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国家自然科学基金(60706005)

作品数:6 被引量:19H指数:3
相关作者:胡松周绍林马平严伟陈旺富更多>>
相关机构:中国科学院中国科学院研究生院乐山师范学院更多>>
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领域

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主题

  • 10个掩模
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  • 8个双光栅
  • 7个电机
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  • 7个矢量衍射
  • 7个矢量衍射理论
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  • 6个单点

机构

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  • 1个西藏自治区气...

资助

  • 11个国家高技术研...
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传媒

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  • 3个2013‘全...
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地区

  • 9个四川省
  • 1个西藏
  • 1个广东省
11 条 记 录,以下是 1-10
胡松
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:光刻机 工件台 光刻 掩模 生物芯片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周绍林
供职机构:华南理工大学
研究主题:纳米光刻 条纹 光固化 光栅 成像系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马平
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:光刻机 掩模 工件台 样片 纳米光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
严伟
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:生物芯片 工件台 光刻 纳米光刻 成像系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈旺富
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:纳米光刻 条纹 图像探测器 双光栅 成像系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨勇
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:纳米光刻 光刻机 投影光刻 光刻 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐文祥
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:光刻机 投影光刻机 掩模 光束 动镜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐小萍
供职机构:西藏自治区气候中心
研究主题:生物芯片 纳米光刻 掩模 光刻分辨力 光刻机
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蒋文波
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:成像系统 位相型 光刻 纳米光刻 无掩模光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵立新
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:光刻机 掩模 工件台 调制度 镜片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共2页<12>
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