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芝浦机械电子株式会社

作品数：378 被引量：0H指数：0
相关机构：株式会社东芝氯工程株式会社东芝存储器株式会社更多>>
相关领域：电子电信文化科学自动化与计算机技术轻工技术与工程更多>>

合作机构

文献类型

  • 378篇中文专利

领域

  • 29篇电子电信
  • 15篇文化科学
  • 11篇自动化与计算...
  • 4篇金属学及工艺
  • 4篇轻工技术与工...
  • 3篇化学工程
  • 3篇医药卫生
  • 3篇理学
  • 2篇矿业工程
  • 2篇电气工程
  • 2篇建筑科学
  • 1篇经济管理
  • 1篇农业科学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 230篇基板
  • 60篇喷嘴
  • 40篇支承
  • 26篇外周
  • 22篇电子部件
  • 21篇涂敷
  • 20篇排气
  • 20篇安装方法
  • 18篇清洗方法
  • 18篇加热器
  • 17篇粘贴
  • 17篇可旋转
  • 16篇树脂
  • 16篇气体
  • 16篇流体
  • 15篇蚀刻
  • 12篇电解
  • 12篇感器
  • 12篇传感
  • 10篇硫酸溶液

机构

  • 378篇芝浦机械电子...
  • 21篇株式会社东芝
  • 10篇氯工程株式会...
  • 7篇东芝存储器株...
  • 3篇科发伦材料株...
  • 3篇夏普株式会社
  • 2篇培尔梅烈克电...
  • 2篇中兴化成工业...
  • 2篇铠侠股份有限...
  • 1篇索尼碟技术株...
  • 1篇东芝陶瓷株式...
  • 1篇索尼信息技术...

年份

  • 14篇2024
  • 13篇2023
  • 16篇2022
  • 24篇2021
  • 21篇2020
  • 13篇2019
  • 25篇2018
  • 23篇2017
  • 15篇2016
  • 20篇2015
  • 17篇2014
  • 14篇2013
  • 30篇2012
  • 34篇2011
  • 26篇2010
  • 22篇2009
  • 18篇2008
  • 14篇2007
  • 11篇2006
  • 5篇2005
共 378 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
基板处理装置及基板处理方法
本发明提供一种基板处理装置(10)，其是对半导体晶圆(W)的被洗涤面(Wa)进行洗涤的基板处理装置(10)，其具备：能够保持半导体晶圆(W)的旋转夹头(21)、与保持于旋转夹头(21)上的半导体晶圆(W)的被洗涤面(Wa...
滨田崇广林航之介长岛裕次神山洋辉
文献传递
基板处理装置以及基板处理方法
实施方式涉及的基板处理装置(1)具备：支撑基板W的工作台(4)；向该工作台(4)上的基板W的表面供给挥发性溶剂的溶剂供给部(8)；对供给有挥发性溶剂的基板W照射光，并作为对基板W进行加热以使在供给有该挥发性溶剂的基板W的...
宫崎邦浩林航之介大田垣崇长岛裕次
文献传递
基板的处理装置
本发明提供一种处理装置，可容易进行设有输送基板的驱动辊的驱动轴的组装。处理装置具有：处理腔(12)；多个支承辊(14)，可旋转，沿基板的输送方向及与输送方向交叉的上下方向设置在处理腔中，并支承基板的倾斜方向的下侧的面；多...
广濑治道
文献传递
电子部件的安装装置和安装方法
本发明提供一种电子部件的安装装置和安装方法。该电子部件的安装装置包括：第一摄像机(43)、第二摄像机(44)，在通过转台(4)将被输送到安装位置的TCP(3)安装在面板(1)上时，对面板和TCP进行摄像；图像处理装置，在...
南浜悦郎广濑圭刚
文献传递
基板处理装置
本发明抑制处理液在基板面的再附着，提高基板品质。基板处理装置具备：旋转台，使基板旋转；和多个固定部件，与基板的外周抵接而把持基板，将基板固定于旋转台，在从旋转台的旋转轴方向观察时，固定部件在与基板抵接的一侧具有曲面，固定...
滨田崇广山崎修
基板处理装置及基板处理方法
本发明提供能够抑制基板尺寸的缩小的基板处理装置以及基板处理方法。实施方式的基板处理装置(10)具备：支承作为蚀刻对象的基板(W)的工作台(30)；相对于由工作台(30)支承的基板(W)相对移动，向由工作台(30)支承的基...
根本悠平林航之介长岛裕次秋本纱希松下淳
基板的处理装置以及处理方法
一种基板的处理装置，通过处理液来处理基板，其特征在于，具备：纳米气泡产生机构，用于产生纳米气泡，并使该纳米气泡与上述处理液混合；处理液供给机构，向上述基板的板面供给含有该纳米气泡产生机构所产生的纳米气泡的上述处理液；以及...
矶明典西部幸伸藤森康朝
文献传递
基板的处理装置以及处理方法
本发明提供了一种基板的处理装置，可以使腔内的气体相对该腔的宽度方向和长度方向均匀地排出。该装置具有装置主体(1)、传送辊(17)、主排气通道(6)以及多个分支排气通道(8)，其中装置主体(1)形成用处理液进行处理的腔(5...
末吉秀树矶明典丰岛范夫广濑治道高木慎一郎
文献传递
基板的处理装置以及处理方法
本发明提供了一种基板的处理装置，可以使腔内的气体相对该腔的宽度方向和长度方向均匀地排出。该装置具有装置主体(1)、传送辊(17)、主排气通道(6)以及多个分支排气通道(8)，其中装置主体(1)形成用处理液进行处理的腔(5...
末吉秀树矶明典丰岛范夫广濑治道高木慎一郎
文献传递
基板处理装置
本发明的目的是提供一种能够缩短在基板处理中花费的整体时间的基板处理装置。有关实施方式的基板处理装置(1)具备：多个夹紧部(3d)，设置为以基板旋转轴(A1)为中心与旋转板(3c)一起旋转，以各个销旋转轴(A2)为中心旋转...
古矢正明
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