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上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司

作品数：439 被引量：4H指数：1
相关机构：上海集成电路研发中心成都微光集电科技有限公司河北科技大学更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术文化科学金属学及工艺更多>>

合作机构

文献类型

  • 435篇专利
  • 4篇期刊文章

领域

  • 95篇电子电信
  • 86篇自动化与计算...
  • 22篇文化科学
  • 15篇金属学及工艺
  • 9篇电气工程
  • 7篇经济管理
  • 7篇机械工程
  • 6篇化学工程
  • 3篇建筑科学
  • 3篇交通运输工程
  • 2篇轻工技术与工...
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇水利工程
  • 1篇医药卫生
  • 1篇农业科学
  • 1篇理学

主题

  • 61篇图像
  • 56篇半导体
  • 54篇晶圆
  • 51篇光刻
  • 45篇感器
  • 45篇传感
  • 45篇传感器
  • 42篇电路
  • 41篇刻蚀
  • 33篇图像传感器
  • 29篇掩模
  • 25篇半导体器件
  • 24篇介质层
  • 24篇衬底
  • 23篇存储器
  • 22篇光电
  • 21篇信号
  • 19篇芯片
  • 18篇鳍片
  • 16篇光刻机

机构

  • 439篇上海集成电路...
  • 315篇上海集成电路...
  • 14篇成都微光集电...
  • 1篇河北科技大学

作者

  • 29篇康晓旭
  • 27篇李琛
  • 11篇温建新
  • 9篇叶红波
  • 5篇杨海玲
  • 4篇钟旻
  • 4篇范春晖
  • 3篇袁伟
  • 3篇赵宇航
  • 3篇孙德明
  • 3篇朱建军
  • 3篇奚鹏程
  • 2篇胡正军
  • 2篇郭奥
  • 2篇李铭
  • 2篇何学红
  • 2篇蒋宇
  • 1篇左青云
  • 1篇林宏
  • 1篇周伟

传媒

  • 3篇集成电路应用
  • 1篇机床与液压

年份

  • 95篇2024
  • 140篇2023
  • 155篇2022
  • 46篇2021
  • 3篇2020
共 439 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种注入保护层厚度控制方法及装置
本发明公开了一种注入保护层厚度控制方法及装置，通过在栅极侧墙刻蚀阶段，利用将刻蚀气体中的氧气等离子化，对衬底表面进行氧化，在衬底表面上形成原生氧化层，并在刻蚀阶段，根据厚度管控规格要求，通过设定偏置功率，对原生氧化层的厚...
牛清坡
透射测试装置、信噪比测试系统及测试方法
本发明提供了一种透射测试装置，包括至少一个透射测试单元，所述透射测试单元包括第一透射测试子单元、第二透射测试子单元和第三透射测试子单元，所述第一透射测试子单元和所述第二透射测试子单元相接触，且均设置于所述第三透射测试子单...
白丽莎张悦强叶红波温建新
基于阻变存储器的设备标识确定方法、装置、设备及介质
本申请提供一种基于阻变存储器的设备标识确定方法、装置、设备及介质。该方法包括：根据物理不可克隆功能电路中阻变存储器的第一电阻和设备向物理不可克隆功能电路所输入的输入电压，确定阻变存储器的第一输出电流；若阻变存储器的第一输...
张飞翔李琛余学儒陈保安
实现卷积运算的电路及其方法
本发明提供了一种实现卷积运算的电路，包括编码模块、数模转换模块、存储器阵列、参考阵列、调整模块、符号列处理模块和计算模块；编码模块用于获取符号位和权重编码；数模转换模块用于将输入数字信号转换为电压信号；存储器阵列用于映射...
张飞翔李琛余学儒段杰斌杨何勇
文献传递
光刻胶图形的形成方法
本发明提供了一种光刻胶图形的形成方法，包括：提供半导体衬底和掩模版，掩模版具有若干凸起的掩模图形；将半导体衬底与掩模版具有掩模图形的一面贴合以形成若干间隙，且将半导体衬底与掩模版置于盛有光刻胶的容器中；执行超声波传导工艺...
王梦知
一种金属层中最小线宽和最小间距的图形优化方法及装置
本发明公开了一种金属层中最小线宽和最小间距的图形优化方法及装置，应用于光刻制造领域，包括：选取包括金属层中最小线宽和最小间距的图形，作为目标图形；目标图形为沿最小线宽和最小间距排列的方向，最小线宽的一侧只具有一个相邻间距...
邹雪峰
一种晶圆研磨装置
本实用新型提供了一种晶圆研磨装置，包括相对设置的研磨台和晶圆承载台，所述晶圆承载台用于承载晶圆，并可将所述晶圆朝所述研磨台移动，设于所述研磨台的研磨垫，所述研磨垫可随着所述研磨台转动；设于研磨台侧边的研磨液供应器，所述研...
戚智超陈鸿泽
存算一体存储阵列及其卷积运算方法
本发明提供了一种存算一体存储阵列及其卷积运算方法，通过同步操作同组斜向块，可完成输入矩阵及权重矩阵的卷积运算，且同步得到结果矩阵的每个元素，实现并行运算，从而节省时间和功耗；尽管每一次卷积运算涉及到的存储单元很稀疏，但是...
沈灵蒋宇严慧婕段杰斌温建新
文献传递
一种在线更换动态气体锁的装置
本发明公开了一种在线更换动态气体锁的装置，包括：缓冲腔，用于在与真空腔室内部隔绝下，对由真空腔室外部接入的新动态气体锁进行暂存，并在与真空腔室外部隔绝下，对由真空腔室内部送入的旧动态气体锁进行暂存；输送及装卸机构，用于通...
李艳丽伍强顾峥
一种真空腔中器件的更换装置和方法
本发明公开了一种真空腔中器件的更换装置，包括真空腔和缓冲腔，所述真空腔中包括器件、以及对器件进行固定的至少三个可伸缩的第一限位单元；所述缓冲腔中包括抓手以及连接在抓手上的至少三个夹爪，所述夹爪的前端连接第二限位单元，所述...
顾峥伍强李艳丽
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