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长瀬化成株式会社

作品数：19 被引量：0H指数：0
相关机构：长瀬产业株式会社栗田工业株式会社日立金属株式会社更多>>
相关领域：医药卫生金属学及工艺化学工程更多>>

合作机构

文献类型

  • 19篇中文专利

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇医药卫生

主题

  • 12篇组合物
  • 7篇抗蚀剂
  • 7篇剥离剂
  • 6篇羟基
  • 5篇光致
  • 5篇光致抗蚀剂
  • 3篇杀微生物剂
  • 3篇树脂
  • 3篇树脂组合物
  • 3篇水解物
  • 3篇噻唑啉
  • 3篇合金
  • 3篇酚醛
  • 3篇酚醛清漆
  • 2篇导线
  • 2篇豆素
  • 2篇亚胺
  • 2篇乙酸
  • 2篇乙酸酯
  • 2篇有机膜

机构

  • 19篇长瀬化成株式...
  • 3篇栗田工业株式...
  • 3篇长瀬产业株式...
  • 1篇日立金属株式...

年份

  • 3篇2014
  • 3篇2012
  • 5篇2011
  • 1篇2010
  • 3篇2009
  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 2篇2004
共 19 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
棉纤维用精炼液及连续式棉纤维酶精炼的控制方法
本发明提供一种棉纤维的连续式酶精炼方法，该方法不仅可改善精炼后的棉纤维吸湿性及染色性，还可节约能源，保护环境。本发明使用含有原果胶酶、α－淀粉酶、表面活性剂及棉蜡去除剂的棉纤维用精炼液对棉纤维进行精炼。本发明的棉纤维的连...
叶怡尹云芳李淑莉张荣范刘志军白立国谷胁成幸宇野正人刘晓丽
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光致抗蚀剂剥离剂组合物
本发明提供FPD制造用光致抗蚀剂剥离剂组合物，其能够在FPD制造工序中剥离光致抗蚀剂，而不会腐蚀Al或Al合金导线，而且也不会腐蚀Cu或Cu合金导线。本发明的光致抗蚀剂剥离剂组合物含有：选自由麦芽酚、2，6－二甲基－γ－...
山边崇史西嶋佳孝安江秀国
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感光性有机膜用显影液组合物
本发明提供一种感光性有机膜(主要是光致抗蚀剂)用显影液，所述显影液不腐蚀Al的性能优异，并且显影性也良好。本发明的感光性有机膜(主要是光致抗蚀剂)用显影液组合物含有0.5重量％～5重量％氢氧化四烷基铵、10重量％～40重...
安江秀国西岛佳孝城户秀作
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光致抗蚀剂剥离剂组合物以及光致抗蚀剂剥离方法
本发明提供一种光致抗蚀剂剥离剂组合物以及使用该组合物的光致抗蚀剂剥离方法，所述光致抗蚀剂剥离剂组合物在半导体基板和FPD基板的铜或铜合金布线制造工艺中，能够在不含有苯并三唑类和含硫羟基化合物的情况下，不腐蚀铜或铜合金布线...
安江秀国
光致抗蚀剂剥离剂组合物、层积金属布线基板的光致抗蚀剂剥离方法和制造方法
本发明涉及一种光致抗蚀剂剥离剂组合物、使用了该光致抗蚀剂剥离剂组合物的层积金属布线基板的光致抗蚀剂剥离方法以及制造方法，所述光致抗蚀剂剥离剂组合物在半导体基板和FPD基板的铜或铜合金布线制造工序中使用，其在不含有苯并三唑...
安江秀国
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感光性有机膜用显影液组合物
本发明提供一种感光性有机膜(主要是光致抗蚀剂)用显影液，所述显影液不腐蚀Al的性能优异，并且显影性也良好。本发明的感光性有机膜(主要是光致抗蚀剂)用显影液组合物含有0.5重量％～5重量％氢氧化四烷基铵、10重量％～40重...
安江秀国西岛佳孝城户秀作
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光致抗蚀剂剥离剂组合物
本发明提供FPD制造用光致抗蚀剂剥离剂组合物，其能够在FPD制造工序中剥离光致抗蚀剂，而不会腐蚀Al或Al合金导线，而且也不会腐蚀Cu或Cu合金导线。本发明的光致抗蚀剂剥离剂组合物含有：选自由麦芽酚、2，6-二甲基-γ-...
山边崇史西嶋佳孝安江秀国
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杀微生物剂
本发明的目的在于提供一种杀微生物剂，其以5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮作为有效成分，在其工业制造工序中使用的有机溶剂的残留物和水解物的含量得以降低。本发明的杀微生物剂含有5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮作为...
大西敏圣东条环肥塚安弘山西正人青木哲也冲野研二
抗蚀剂剥离用组合物
本发明提供一种含有具有硝基的有机化合物(A)以及抗蚀剂剥离剂(B)的抗蚀剂剥离用组合物。使用该组合物时，可在半导体或液晶用元件电路等的制造工艺中，高性能地除去配线形成时所生成的抗蚀剂残渣，并能抑制硅基板的腐蚀，或者能很好...
武井瑞树内田惠未小谷武
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杀微生物剂
本发明的目的在于提供一种杀微生物剂，其是含有5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮作为有效成分的杀微生物剂，该杀微生物剂的特征在于，有机溶剂及其水解物的合计含量与上述有效成分的浓度满足下式：由ppm表示的有机溶剂及其水解...
大西敏圣东条环肥塚安弘山西正人青木哲也冲野研二
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