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国家自然科学基金(11104226)

作品数:7 被引量:17H指数:2
相关作者:温才唐金龙陈昭栋罗晓琴杨振萍更多>>
相关机构:西南科技大学中国科学院电子科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术理学电气工程更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇电气工程
  • 1篇理学

主题

  • 2篇电池
  • 2篇太阳能电池
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇电池温度
  • 1篇电压
  • 1篇短沟道
  • 1篇短沟道效应
  • 1篇多晶
  • 1篇多晶硅
  • 1篇多晶硅太阳能...
  • 1篇应力
  • 1篇增透
  • 1篇增透膜
  • 1篇真空蒸镀
  • 1篇输运
  • 1篇输运特性
  • 1篇水性
  • 1篇太阳能
  • 1篇亲水性

机构

  • 5篇西南科技大学
  • 2篇中国科学院
  • 1篇电子科技大学
  • 1篇天津工业大学

作者

  • 4篇温才
  • 2篇唐金龙
  • 1篇高怀举
  • 1篇邱荣
  • 1篇陈弘
  • 1篇刘德雄
  • 1篇田海涛
  • 1篇李晓红
  • 1篇杨振萍
  • 1篇罗晓琴
  • 1篇刘虹
  • 1篇段晓峰
  • 1篇胡思福
  • 1篇陈昭栋
  • 1篇李同彩
  • 1篇王禄
  • 1篇贺小庆
  • 1篇郭宝刚
  • 1篇寇采懿
  • 1篇蒋耀

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇功能材料
  • 1篇材料导报
  • 1篇发光学报
  • 1篇四川师范大学...
  • 1篇Scienc...

年份

  • 2篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 2篇2012
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
真空蒸镀氟化镁增透膜的厚度与均匀性控制被引量:1
2012年
基于光学增透膜与真空蒸发镀膜的基本原理,从MgF2原料状态、原料蒸镀质量、蒸发源与基片间距等方面,研究了热电阻和电子束蒸镀的MgF2薄膜厚度与其均匀性的控制工艺,以制备出高效的MgF2增透膜。结果表明:对于颗粒度较小或熔点较低的原料,热电阻比电子束蒸镀更易控制,并可避免原料污染;原料实际蒸镀质量与膜厚呈较好的线性关系;实际蒸镀质量相同的多晶颗粒与粉末状原料相比,前者蒸镀膜更厚;基片置于旋转工转盘中心比其侧部区域蒸镀膜更厚、均匀性更好。最后利用旋转球面夹具的小平面源蒸发模型很好地解释了上述实验结果。
温才令勇洲李文俊刘虹寇采懿蒋耀唐金龙
关键词:真空蒸镀厚度均匀性
The influence of environment temperatures on single crystalline and polycrystalline silicon solar cell performance被引量:6
2012年
The influence of the cell temperature (named interior environment temperature) and ambient air temperature (named exterior environment temperature) on the open-circuit voltage,short-circuit current,and output power has been carefully studied for the Si solar cells.The results show that one of the environment temperatures plays the major role,and the temperature dependence of device performance parameters is different for single crystalline and polycrystalline Si solar cells.Furthermore,the ambient air temperature builds a bridge for the comparison of the effect between the cell temperature and the illumination intensity on solar cell performance.Based on the experimental results,the reasons which cause the difference of the environment temperatures dependence are analyzed.
WEN CaiFU ChaoTANG JinLongLIU DeXiongHU SiFuXING ZhiGang
关键词:多晶硅太阳能电池温度依赖性空气温度开路电压电池温度
热线法测量材料的热扩散系数和热导率的研究被引量:6
2013年
热线法一般用于测量材料的热导率,给出一种数据处理方法,可以同时测量出材料的热扩散系数和热导率.用本方法进行的实际测量,与用其它方法获得的测量结果的一致性,表明了本方法是正确和可行的.从而扩展了热线法测量的应用范围,实现了热线法对热扩散系数的测量.在实际的科学研究和生产实践中,可以期望获得更广泛的运用.
罗晓琴杨振萍陈昭栋
关键词:热扩散系数热导率
InAs量子点引入应力对调制掺杂结构中二维电子气输运特性的影响(英文)
2014年
系统研究了在调制掺杂AlGaAs/GaAs异质结中嵌入InAs量子点后对二维电子气输运特性的影响。使用分子束外延设备生长了量子点层与二维电子气沟道距离(Tch)不同的3个样品,霍尔测试结果表明,二维电子气的电子迁移率和载流子浓度都随Tch的减小而降低。基于几何相位分析算法对部分样品的高分辨透射电镜图像进行了处理,得到了其应变分布图。结果表明,应变主要分布在量子点的周围,并延伸到了量子点的上方。该不均匀的应力场可能是除库伦散射外影响电子迁移率降低的另一个重要因素。
田海涛王禄温才石震武孙庆灵高怀举王文新陈弘
关键词:量子点二维电子气应力分子束外延
电子束蒸镀纳米TiO_2薄膜结构、相组成及亲水性研究被引量:2
2015年
利用电子束蒸镀技术在石英玻璃和单晶Si〈100〉上制备了纳米TiO2 薄膜,研究了衬底温度和退火温度对其结构、相组成和亲水性能的影响.结果表明,衬底温度为40-240℃时,石英玻璃上制备的薄膜为无定型TiO2,单晶Si〈100〉上制备的薄膜为弱结晶性的金红石TiO2,两类薄膜的亲水性均很差.退火温度显著影响薄膜的相组成及亲水性能.石英玻璃上不同衬底温度制备的TiO2 薄膜经550,650 ℃退火后均转变为锐钛矿TiO2,具有很好的亲水性能. 单晶Si〈100〉上不同衬底温度制备的TiO2 薄膜经550-950℃退火后,均由金红石和锐钛矿TiO2 混晶组成,且随退火温度升高,薄膜中锐钛矿TiO2 含量逐渐增加;随退火温度升高,衬底温度为40℃时制备的TiO2薄膜的亲水性能逐渐降低,而衬底温度为240 ℃时制备的TiO2 薄膜的亲水性能逐渐增强.
李同彩郭宝刚李同洪温才陈伟
关键词:TIO2相组成亲水性
飞秒纳秒脉冲激光微构造和掺杂单晶硅(英文)
2015年
在SF6气氛下,分别利用钛宝石飞秒脉冲激光与掺钕钇铝石榴石纳秒脉冲激光对单晶硅表面进行了微构造和重掺杂,以用于光伏材料。对制备的单晶硅表面微结构的形貌、结晶性和硫元素杂质含量与分布进行了研究。实验结果表明纳秒脉冲激光制备的单晶硅表面微结构的薄层电阻较小,缺陷密度较低(结晶性高),硫元素杂质含量较高且在表面分布的范围较广,深度较大(约1μm)。此外,材料的可见-近红外波段吸收率可接近80%。基于纳秒脉冲激光微构造的单晶硅的优异性能,在样品表面制备了有效光照面积达8cm2的太阳能电池。其中,最佳太阳能电池的串联电阻、开路电压、短路电流密度分别为0.5Ω,503mV,35mA/cm2,转换效率约12%。上述太阳能电池性能还可通过优化制备工艺进一步提高。
温才李晓红贺小庆段晓峰邱荣刘德雄唐金龙胡思福
关键词:飞秒脉冲激光微构造掺杂太阳能电池
Static characteristics and short channel effect in enhancement-mode AlN/GaN/AlN N-polar MISFET with self-aligned source/drain regions被引量:2
2014年
This paper aims to simulate the I–V static characteristic of the enhancement-mode(E-mode) Npolar GaN metal–insulator–semiconductor field effect transistor(MISFET) with self-aligned source/drain regions.Firstly, with SILVACO TCAD device simulation, the drain–source current as a function of the gate–source voltage is calculated and the dependence of the drain–source current on the drain–source voltage in the case of different gate–source voltages for the device with a 0.62 m gate length is investigated. Secondly, a comparison is made with the experimental report. Lastly, the transfer characteristic with different gate lengths and different buffer layers has been performed. The results show that the simulation is in accord with the experiment at the gate length of 0.62 m and the short channel effect becomes pronounced as gate length decreases. The E-mode will not be held below a100 nm gate length unless both transversal scaling and vertical scaling are being carried out simultaneously.
李斌魏岚温才
关键词:MISFET短沟道效应ALN
共1页<1>
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