国家重大科学仪器设备开发专项(2011YQ15004004)
- 作品数：3 被引量：7H指数：2
- 相关作者：黄元申张大伟丁卫涛杨海马王琦更多>>
- 相关机构：上海理工大学上海市现代光学系统重点实验室更多>>
- 发文基金：国家重大科学仪器设备开发专项国家自然科学基金国家科技支撑计划更多>>
- 相关领域：机械工程理学电子电信更多>>
- 可调谐型金属线栅偏振器的特性研究被引量：2
- 2013年
- 金属线栅偏振器是一种新兴的基于微纳结构的光学偏振器件,体积小、性能高、易集成.但在紫外和可见光波段,通过缩小线栅的特征尺寸来提高消光比的方法已经受到纳米制作工艺的限制,因此需要新的结构来提高其偏振特性.双层金属线栅结构仅在特定波段上提高器件的偏振特性.在此基础上,提出一种间距可调谐的金属线栅偏振器结构,通过调谐两层金属线栅之间的距离来确保偏振器极高的消光比和很强的透过率.利用VirtualLab软件的傅里叶模式方法,计算了可调谐型金属线栅偏振的透过率和消光比.数值仿真结果表明,双层可调谐型金属线栅结构在整个紫外、可见光波段极大地提高了透射光的消光比和透过率.
- 凌进中黄元申王中飞王琦张大伟庄松林
- 关键词：消光比压电陶瓷
- 中阶梯光栅刻划误差要求分析被引量：5
- 2013年
- 中阶梯光栅作为高色散和高分辨率光学器件,已经广泛的应用于大型光谱仪器之中。在中阶梯光栅的刻划过程中,存在刻划误差,这将严重影响光栅衍射性能,最终使得衍射效果产生缺陷。针对此情况,定量分析了中阶梯光栅的刻划误差对衍射光谱、衍射级次、波前误差、鬼线强度、杂散光强度的影响以及提出了一种从衍射效率角度分析刻划误差的方法。在满足一定条件下,求得上述因素对应的刻划误差分别为:1 265.8 nm、352 nm、37 nm、112 nm、3.4 nm。这对光栅刻划时限定刻划机的刻划精度提供了直接和重要的参考。
- 丁卫涛黄元申张大伟杨海马
- 关键词：刻划误差误差分析中阶梯光栅衍射效率
- 光栅刻划中工作台过冲现象的改善
- 2013年
- 在分度运动控制系统中以DMC2210控制卡为核心,采用光栅尺为分度运动反馈器件,实现了高精度的实时监测反馈。针对工作台"过冲"现象进行了两方面的分析优化:一方面,分析了步进电机减速方式对刻划效果的影响,通过分段减速初步改善了工作台"过冲"现象;另一方面,分析并模拟了弹簧(联接工作台和分度丝杠螺母)刚度对工作台"过冲"问题的影响,更换大刚度弹簧后,很大程度改善了工作台"过冲"现象。改进后对光栅刻线密度为79 g/mm的中阶梯光栅进行了多次刻划试验,计算的机器分度精度均在5 nm以内,选取其中一组较好的数据(机器分度精度为2.887 nm)与之前多次刻划试验中较好的一组数据(机器分度精度为7.759 nm)进行了比较,结果表明刻划机分度精度得到很大的提高。
- 王忠坦倪争技洪瑞金黄元申张大伟
- 关键词：光栅尺过冲弹簧刚度分度精度
