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上海新阳半导体材料股份有限公司

作品数：562 被引量：23H指数：3
相关机构：上海交通大学长春工业大学上海新昇半导体科技有限公司更多>>
发文基金：国家科技重大专项国家自然科学基金吉林省自然科学基金更多>>
相关领域：化学工程金属学及工艺电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作机构

文献类型

  • 528篇专利
  • 19篇期刊文章
  • 12篇会议论文
  • 3篇科技成果

领域

  • 73篇化学工程
  • 58篇金属学及工艺
  • 44篇电子电信
  • 11篇自动化与计算...
  • 4篇建筑科学
  • 2篇经济管理
  • 2篇交通运输工程
  • 2篇环境科学与工...
  • 2篇医药卫生
  • 2篇文化科学
  • 1篇天文地球
  • 1篇石油与天然气...
  • 1篇航空宇航科学...
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 139篇电镀
  • 88篇引线
  • 87篇引线框
  • 87篇引线框架
  • 86篇晶圆
  • 83篇清洗液
  • 60篇镀液
  • 55篇光刻
  • 51篇电镀液
  • 50篇组合物
  • 49篇光刻胶
  • 47篇缓蚀
  • 40篇醇胺
  • 36篇蚀刻
  • 36篇刻蚀
  • 33篇化学机械抛光
  • 33篇机械抛光
  • 31篇树脂
  • 29篇等离子刻蚀
  • 29篇离子刻蚀

机构

  • 562篇上海新阳半导...
  • 8篇上海交通大学
  • 7篇长春工业大学
  • 2篇上海新昇半导...
  • 1篇复旦大学
  • 1篇上海大学
  • 1篇上海工程技术...

作者

  • 5篇贺岩峰
  • 3篇李明
  • 2篇丁桂甫
  • 2篇汪红
  • 2篇高学朋
  • 2篇张莹莹
  • 1篇刘鹤
  • 1篇饶品华
  • 1篇岳恒
  • 1篇程萍
  • 1篇李明
  • 1篇郭帅
  • 1篇曹海勇
  • 1篇王慧颖
  • 1篇王昭瑜
  • 1篇王鹤坤
  • 1篇赵小林
  • 1篇李超
  • 1篇李君翊
  • 1篇张振杰

传媒

  • 5篇电镀与涂饰
  • 3篇复旦学报（自...
  • 3篇2011年全...
  • 2篇电化学
  • 2篇集成电路应用
  • 2篇2011中国...
  • 1篇工业控制计算...
  • 1篇电镀与环保
  • 1篇计量与测试技...
  • 1篇塑料科技
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇中国科技期刊...
  • 1篇区域治理
  • 1篇2013年海...

年份

  • 43篇2024
  • 94篇2023
  • 27篇2022
  • 73篇2021
  • 43篇2020
  • 29篇2019
  • 44篇2018
  • 26篇2017
  • 31篇2016
  • 30篇2015
  • 9篇2014
  • 34篇2013
  • 38篇2012
  • 21篇2011
  • 20篇2010
共 562 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种含氟清洗液组合物的应用
本发明公开了一种含氟清洗液组合物的应用。该含氟清洗液组合物包括下述质量分数的组分：10％‑30％的氧化剂、0.001‑0.01％的还原型谷胱甘肽、0.001％‑0.25％的半胱氨酸、1％‑5％的氟化物、1％‑5％的有机碱...
王溯蒋闯冯强强史筱超王亮刘超勇
文献传递
一种化学机械抛光后清洗液的制备方法
本发明公开了一种化学机械抛光后清洗液的制备方法。清洗液的制备方法包括如下步骤：将原料混合，即可；其中，清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.01％‑25％强碱、0.01％‑30％醇胺、0.001％‑1％抗氧化物、0.0...
王溯马丽史筱超何加华李健华王真
一种聚酰亚胺清洗液在清洗半导体器件中的应用
本发明公开了一种聚酰亚胺清洗液在清洗半导体器件中的应用。该应用中的清洗液的原料包括下列质量分数的组分：30％‑80％有机溶剂、0.001％‑0.01％还原型谷胱甘肽、0.001％‑0.25％半胱氨酸、1％‑5％醇胺、1％...
王溯蒋闯冯强强詹杨于仙仙
一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂的制备方法
本发明公开了一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂的制备方法。该制备方法制备得到的鎓盐具有阴离子和鎓离子，所述阴离子具有式(I)所示的结构，所述鎓离子具有式(A)或式(B)所示的结构，所述鎓离子的个数使所述鎓盐的电荷保...
方书农王溯耿志月唐晨
晶圆湿制程设备用晶圆电镀装置
本发明公开了一种晶圆湿制程设备用晶圆电镀装置，包括具有电镀用容腔的电镀槽壳体，所述电镀槽壳体内设有相邻且可拆换的晶圆挂具部及电镀扩散与屏蔽部，所述晶圆挂具部设有单面显露口用于显露出晶圆的电镀面一侧，所述电镀扩散与屏蔽部设...
王振荣刘红兵卢鹏方琴剑
文献传递
抗高温时效高强度无铅焊锡
本发明公开了一种抗高温时效高强度无铅焊锡，以该无铅焊锡的总重量为100wt%计，该无铅焊锡包含：3~5wt%的银；0.2~0.8wt%的铜；0.5~20wt%的铋；0.005~0.06wt%的镍；0.005~0.02wt...
杜俊德
文献传递
一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂
本发明公开了一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂。该光产酸剂为具有阴离子和鎓离子的鎓盐，所述阴离子具有式(I)所示的结构，所述鎓离子具有式(A)或式(B)所示的结构，所述鎓离子的个数使所述鎓盐的电荷保持中性。包含本发...
方书农王溯耿志月
电子电镀添加剂的分子设计被引量：2
2012年
提出了电镀添加剂设计的概念,给出了锡基电子电镀添加剂设计的基本方法。由于电镀添加剂作用的复杂性,要得到性能优异的添加剂,必须从分子水平上对添加剂进行设计,而添加剂在镀层中的夹杂是通过化学夹杂和物理夹杂引起,从分子水平上设计的低吸附型镀锡添加剂可以减少有机分子的夹杂。
贺岩峰张莹莹高学朋陈春孙红旗
关键词：电子电镀镀锡添加剂分子设计
一种甲基磺酸中总氯的测定方法
本发明公开了一种甲基磺酸中总氯的测定方法，包含步骤1，称取质量为1~5g的甲基磺酸样品，加入10~50%的高纯碱溶液5~20mL，加热至出现结晶，冷却后再加入5%~50%的硝酸调节pH为1~4；步骤2，加入浓度为17g/...
黄桂华李莎
文献传递
电镀用屏蔽装置
本实用新型公开了一种电镀用屏蔽装置，包括：阴极屏蔽板和阳极屏蔽板，阴极屏蔽板和阳极屏蔽板间隔设置，阳极屏蔽板上设有若干第一通孔，阴极屏蔽板上设有若干第二通孔，所述第一通孔与所述第二通孔相对设置，使得电力线可自所述第一通孔...
王振荣黄利松刘红兵
文献传递
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