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武汉鼎泽新材料技术有限公司
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湖北鼎龙控股股份有限公司
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化学机械抛光
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机械抛光
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一种颗粒物清除效率的快速评价方法
本发明公开了一种颗粒物清除效率的快速评价方法,对半导体制造中化学机械抛光处理后的晶圆表面颗粒物的清除效率进行评价,包括:切割处理晶片得到晶片样品,进行沾染实验,获得待清洗的晶样;进行形貌分析,获得清洗前三维形貌图像;用清...
胡怀志
刘子龙
冉运
马超
魏志远
朱顺全
文献传递
评价晶片清洗效率的方法及实验装置
本发明涉及一种用于评价晶片清洗效率的方法及实验装置,解决了现有方法准确性不高、存在系统误差和人为误差的问题。方法为将粘染物溶液滴入旋转中的晶片样品表面进行沾染实验,获得表面带有缺陷的沾染晶片样品;使用形貌表征仪器对沾染晶...
刘子龙
胡怀志
冉运
朱顺全
文献传递
一种清洗液管路供给装置
本实用新型公开了一种清洗液管路供给装置,包括进液管,所述进液管的表面设置有控制阀门,所述进液管的出液端连接有蓄液箱,所述蓄液箱的上表面设置有剂量盒,所述蓄液箱的内顶壁固定连接有直角板,所述直角板的竖板侧面固定连接有导液板...
陈俊武
刘子龙
肖桂林
一种抛光液温度控制装置
本实用新型公开了一种抛光液温度控制装置,包括储存盒,所述储存盒的两侧分别设置有进液管和出液管,且出液管的表面设置有控制阀门,所述储存盒的上表面设置有设备盒,所述设备盒的内底壁设置有马达,且马达的输出端固定连接有传动杆,所...
黄维
刘子龙
肖桂林
一种清洗液贮留罐
本实用新型公开了一种清洗液贮留罐,包括罐体,所述罐体的底部固定连接有限位环,所述限位环的下表面转动连接有底座,所述底座的上表面转动连接有凸盘,所述底座的侧面卡接有直角杆,所述直角杆的一端设置有阻尼转轴,所述罐体的上表面设...
冉运
肖文正
刘子龙
肖桂林
一种光刻胶调配釜的清洗装置
本实用新型公开了一种光刻胶调配釜的清洗装置,包括釜体,所述釜体的下表面固定连接有支撑机构,所述支撑机构的上表面设置有清洗机构,所述支撑机构包括支撑釜体的支撑柱,所述支撑柱的底端固定连接有支撑板,所述支撑板的下表面四角均固...
胡怀志
胡盼
刘子龙
肖桂林
评价晶片清洗效率的实验装置
本实用新型涉及一种评价晶片清洗效率的实验装置,解决了现有方法准确性不高、存在系统误差和人为误差的问题。包括:支架,设置在所述支架上的真空吸附晶片样品并带动晶片样品旋转的真空旋转装置,以及设置在所述支架上的将粘染物溶液或清...
刘子龙
胡怀志
冉运
朱顺全
文献传递
具有高精密计时控制的浸泡装置
本实用新型公开了一种具有高精密计时控制的浸泡装置,属于液体浸泡法所用装置技术领域,为解决现有方法系统误差与人为误差较大等问题而设计。本实用新型具有高精密计时控制的浸泡装置包括自上而下依次连通设置的盛液容器、浸泡容器和回收...
刘子龙
马超
文献传递
一种抛光液传输设备
本实用新型公开了一种抛光液传输设备,其特征在于:包括传输管,所述传输管的侧面固定连接有固定板,所述固定板的侧面螺纹连接有螺纹杆,所述螺纹杆的一端固定连接有控制盘,所述控制盘的侧面固定连接有橡胶环,所述螺纹杆的另一端固定连...
徐阳
陈鹏
刘子龙
肖桂林
具有高精密计时控制的浸泡装置及浸泡方法
本发明公开了一种具有高精密计时控制的浸泡装置及浸泡方法,属于液体浸泡法所用装置技术领域,为解决现有方法系统误差与人为误差较大等问题而设计。本发明具有高精密计时控制的浸泡装置包括自上而下依次连通设置的盛液容器、浸泡容器和回...
刘子龙
马超
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