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株式会社日本微拓科技
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2007
1篇
2006
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2003
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成膜装置的掩模对位机构以及成膜装置
一种成膜装置的掩模对位机构和成膜装置。成膜装置的掩模对位机构是在成膜装置内配设掩模夹具(22),在上述掩模夹具(22)承载上述掩模(26)时的成膜装置的掩模(26)对位机构,上述掩模夹具(22)是具有对应于上述掩模(26...
片冈达哉
长尾兼次
齐藤谦一
文献传递
成膜装置的基板安装方法以及成膜方法
一种成膜装置的基板安装方法,其在成膜装置上设置蒸发源和与该蒸发源相对的夹头(14),将基板安装保持在所述夹头(14)上,其中,在配置于所述夹头(14)与所述蒸发源之间的掩模(28)上载置玻璃基板(26),使所述掩模(28...
片冈达哉
长尾兼次
齐藤谦一
文献传递
成膜装置、成膜方法以及有机电发光元件的制造方法
一种成膜装置、成膜方法以及有机电发光(EL)元件的制造方法。成膜装置是包括成膜材料的供应源和形成所述成膜材料的膜的基板的成膜装置,其包括:能够在相对于所述基板的表面进行接近及离开的方向移动而配置在所述基板的表面侧的掩模(...
片冈达哉
长尾兼次
齐藤谦一
文献传递
掩模保持机构以及成膜装置
一种掩模保持机构和成膜装置。掩模保持机构是覆盖在被安装保持于成膜装置的夹头(14)上的基板的掩模(24)的掩模保持机构,上述掩模(24)由磁性体形成,在与保持上述夹头(14)的上述基板的夹头面的相反侧,将磁铁(16)以点...
片冈达哉
长尾兼次
齐藤谦一
文献传递
用于薄膜形成的分子供应源
本发明提供一种用于薄膜形成的分子供应源,利用从单个蒸发源排出的分子、即使在相对宽的膜形成表面(9)上也能够形成具有高均匀性的薄膜,其具有设置成多个的导向通路(4a)、(4b)和(4c),其中通过那些导向通路(4a)、(4...
斋藤建勇
小林理
文献传递
用于薄膜堆积的分子束源及控制分子束的量的方法
一种用于薄膜堆积的分子束源,其通过针形阀调节每小时排放的分子束的量,使之保持恒定而不用考虑坩锅内剩余的薄膜元件形成材料量的降低,其包括用于加热坩锅31和41内的薄膜元件形成材料“a”和“b”的加热器32和42,以及用于调...
小林理
石田俊彦
文献传递
用于有机薄膜的堆积的分子束源
一种用于堆积有机薄膜的分子束源,能够在大尺寸基底的膜形成表面上形成均匀薄膜,而不会在释放膜形成材料的分子的开口处产生膜形成材料的沉积或分离,其中阀33设置在从所述分子加热部12开始到所述用于向膜形成表面释放产生的膜形成材...
小林理
斋藤建勇
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掩模夹具的移动机构以及成膜装置
一种第一掩模夹具(20)的移动机构,是用于制造有机EL元件的成膜装置中的第一掩模夹具(20)的移动机构,包括:夹头(16),其与有机材料(12)的蒸发源(14)相对配置,使基板与掩模(34)重合;第一掩模夹具(20),其...
片冈达哉
长尾兼次
齐藤谦一
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薄膜沉积用分子束源装置和分子束沉积薄膜的方法
本发明提供一种薄膜沉积用分子束源装置和分子束沉积薄膜的方法,通过加热蒸发材料(5)、使该蒸发材料(5)熔融后蒸发,产生用于在固体表面上生长薄膜的蒸发分子。该分子束源装置具有装有蒸发材料(5)的坩埚(1)和加热装在该坩埚(...
水上时雄
斋藤建勇
城户淳二
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