深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心
- 作品数：33 被引量：85H指数：6
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- 相关机构：东北大学东北师范大学深圳新南亚技术开发有限公司更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划深圳市科技计划项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺理学自动化与计算机技术更多>>
- 复合离子镀膜技术制备Cr+Ti+TiNC/TiNC+C／DLC膜性能研究
- 将中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺结合起来制备了Cr+Ti+TiNC／TiNC+C／DLC硬质膜。硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的DLC,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和C...
- 马胜歌于大洋杨宏伟张以忱
- 关键词：DLC非平衡磁控溅射电弧离子镀
- 文献传递
- 柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀制备Ti-N-C黑色硬质膜
- 2007年
- 采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜。采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能。结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好;中频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深。
- 马胜歌康光宇
- 关键词：非平衡磁控溅射
- 铝合金微弧氧化陶瓷膜性能及其影响因素探讨被引量：11
- 2005年
- 微弧氧化是一个复杂的电化学过程,研究多种因素对氧化陶瓷膜层的影响,对良好陶瓷膜层的制备及相关产品的质量改善具有指导作用。为了说明微弧氧化过程中能量的实质作用,引入氧化功率概念,以LY12铝合金为样品,采用脉冲电源,在一定的脉宽、频率条件下,改变微弧氧化时间、微弧氧化功率等参数,获得相应的铝陶瓷膜,通过对相关样品进行膜层厚度、膜层硬度测量,得到一系列数据,研究并找出其变化规律。试验表明:在相同氧化时间及氧化面积下,随着加载功率的增大,微弧氧化陶瓷膜层的厚度、硬度呈增加趋势;在相同的条件下,在一定的时间范围内,随着氧化时间的延长,膜层厚度呈增长趋势;在相同工艺参数情况下,随着工件面积的增大,微弧氧化膜层的厚度呈降低趋势。
- 赵豪民江俊灵
- 关键词：微弧氧化工艺参数
- 间规聚苯乙烯共混改性研究进展被引量：8
- 2003年
- 介绍了间规聚苯乙烯 (SPS)的特点 ,论述了间规聚苯乙烯共混改性的研究进展。详细介绍了SPS和聚苯醚共混 ,SPS和弹性体共混以及SPS和聚酰胺、聚酯等高聚物的共混改性 ,并展望了SPS的应用前景。
- 康光宇刘金成
- 关键词：间规聚苯乙烯共混改性聚合物合金
- 铝材微弧氧化功率与表面粗糙度的关系被引量：4
- 2005年
- 在实际工业应用中,对不同的产品表面粗糙度有不同的要求,因此,在利用表面处理技术对产品进行表面处理时,其对产品表面粗糙度的影响成为必须考虑的因素。采用微弧氧化技术,以LY12铝合金为试验样品,通过改变不同的微弧氧化功率,制备相应的铝合金陶瓷膜,分别对陶瓷膜进行SEM分析及表面粗糙度测量,得出铝合金陶瓷膜表面粗糙度随微弧氧化功率的变化曲线,研究了氧化功率对铝合金陶瓷膜表面粗糙度的影响。结果表明:微弧氧化功率对铝合金陶瓷膜表面粗糙度的影响非常明显,随着微弧氧化功率的提高,陶瓷膜粗糙度随之增大。并从机理方面进一步做了分析。
- 赵豪民江俊灵戴新江
- 关键词：微弧氧化铝材表面粗糙度
- 薄膜热阻微传感器技术
- 随着科学技术的不断进步,人们对温度信息获取的手段提出了越来越高的要求,传统的温度传感器已经逐渐不能满足工业生产的使用要求。在工业生产中,人们对温度传感器超小型化的要求越来越迫切,而薄膜传感器的出现能满足这一要求。薄膜温度...
- 张以忱巴德纯马胜歌
- 关键词：热电阻膜系
- 文献传递
- 离子渗氮新技术的研究现状被引量：24
- 2007年
- 为了克服传统离子渗氮的一些固有缺点,近些年来出现一些新的离子渗氮技术,如活性屏离子渗氮、等离子体源离子渗氮、离子注入离子渗氮等,本文简要介绍了这些新技术及其原理、特点,总结了这类技术的共性模型。其中,活性屏离子渗氮技术和等离子体源离子渗氮技术有着明显的设备和工艺优势,可能成为离子渗氮技术的发展方向。
- 龙发进周祎康光宇李鑫鸿耿漫
- 关键词：离子渗氮等离子体源离子注入
- 复合离子镀膜技术制备Cr＋Ti＋TiNC／TiNC＋C／DLC膜性能研究被引量：3
- 2008年
- 结合中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺,制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜。硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的类金刚石(Diamond-like Carbon,DLC)膜,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和Cr的TiNC,力学性能良好。
- 马胜歌于大洋杨宏伟张以忱
- 关键词：类金刚石膜非平衡磁控溅射电弧离子镀
- 金属薄膜复合制备装置及工艺
- 本发明公开了一种金属薄膜复合制备装置及工艺，要解决的技术问题是在工件表面快速沉积结合力好、纯度高的金属薄膜，本发明的金属薄膜复合制备装置，镀膜室体内设有蒸发源和工件转架，镀膜室体中设有磁控溅射源，工件转架设置在磁控溅射源...
- 马胜歌张德元耿漫赵和平
- 文献传递
- 离子辅助中频孪生靶非平衡磁控溅射制备Cr+Ti+TiC／TiC+C／C
- 将中频孪生靶磁控溅射、非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积四种技术结合起来开发了复合镀膜工艺,制备了黑色硬质膜。用X射线光电子能谱仪和显微激光拉曼光谱仪分析膜的成分与结构,用扫描电子显微镜、轮廓仪和分光光度计测...
- 马胜歌于大洋杨宏伟张以忱
- 关键词：多层膜非平衡磁控溅射电弧离子镀
- 文献传递
