江苏省自然科学基金(BK2007193)
- 作品数：8 被引量：13H指数：3
- 相关作者：卢文壮左敦稳王鸿翔徐锋徐峰更多>>
- 相关机构：南京航空航天大学淮安信息职业技术学院中国航天科工集团公司更多>>
- 发文基金：江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术化学工程更多>>
- 工艺条件对金刚石膜红外透射率影响的研究被引量：1
- 2010年
- 为了优化金刚石沉积工艺,制备高透射率的CVD金刚石薄膜,采用傅里叶红外光谱仪对不同工艺条件下制备的CVD金刚石膜的红外透射率进行了测量,分析了不同工艺条件对金刚石膜红外透射率的影响,获得了最佳沉积参数.结果表明,金刚石膜的红外透射率与工艺条件密切相关,当衬底温度为750℃,碳源体积分数为2%,压强为2.5kPa时沉积的金刚石膜红外透射率最佳.
- 王鸿翔左敦稳卢文壮徐峰
- 关键词：CVD金刚石膜
- 硅衬底上高增透金刚石膜的制备研究被引量：3
- 2009年
- 采用甲烷和氢气作为工作气体,在热丝化学气相沉积(HFCVD)设备上采用五段式沉积法制备了金刚石薄膜,用扫描电子显微镜(SEM)、激光拉曼光谱仪、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶红外光谱仪研究了金刚石膜的结构和性质。结果表明,采用五段式沉积法可以得到晶粒大小达到纳米级的、表面粗糙度较小、金刚石纯度较高的金刚石膜,其最大增透率超过70%,能满足作为光学窗口增透膜的应用要求。
- 王鸿翔左敦稳卢文壮徐峰
- 关键词：HFCVD金刚石膜增透
- 整体硬质合金铣刀上制备CVD金刚石涂层的系统三维流场研究被引量：2
- 2010年
- 本文通过建立整体硬质合金立铣刀上制备CVD金刚石涂层时CVD沉积系统流场的三维模型,研究了进气口分布对该系统流场均匀性的影响,优化了进气口的分布;在仿真的基础上开展了整体硬质合金立铣刀上制备CVD金刚石涂层的验证实验,采用SEM和Ram an对制备的CVD金刚石涂层进行了分析测试。结果表明:优化后的流场可以用于制备高质量的CVD金刚石涂层,且批量制备出的在衬底不同位置上的铣刀表面CVD金刚石涂层的质量均匀一致。
- 林欢庆卢文壮左敦稳徐锋袁佳晶马乐娟
- 关键词：铣刀CVD金刚石涂层三维流场
- EACVD小型化系统摆动衬底设计及温度场仿真研究被引量：4
- 2009年
- 对传统的电子辅助化学气相沉积(EACVD)系统连续转动衬底进行改进,设计了无急回特性的曲柄摇杆机构摆动衬底,解决了原衬底结构复杂,只能单点测温,以及衬底冷却水渗漏等问题;对摆动衬底的温度场进行仿真计算,分析了不同摆动参数对衬底温度场的影响,结果表明,选用合适的摆动参数可以获得比较均匀的衬底温度场。仿真结果可以为衬底摆动机构的设计提供理论依据。
- 王鸿翔左敦稳卢文壮林欢庆
- 关键词：温度场
- Si_3N_4陶瓷轴承NCD涂层制备中的温度场模拟
- 2009年
- 纳米金刚石(NCD)薄膜涂层由于优异的力学和摩擦学性能,是一种理想的轴承涂层材料。在用HFCVD方法制备NCD涂层的过程中,衬底温度是重要参数之一。首先设计了一种适合轴承内外圈NCD涂层制备的热丝夹持装置,其次分析了HFCVD系统的热交换过程,并建立了相应的衬底温度场的三维有限元模型。在此模型基础上具体讨论了热丝数目、温度、热丝到衬底距离等因素对衬底温度大小及均匀性的影响。结果表明,由于衬底相对尺寸较小并且考虑了衬底内部的热传导,各参数的变化对衬底温度大小有明显影响,但对衬底温度均匀性影响不大。结果为轴承NCD涂层的制备提供了理论基础。
- 杨春卢文壮左敦稳徐锋任卫涛
- 关键词：陶瓷轴承热丝法温度场
- 栅极偏压对纳米金刚石薄膜沉积过程的影响(英文)
- 2007年
- 在HFCVD系统中施加栅极偏压和衬底偏压,采用双偏压成核和栅极偏压生长的方法成功制备了高质量的纳米金刚石薄膜。采用显微Raman高分辨率SEM和AFM等现代理化分析手段分析纳米金刚石膜的微结构,结果表明双偏压显著促进了金刚石的成核密度,平均晶粒尺寸在20nm以内。试验观察和理论分析表明栅极偏压促进了热丝附近的等离子体浓度,提高了衬底附近的碳氢基团和氢原子浓度,提高了金刚石的成核密度、在保持晶粒的纳米尺寸的同时保持了较高的成膜质量和较低的生长缺陷。
- 徐锋左敦稳卢文壮王珉
- 关键词：纳米金刚石薄膜成核
- EACVD摆动衬底空间流场有限元模拟研究
- 2010年
- 根据EACVD系统的实际几何特点和工艺参数建立了该系统的三维流场有限元模型,研究了衬底温度及摆动周期、热丝参数、进气口参数对衬底表面流场均匀性的影响。结果表明:衬底低速摆动情况下摆动周期的变化对衬底表面流场的分布没有影响,衬底温度,热丝参数,进气口参数对衬底表面流场都有一定的影响,其中,热丝的排列方式以及进气口气体流量对衬底表面流场的影响最大。最后,采用一组优化的沉积参数进行金刚石膜衬底表面流场的仿真计算,结果表明:采用优化的沉积参数可以使衬底表面气体流速和流场的均匀性都得到很大提高,此研究结果为制备高质量金刚石膜提供理论依据。
- 王鸿翔左敦稳卢文壮徐峰陈拥军
- 关键词：EACVD金刚石膜流场有限元模拟
- B掺杂CVD金刚石厚膜的应力研究被引量：3
- 2008年
- 在HFCVD系统中采用B2O3作为掺杂源制备了B掺杂CVD金刚石厚膜,利用X-射线衍射仪研究了B掺杂对CVD金刚石厚膜应力的影响。结果显示,B元素的掺杂改变了金刚石膜的成分和结构,膜中非晶态碳含量随着掺杂浓度的增加而增加。在低掺杂时CVD金刚石厚膜成核面上的应力状态为压应力,在高掺杂时应力状态为张应力,张应力值随着掺杂浓度的增加而增加。掺杂CVD金刚石厚膜生长面的应力为张应力,在高掺杂时的张应力值较高。
- 卢文壮左敦稳徐锋王珉
- 关键词：应力B掺杂XRD
