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Simulation of droplet topography on superhydrophobic surface: 2013年; We established a novel droplet model (with-gravity model) to show the gravity effect of the droplet in the contact angle experiment.By using with-gravity model, we obtained a three-dimensional topography of the droplet including the height of the droplet, the shape of the baseline and the circumference of the baseline.Comparing the with-gravity model with the ideal spherical model, our model considered the measurement error caused by gravity effect in the contact angle experiment which is a key point to influence the three-dimension topography of the droplet.From the calculation of our model, we found that there were two important points to enhance the measurement error: the size of the droplet and the contact angle.With the droplet and the contact angle became larger, measurement error was obviously increased.; 胡德志WANG BoZHENG Yan-pingPEI Ming-de

氢等离子体处理对非晶氮化铝薄膜场发射性能的影响: 用氢等离子体(H Plasma)对非晶氮化铝(a-AlN)薄膜进行处理并研究了其场发射性能。实验表明:等离子体处理后薄膜表面粗糙度增大,但是场发射性能降低。当电场强度为70V/μm时,场发射电流密度从70.7μA/cm降...; 王峰瀛王如志赵维宋雪梅王波严辉; 关键词：场发射氮化铝; 文献传递

衬底温度对氧化锌薄膜场发射性能的影响被引量：2: 2008年; 利用射频磁控溅射法制备了不同衬底温度的氧化锌(ZnO)薄膜。研究了其场发射特性,分析了场发射特性和衬底温度的变化关系。实验结果表明,开启电场随着衬底温度的增加呈先增大后减小的趋势,场发射特性的变化是由于衬底温度的改变引起表面形貌的变化所致。衬底温度为300℃时沉积的ZnO薄膜样品粗糙度最小,场发射性能最差,其开启场强为1.7V/μm,场强为3.8V/μm时电流密度仅为0.00197A/cm2;衬底温度为400℃时沉积的ZnO薄膜样品表面粗糙度最大,场发射特性也优于其他薄膜;开启场强为0.82V/μm,场强为3.8V/μm时电流密度稳定在0.03A/cm2。Fowler-Nordheim(F-N)曲线为直线表明,电子是在外加电场的作用下隧穿表面势垒束缚发射到真空的。; 李军王如志王波严辉; 关键词：ZNO薄膜场发射衬底温度表面粗糙度

热蒸发沉积法制备多足状ZnO及其生长机理的研究被引量：1: 2007年; 利用热蒸发沉积方法，使用高纯Zn粉为原料（〉99．99％），在常压下，成功制备了多针状的znO微结构。当沉积气氛为纯氧气时，多针ZnO单支的直径尺寸在2μm左右，通过调整Ar和O2的比例，发现当蒸发源温度为800℃，气体流量控制在Ar：O2=0．5L／min：0．1L／min的时候，所制备的多足状ZnO的单支直径减小为400nm,采用XRD和SEM对样品进行了表征，并对形成这种多针状ZnO的生长机理进行了详细的讨论。; 谭天刘毅宋雪梅王波严辉; 关键词：热蒸发

利用低压氧化处理方法实现铜表面的超疏水改性被引量：2: 2010年; 通过化学反应和低气压氧化两步法,在不用低表面能有机物修饰的情况下,在铜表面成功制备了一层超疏水薄膜,其表面的接触角可达到151°,滚动角小于10°。用扫描电镜、接触角测量仪、X射线衍射仪、能谱分析等技术对超疏水表面进行了表征和分析。X射线衍射结合能谱分析表明,铜表面的花状结构为氢氧化铜,底层为氧化铜和未分解的氢氧化铜的混合组织。扫描电镜对铜表面形貌观察显示,该表面存在微米-纳米尺度双层复合结构:上层为花状结构,底层为纳米片状结构。研究显示双层的微纳复合结构和表面花状结构的分布密度是形成超疏水的关键因素。; 裴明德王波张雪红李耳宋雪梅严辉; 关键词：浸润性超疏水接触角

热氧化法制备透明超疏水ZnO薄膜: 高透明性的无机超疏水薄膜材料具有广阔的应用前景．采用磁控溅射法制备出表面具有纳米结构的金属 Zn 前驱体薄膜,并利用在低气压5Pa,温度350℃热氧化方法对其采取了处理,获得了接触角为151°, 可见光透过率达80％以上...; 刘毅谭天宋雪梅李耳王波严辉; 关键词：超疏水溅射热氧化; 文献传递

热蒸发沉积法制备多足状ZnO及其生长机理的研究: 利用热蒸发沉积方法,使用高纯 Zn 粉为原料 (＞99．99％),在常压下,成功制备了多针状的 ZnO 微结构．当沉积气氛为纯氧气时,多钟 ZnO 单支的直径尺寸在2μm 左右,通过调整 Ar 和 O的比例,发现当蒸发源...; 谭天刘毅宋雪梅王波严辉; 关键词：热蒸发; 文献传递

铜表面的纳米结构制备及其浸润性研究被引量：4: 2013年; 通过水热法在铜表面成功制备了一层具有纳米机构的超亲水薄膜,其表面的接触角可达到6°。随后用氟硅烷对其表面进行修饰,使表面由超亲水变成了超疏水,接触角达到了156°,滚动角小于10°。用扫描电镜、接触角测量仪、X射线衍射仪等技术对超疏水表面进行了表征和分析。X射线衍射分析表明,铜表面的片状结构为氧化铜。扫描电镜对铜表面形貌观察显示,温度、反应时间对表面的形貌影响比较大。片状结构之间的空隙和低表面的修饰是导致超疏水性能的主要原因。将铜超疏水表面放在不同高度的水底一段时间,取出后对其接触角进行测量,结果发现超疏水性能消失,接触角变小。; 裴明德王波张丽霞汤云辉严辉; 关键词：浸润性超疏水接触角

磁控溅射MoO_3半导体功能薄膜的制备与结构性能研究被引量：1: 2012年; 采用射频磁控溅射技术分别在Si(100)和玻璃衬底上通过调整不同的溅射功率和退火温度成功制备了MoO3薄膜。利用X射线衍射、扫描电镜、紫外可见光分光光度计、接触角测量等进行了表征和分析。X射线衍射表明400℃以上沉积的MoO3结晶薄膜属正交晶系,沿(0k0)(k=2n)取向择优生长,衍射峰强度和薄膜的结晶度随溅射功率的提高逐渐增强;利用扫描电镜观察表面形貌,发现结晶的薄膜表面发生了不同程度的变化,由初期均匀分布的纳米细长状颗粒长大成二维片状结构;紫外可见光分光光度计测试表明,薄膜在可见光区具有良好的光学透过性,平均透过率达60%以上;接触角测量发现薄膜呈明显亲水性,通过后续的表面氟化改性热处理,实现了薄膜亲水-疏水的润湿性能转换。; 刘云辉王波; 关键词：射频磁控溅射微结构接触角

超疏水非晶碳薄膜的制备及其润湿性能研究: ＜正＞浸润性是固体表面的重要特征之一,它是由表面的化学组成和微观几何结构共同决定。润湿性能的应用极其广泛,微电子工业,印刷工业,造纸工业,交通行业乃至新材料的合成制备以及医药, 生物芯片方面无不与润湿性能有着密切的关系。...; 李国星宋雪梅刘毅王波严辉; 关键词：超疏水接触角; 文献传递

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北京市自然科学基金(2062004)