宁波市自然科学基金(2009A610034)
- 作品数：2 被引量：7H指数：1
- 相关作者：孙丽丽汪爱英张栋成浩杨会生更多>>
- 相关机构：中国科学院宁波材料技术与工程研究所北京科技大学更多>>
- 发文基金：宁波市自然科学基金浙江省重大科技专项基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 占空比对中频磁控溅射(Al,Ti)N周期性多层膜组织与性能的影响
- 2011年
- 采用LABVIEW软件控制N2气体流量,辅助中频磁控溅射制备不同占空比的(Al,Ti)N周期性多层膜,分别利用X射线衍射仪、场发射扫描电镜、纳米硬度仪研究了(Al,Ti)N周期性多层膜的组织结构和力学性能,研究表明:不同占空比下的薄膜只存在面心立方结构,多层膜具有一定的择优取向,择优取向随着占空比的改变而变化,当占空比为50%时,薄膜中存在(111)和(220)两种取向;多层的结构可以提高薄膜的结合强度和力学性能,获得的多层膜硬度最高为33.58GPa,临界载荷在40N左右,磨损情况也得到了明显的提高,主要是以粘合磨损为主;氮流量的增加有利于多层膜的性能改善。
- 孙丽丽杨会生成浩汪爱英
- 关键词：中频磁控溅射
- 偏压对反应磁控溅射TiN薄膜结构以及性能的影响被引量：7
- 2011年
- 本文采用直流反应磁控溅射技术,以Ar和N2为反应前驱气体制备了TiN功能装饰薄膜。重点研究了衬底负偏压对沉积TiN薄膜的色泽、性能及微结构的影响。采用台阶轮廓仪、X射线衍射仪、EDS能谱仪、纳米压痕仪等分析了薄膜的粗糙度、晶相、组分、纳米硬度以及弹性模量。结果表明,采用适宜的衬底负偏压调控轰击离子能量,能够有效阻止薄膜结构中空位以及缺陷的产生,从而有效避免薄膜表面的紫黑色氧化钛的生成,有利于表面光滑的金黄色TiN薄膜制备,同时使薄膜具备更优异的力学性能。实验结果还表明基体偏压可显著影响TiN薄膜的择优生长取向:随偏压增加,薄膜由(111)晶相择优生长转变为(200)晶相的择优生长,(200)晶相的薄膜比(111)晶相薄膜具有更佳的力学性能。
- 张栋孙丽丽汪爱英
- 关键词：TIN反应磁控溅射偏压
