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株式会社SK电子

作品数：45 被引量：0H指数：0
相关机构：株式会社写真化学京瓷株式会社爱发科成膜株式会社更多>>
相关领域：电子电信电气工程文化科学轻工技术与工程更多>>

合作机构

文献类型

  • 45篇中文专利

领域

  • 12篇电子电信
  • 4篇电气工程
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇文化科学

主题

  • 30篇掩模
  • 24篇光掩模
  • 15篇图案
  • 15篇抗蚀剂
  • 11篇光致
  • 11篇光致抗蚀剂
  • 11篇半色调
  • 10篇透射
  • 9篇半透膜
  • 8篇相移
  • 6篇透射率
  • 5篇天线
  • 5篇相位
  • 4篇电感
  • 4篇电感器
  • 4篇电容
  • 4篇电容器
  • 4篇遮光
  • 4篇缺陷修正
  • 4篇线圈

机构

  • 45篇株式会社SK...
  • 2篇京瓷株式会社
  • 2篇株式会社写真...
  • 1篇爱发科成膜株...

年份

  • 6篇2024
  • 5篇2023
  • 9篇2022
  • 9篇2021
  • 4篇2020
  • 4篇2019
  • 4篇2018
  • 2篇2017
  • 1篇2015
  • 1篇2010
共 45 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
FPD用光掩模、FPD用光掩模的位置测量用标记的形成方法以及FPD用光掩模的制造方法
本发明提供一种FPD用光掩模，其以合适的形态形成用于保证二维地排列的各单位图案的位置精度的位置测量用标记。FPD用光掩模(1)具备：图案形成区域(1A)，由多个单位图案形成区域(1Aa)、……在周围具有空白部(1Ab)且...
桥本昌典
相移掩模的缺陷修正方法
本发明提供一种相移掩模的缺陷修正方法，其特征在于包括以下步骤：第一步骤(S1)，针对在透明基板上具有由相移膜形成的、包含缺损部的图案的光掩模基板，测定缺损部的位置和尺寸；第二步骤(S2)，判断所述相移膜上的所述缺损部的尺...
齐藤隆史山田慎吾森山久美子
文献传递
半色调掩模的缺陷修正方法、半色调掩模的制造方法以及半色调掩模
本发明的课题是提供可进行极高精度的缺陷修正的半色调掩模的缺陷修正方法、半色调掩模的制造方法，以及缺陷被极高精度地修正的半色调掩模。本发明的半色调掩模的缺陷修正方法通过在半透射部3的缺陷修正对象区域5形成修正膜10，从而修...
赤木宣纪多田莲
半色调掩模、光掩模坯和半色调掩模的制造方法
本发明提供一种能够曝光细微光致抗蚀剂图案的多灰阶半色调掩模。其解决方法在于，在透明基板上形成有由半透膜的图案构成的半透过部和由相位偏移膜的图案构成的相位偏移部，相位偏移膜使曝光光的相位反转，相位偏移膜的透过率低于半透膜的...
山田慎吾森山久美子美作昌宏
文献传递
光掩模、光掩模的制造方法、显示装置的制造方法
本发明的目的在于使感光性抗蚀剂从中央向外侧缓缓地倾斜。光掩模(1A)在透明基板上具有多个图案形成区域A和透光部(7)，所述多个图案形成区域(A)通过所述半透过膜的图案与遮光膜的图案以部分重叠的方式层叠而形成且具有规定的形...
田中千惠齐藤隆史山田步实森山久美子福泉照夫
文献传递
LC共振天线
本发明为LC共振天线，具有：电感器层，其设有线圈状的电感器；电容器层，其设有电容器且层叠于该电感器层，所述电容器具有多个电极板，该多个电极板在所述电感器层与所述电容器层的层叠方向上与所述电感器排列、且在与该层叠方向正交的...
小林英樹大島清志
光掩模的制造方法以及光掩模
本发明提供一种光掩模的制造方法以及光掩模，与以往的光掩模的制造方法相比，能够实现光掩模的进一步的高精细化。其中，光掩模的图案的第二区域的边缘位置(半透膜3的边缘位置)并非基于上层膜图案的第二图案4B的、与第一图案4A相反...
山田慎吾森山久美子坂东宏树川原未佑
相移掩模的缺陷修正方法
本发明提供一种相移掩模的缺陷修正方法，其特征在于包括以下步骤：第一步骤(S1)，针对在透明基板上具有由相移膜形成的、包含缺损部的图案的光掩模基板，测定缺损部的位置和尺寸；第二步骤(S2)，判断所述相移膜上的所述缺损部的尺...
齐藤隆史山田慎吾森山久美子
文献传递
光掩模的制造方法以及光掩模
本发明的课题在于提供一种光掩模的制造方法以及光掩模，该制造方法能够实现光掩模的高精细化以及能够形成的图案形状的多样化两者。本发明的光掩模的制造方法的要点在于，在构图工序中，形成第一次抗蚀剂图案，第一次抗蚀剂图案的一部分具...
桥本昌典森山久美子山田慎吾
带防药剂暴露功能的加压式药品注入器
本发明的目的在于提供一种能够搬运的抗癌剂容器，其用于防止在进行使用清洗液的系统清洗时，由于因拆下连接器的操作产生的药液漏出而对人体的暴露、感染。提供一种带防药剂暴露功能的加压式药品注入器，其包括系统清洗功能，该带防药剂暴...
辻晃仁松田直树
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