵
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