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罗门哈斯电子材料有限责任公司

作品数：488 被引量：0H指数：0
相关机构：陶氏环球技术有限责任公司罗门哈斯电子材料韩国有限公司伊利诺伊大学更多>>
相关领域：化学工程自动化与计算机技术金属学及工艺理学更多>>

合作机构

文献类型

  • 488篇中文专利

领域

  • 99篇化学工程
  • 19篇自动化与计算...
  • 12篇金属学及工艺
  • 9篇理学
  • 5篇医药卫生
  • 4篇电子电信
  • 3篇文化科学
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇经济管理
  • 1篇机械工程

主题

  • 185篇组合物
  • 125篇抗蚀剂
  • 120篇光致
  • 120篇光致抗蚀剂
  • 77篇电镀
  • 57篇芳基
  • 50篇图案
  • 46篇化合物
  • 43篇共聚
  • 43篇共聚物
  • 41篇芳香族
  • 40篇基团
  • 38篇半导体
  • 38篇衬底
  • 33篇树脂
  • 30篇嵌段
  • 28篇电子装置
  • 28篇嵌段共聚
  • 28篇嵌段共聚物
  • 24篇涂层

机构

  • 488篇罗门哈斯电子...
  • 134篇陶氏环球技术...
  • 39篇罗门哈斯电子...
  • 10篇伊利诺伊大学
  • 7篇昆士兰大学
  • 7篇加利福尼亚大...
  • 6篇陶氏环球技术...
  • 6篇杜邦电子公司
  • 2篇DDP特种电...
  • 2篇美国陶氏有机...
  • 1篇DDP特种电...
  • 1篇道康宁东丽株...
  • 1篇杜邦东丽特殊...

年份

  • 26篇2024
  • 29篇2023
  • 48篇2022
  • 47篇2021
  • 44篇2020
  • 92篇2019
  • 83篇2018
  • 57篇2017
  • 60篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2014
共 488 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
嵌段共聚物和图案处理组合物以及方法
嵌段共聚物包含有包含交替共聚物的第一嵌段，和包含有包含氢受体的单元的第二嵌段。嵌段共聚物在图案收缩组合物和半导体装置制造方法中具有特定用途，用于提供高分辨率图案。
V·吉安H·周J·W·成P·特雷福纳斯三世P·D·休斯塔德M·李
增韧芳基环丁烯聚合物
本发明提供了具有增强的韧性的芳基环丁烯聚合物。本发明还提供了用于涂覆具有增强的韧性的芳基环丁烯聚合物的组合物和方法。
柏志峰M·K·加拉格尔王子栋C·J·图克M·T·毕晓普E·埃古德凯恩M·S·奥利弗
文献传递
用于耐化学性聚合物材料的不含铬的蚀刻溶液
使用含水和碱性的不含铬的蚀刻溶液蚀刻耐化学性的聚合物。所述不含铬的蚀刻含水碱性溶液对环境友好，并且可用于制备耐化学性聚合物，所述耐化学性聚合物用于无电金属镀覆，包括在印刷电路板制造中镀覆通孔壁。
C·穆尔泽
文献传递
来自含有氮杂环的单体和含有乙烯基芳基环丁烯的单体的加成聚合物
本发明提供一种聚合物组合物，其包含呈共聚形式的一种或多种具有烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、硫代烷基或硫代芳基环丁烯环取代基的可加成聚合的芳基环丁烯单体A、一种或多种芳香族可加成聚合的第二单体和一种或多种可加成聚合的选自以下...
C·海耶斯T·奥德R·K·巴尔D·弗莱明M·K·加拉格尔M·里内尔
文献传递
铋电镀浴和将铋电镀于基板上的方法
酸铋电镀浴在浴液寿命期间是稳定的并且具有高电流效率。由于浴液组分数目减少，因此铋浴容易控制。
A·福伊特M·克洛斯
用于电子器件的衍生自氧取代的苯并环丁烯的组合物
本发明提供了用于OLED应用中的包含BCB官能化材料的组合物。可以使用本发明的组合物形成用于电致发光器件中的空穴传输材料。特别地，本发明提供了包含聚合物或由其形成的组合物、电荷传输膜层，以及发光器件，所述聚合物包含一个或...
L·P·斯宾塞N·T·麦克杜格尔P·特雷福纳斯三世D·D·德沃尔
文献传递
自含有咪唑化合物、双环氧化物和卤基苄基化合物的反应产物的铜电镀浴电镀光致抗蚀剂限定的特征的方法
电镀方法能够镀覆具有基本上均匀形态的光致抗蚀剂限定的特征。所述电镀方法包括具有咪唑化合物、双环氧化物和卤基苄基化合物的反应产物的铜电镀浴以电镀所述光致抗蚀剂限定的特征。此类特征包括柱、接合垫和线空间特征。
M·托尔塞斯Z·尼亚齐姆贝托瓦Y·秦J·沃尔特英克J·考兹休克E·爱丁顿M·列斐伏尔
文献传递
光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
一种光致抗蚀剂组合物，其包含：第一聚合物，该第一聚合物包含：含有羟基芳基基团的第一重复单元；含有第一酸不稳定基团的第二重复单元；以及含有pKa为12或更小的第一碱溶性基团并且不含羟基芳基的第三重复单元；其中该第一聚合物的...
崔莉S·M·科莱E·阿卡德岑寅杰朴钟根李忠奉J·F·卡梅伦
光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
光致抗蚀剂组合物包含：酸敏感聚合物，其包含由包含酸可分解基团的第一可自由基聚合单体形成的第一重复单元和由包含羧酸基团的第二可自由基聚合单体形成的第二重复单元；包含两个或更多个烯醇醚基团的化合物，其中所述化合物不同于所述酸...
侯希森李明琦J·凯茨T·马兰戈尼P·特雷夫纳斯三世
光致抗蚀剂图案修整组合物以及图案形成方法
光致抗蚀剂图案修整组合物包含聚合物、芳香族磺酸和基于有机物的溶剂体系，其中所述聚合物包含具有通式(I)和(II)的聚合单元：<Image file="DDA0002508353550000011.GIF" he="372...
侯希森I·考尔刘骢李明琦K·罗威尔徐成柏
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